ZMO靶材及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种ZMO靶材及其制备方法。ZMO靶材的制备方法包括如下步骤：将ZnO粉末、MgO粉末、Al

【技术实现步骤摘要】
ZMO靶材及其制备方法
本专利技术涉及靶材
，特别是涉及一种ZMO靶材及其制备方法。
技术介绍
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。磁控溅射镀膜因具有低温和快速两大优点而被广泛应用，溅射镀膜对使用的靶材要求是晶粒细小且无组织缺陷。氧化锌镁合金(ZnMgO，简写为ZMO)靶材是一种常用的溅射靶材。传统的制备ZMO靶材的方法例如：采用掺杂ⅢA族元素，通过冷等静压及高温烧结的制造方法，此方法设备昂贵、成本较高，难以实现大批量工厂化生产；也有采用常压固相烧结制备ZMO的方法，此方法烧结温度较高，对烧结炉设备要求很高，生产效率也不高。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种制备工艺简单且效率较高的ZMO靶材及其制备方法。一种ZMO靶材的制备方法，包括如下步骤：将ZnO粉末、MgO粉末、Al2O3粉末、分散剂、粘接剂和水混合均匀，研磨后得到浆料；将所述浆料进行喷雾造粒，得到ZMO粉体；将所述ZMO粉体进行烧结，得到ZMO烧结粉体；在保护气体氛本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种ZMO靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/n将ZnO粉末、MgO粉末、Al

【技术特征摘要】
1.一种ZMO靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
将ZnO粉末、MgO粉末、Al2O3粉末、分散剂、粘接剂和水混合均匀，研磨后得到浆料；
将所述浆料进行喷雾造粒，得到ZMO粉体；
将所述ZMO粉体进行烧结，得到ZMO烧结粉体；
在保护气体氛围下，将所述ZMO烧结粉体热喷涂于背靶上，得到ZMO靶坯；以及
将所述ZMO靶坯进行抛光和加工处理，得到ZMO靶材。


2.根据权利要求1所述的ZMO靶材的制备方法，其特征在于，所述ZnO粉末、所述MgO粉末、所述Al2O3粉末、所述分散剂、所述粘接剂与所述水的质量比为(80～85)：(15～20)：(0.1～1)：(0.5～5)：(0.5～5)：(90～99)。


3.根据权利要求1所述的ZMO靶材的制备方法，其特征在于，所述研磨的操作为：进行两次球磨，第一次球磨的转速为200r/min～300r/min，第一次球磨的时间为9h～10h；第二次球磨的转速为150r/min～200r/min，第一次球磨的时间为1h～2h。


4.根据权利要求1所述的ZMO靶材的制备方法，其特征在于，所述喷雾造粒的温度为200℃～300...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉玲，甘志俭，
申请(专利权)人：基迈克材料科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32