基板位置对准装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种不使用ＸＹθ平台而精密地对准位置的基板位置对准装置。本发明专利技术的基板位置对准装置中，作为在２个基板（Ａ，Ｂ）相互维持平行的状态下，将上下保持板（１，２）中的一个相对于另一个向ＸＹθ方向自由地支撑调整移动的机构，从上下保持板（１，２）中的一个，向真空室（Ｓ）的顶板壁（３）或底板壁（４）设置摆动连杆导向机构（６），将该摆动连杆导向机构（６）由ＸＹθ方向移动机构（５）向ＸＹθ方向摆动，从而使上下保持板（１，２）中的一个相对于另一个向ＸＹθ方向调整移动，从而在ＸＹθ方向对上基板（Ａ）和下基板（Ｂ）相互对准位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种基板贴合机的基板位置对准装置，特别涉及可对应于大型基板的基板位置对准装置，例如在液晶显示器(LCD)或等离子显示器(PDP)等平面显示器(flat panel display)的制造过程中，将用于其过程中的2个基板相对地向XYθ方向对准位置后，把这些基板相互重叠密封，之后，通过上下2个基板内外产生的气压差，将2个基板之间加压至规定间隔。具体地说，本专利技术涉及一种基板位置对准装置，该基板位置对准装置使在真空室内相贴合的2个基板，在上下保持板上分别维持装卸自由而对向，将此2个基板在真空中相对地向XYθ方向调整移动，而进行各基板相互间的位置对准。
技术介绍
以往，作为这种基板位置对准装置，存在具有如下结构的类型。在侧面开设有上下基板的出入口的真空室的内部中，备有上保持板(上部台)和下保持板(下部台)，下保持板的台座部贯通在该真空室的底板壁开设的贯通孔(开孔部)中，通过该台座部，下保持板被XYθ平台支撑，该XYθ平台，由通过驱动马达向XY方向可移动支撑的XY平台和，在该XY平台的内侧，通过旋转轴承和真空密封，由驱动马达的作用可相对XY平台旋转的θ平台构成，将这些下保持板的台座部和真空室的贯通孔，以皱纹状弹性体等弹性密封构件气密结合。(例如，参照专利文献1)而且，还有具有如下结构基板位置对准装置。为了使上下基板出入，在侧面开设有开闭自由的开口部的真空室的内部中，备有上保持板(上部台)和下保持板(下部台)，在该真空室的底板壁开设的多个贯通孔(第一开口部)中，分别插通轴(第一轴)，将两者之间以皱纹状弹性体等弹性密封构件维持气密，同时，通过这些轴连结下保持板和XYθ平台(移动台)，从而该下保持板与2个基板的贴合面平行地向XYθ方向可自由调整移动地被支撑，上述真空室内达到所需的真空压后，由布置在真空室外的Z方向移动机构的驱动而使上下保持板相对接近，接着，由上述XYθ平台的驱动，通过各轴及下保持板，两个基板相对地向XYθ方向被对准位置，之后，将真空室内恢复成大气压，使2个基板之间有大气压起作用，而更加加压2个基板。(例如，参照专利文献2)日本专利公开公报2001-305563号(第3-4页，图3，图6，图7)日本专利公开公报2002-229042号(第3-6页，图1至图5)但是，这些以往的基板位置对准装置，使用XYθ平台作为用于使各基板对准位置的XYθ方向移动机构，但是，现存的XYθ平台，一般是为了基本向XYθ方向移动mm单位以上而设计的，尤其在基板的位置对准那样仅数百μm以下的微弱的移动量的情况下，旋转轴承的旋转体连1次旋转量也达不到，各基板的位置对准反复数百μm以下的微弱的移动，这时，由于断油滑动部会被磨损，从而在短时间内会丧失精密的控制性所不可或缺的高再现性的顺利的响应性，其实用性很低。但是，近年来随着基板的尺寸越来越大型化的趋势，也开始制造一边超过1000mm的基板，虽然基板尺寸变得大型化，但是，跟小型基板一样，也要求精密的位置对准，特别是对于一边为1000mm以上的大型基板，进行对准位置时，向XYθ方向移动的量不会超过数百μm。在这种环境下，对于将一边超过1000mm的大型基板向XYθ方向调整移动的装置，随着基板尺寸的大型化，整个装置也变大，有可能不能以完成的状态，装载在货车上。此时，只有分离拆卸才能以货车运送，运送费用增加，而且由于出厂时需要进行分解工作或在设置现场进行组装工作，因此，有操作精度降低的可能性，同时，还需要设置完毕为止所需的时间，选择装置时，这些就成为致命的缺点。但是，上述XYθ平台，由于其结构大，而整个装置成大型化，同时重量也增加，从而制造费用及运送费用提高，并且最近随着基板的大型化趋势，整个装置的大型化日趋发展，因而上述问题就越来越明显。