光刻设备和器件制造方法技术

提供一种光刻设备，其使用单独可控元件阵列图案化辐射束。通过调整提供给单独可控元件的图案数来补偿工艺变化，使用该设备图案化的衬底的临界尺寸均匀性得到改善。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光刻设备和一种器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是一种施加所需图案到衬底目标部分上的机器。例如，光刻设备可用于制作集成电路(IC)、平板显示器、及其它涉及精细结构的器件。在常规的光刻设备中，图案化装置，或者称作掩模或光刻版，可用于产生对应于IC(或其它器件)的单个层的电路图案，且该图案能成像在衬底(例如，硅晶片或玻璃基板)的目标部分上(例如，包含一个或几个芯片的部分)，该衬底具有辐射敏感材料(例如抗蚀剂)层。代替掩模，构图装置可以包括产生电路图案的单独可控元件的阵列。通常，单个衬底包含连续被曝光的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包含步进机，其中通过一次曝光整个图案到目标部分上辐射各个目标部分；和扫描仪，其中通过沿给定的方向(“扫描”方向)通过射束扫描图案来辐射各个目标部分，同时在平行或反平行该方向上同步扫描衬底。在曝光处理之前，衬底可以经过各种处理。例如，在曝光前，衬底通常可以用抗蚀剂处理。同样，在曝光前，衬底可以经过清洗、蚀刻、离子注入法(如掺杂)、金属化、氧化、化学机械抛光、涂底料(priming)、涂抗蚀剂、软烘烤处理、和/或测量处理。衬底也可以经过各种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻设备包含：照明系统，其提供辐射束；图案化射束的单独可控元件的阵列；投影系统，其将图案化的射束投影到衬底的目标部分上；控制器，其使用（ａ）对应于要曝光到衬底上的图案的预定图案数据，及（ｂ）对应于至少一个 衬底处理条件的处理条件数据，控制使用单独可控元件阵列形成的图案。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：AJ布里克，WT特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]