而且，由于真空室的底板壁和贯通该底板壁的可动部件之间夹装皱纹状弹性体等弹性密封构件而维持真空室内的真空状态，因此，真空隔断就需要费用，而且为了提高其密封度，而使真空密封的表面强力密接于可动部件上，则阻力负荷增大，调整移动就需要相当大的力量，因此就需要输出大的调整位置用驱动源，如此，其驱动方式有较多的限制。并且，在这种状态下，如上所述，为了进行各基板相互间的位置对准，使上述可动部件以微米单位或亚微米单位调整移动时，随之，虽然弹性密封构件暂时弹性变形，但调整移动后，又将恢复原来的形状。即，在调整阶段，即使使各基板相互间正确地对准位置，但由于弹性密封构件具有的要恢复变形前的形状的弹性力，在各基板相互间的位置对准发生异常，从而具有不能进行正确的位置对准的缺点。而且，由于不能分割开闭整个真空室，所以，难以进行向真空室内的基板出入，而且也难以进行真空室内部的维修。
技术实现思路
本专利技术中，技术分案1所述的专利技术，其目的在于，不使用XYθ平台，而进行精密的位置对准。技术方案2所述的专利技术，在技术方案1所述的目的的基础上，其目的在于，将可动的上下保持板中的一个以简单的结构向XYθ方向可调整地平面支撑。技术方案3所述的专利技术，在技术方案1所述的目的的基础上，其目的在于，将可动的上下保持板中的一个以简单的结构向XYθ方向圆滑地可调整地平面支撑。技术方案4所述的专利技术，在技术方案1所述的目的的基础上，其目的在于，去除真空贯通部件。技术方案5所述的专利技术，在技术方案1、2或3所述的目的的基础上，其目的在于，紧凑地设计真空室。技术方案6所述的专利技术，在技术方案1、2、3、4或5所述的目的的基础上，其目的在于，不增加真空贯通部件，而以简单的结构，调整各基板，使其间隔成为最适合对准位置的间隔。为了达到上述目的，本专利技术的最大特征在于在真空室内的上下保持板中，为了实施位置对准而将可动的一侧的保持板以“摆动连杆导向机构”支撑。该“摆动连杆导向机构”，如在后述的例中可以了解的那样，是像秋千一样摆动连杆机构，本质上为圆弧运动，但在非常微小的范围内，以实用上没有问题的精密度，近似地实现二维平面导向(轴承)，与以往的XYθ各独立的转动为主体的导向相比，可以得到非常优秀的响应性和控制性。上述机构也可以构成为把秋千倒挂、从下往上直立的方式。并且，“摆动连杆导向机构”，除此之外还包括连杆的一部分弹性变化而实现二维平面导向的机构。而且，该保持板的驱动，对应于这样的二维平面导向，以二维3点变位驱动凸轮方式实施为最理想。即，本专利技术中技术方案1所述的专利技术，其特征在于，将上述摆动连杆导向机构设置于真空室的上部或下部。设置于真空室上部时，从真空室的顶板壁悬挂摆动连杆导向机构，设置于真空室下部时，从真空室的底板壁直立摆动连杆导向机构。详细地说明，其特征在于，作为在2个基板相互间维持平行的状态下，将上下保持板中的一个对于另一个向XYθ方向可自由调整移动地支撑的机构，从上下保持板中的一个，向真空室的顶板壁或底板壁设置摆动连杆导向机构，将该摆动连杆导向机构由XYθ方向移动机构向XYθ方向摆动，从而使上下保持板中的一个相对于另一个向XYθ方向调整移动。技术方案2所述的专利技术，其特征在于，将技术方案1所述的上述摆动连杆导向机构在真空室的外部设置多个，支撑上保持板或下保持板。设置于真空室上部时，从真空室的顶板壁直立大致平行的链接机构，支撑上保持板；设置于真空室下部时，从真空室的底板壁悬挂大致平行的链接机构，支撑下保持板。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板位置对准装置，将在真空室（Ｓ）内相贴合的２个基板（Ａ，Ｂ），分别装卸自由地保持在上下保持板（１，２）上并使它们相对，将此２个基板（Ａ，Ｂ）相对地向ＸＹθ方向调整移动，进行各基板（Ａ，Ｂ）相互间的位置对准，其特征在于：作为在２个基板（Ａ，Ｂ）相互间维持平行的状态下，将上述上下保持板（１，２）中的一个相对于另一个向ＸＹθ方向可自由调整移动地支撑的机构，从上下保持板（１，２）中的一个，向真空室（Ｓ）的顶板壁（３）或底板壁（４）设置摆动连杆导向机构（６），将该摆动连杆导向机构（６）由ＸＹθ方向移动机构（５）向ＸＹθ方向摆动，从而使上下保持板（１，２）中的一个相对于另一个向ＸＹθ方向调整移动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：横田明义，石坂一朗，大岛秀树，关川利夫，竹节宪之，
申请(专利权)人：信越工程株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]