一种用于X射线管阳极靶的金属涂层及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种用于X射线管阳极靶的金属涂层及其制备方法，以W、Cr、Mo或Ag为金属靶，通过改进磁控溅射工艺，在铜基底上沉积得厚度25～40μm的金属涂层，所制备的金属涂层与基底结合力可超过100N，且涂层致密、均匀性好，可作为激发X射线的阴极射线管中阳极靶使用。

【技术实现步骤摘要】
一种用于X射线管阳极靶的金属涂层及其制备方法
本专利技术属于金属表面处理
，涉及X射线管用阳极靶表面改性处理，具体涉及一种用于X射线管阳极靶的金属涂层及其制备方法。
技术介绍
近几十年，随着X射线检测技术的发展与进步，其应用领域得到极大的拓展。X射线被广泛应用于医学影像、材料微结构与成分分析、工业无损检测以及公共安全检测等领域。X射线管为X射线系统中的核心部件，而阳极靶作为X射线管中产生射线的关键源，直接影响系统的安全、稳定和工作效率。由于X射线管应用的环境差异，要求能提供不同波长的X射线。因此，针对不同的要求，需要阳极靶采用不同材质。除此之外，由于某些高功率应用的能量要求，阳极靶材还需具有高温强度高、抗热冲击性能好、散热快等特点。实际应用中，常采用不同的单质块体材料作为阳极靶材，如Cu、Fe、Cr、W、Mo、Ag、Mn等常见的金属单质。块体阳极靶材主要存在以下两方面问题：(1)难熔金属的制备和机械加工难度大，如Cr、W和Mo存在熔点高、脆性大问题等；(2)靶材与管身异种材质的连接技术要求高，如常见的Fe、W、Mo、Mn与Cu管身本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于X射线管阳极靶的金属涂层制备方法，其特征在于包括以下步骤：/n(1)预处理/n对铜基底依次进行抛光和清洗，以去除铜基底表面氧化物和吸附物，并干燥备用；/n(2)偏压反溅射清洗/n将步骤(1)干燥后的铜基底置于磁控溅射设备的真空炉腔内，抽真空至不大于2×10

【技术特征摘要】
1.一种用于X射线管阳极靶的金属涂层制备方法，其特征在于包括以下步骤：
(1)预处理
对铜基底依次进行抛光和清洗，以去除铜基底表面氧化物和吸附物，并干燥备用；
(2)偏压反溅射清洗
将步骤(1)干燥后的铜基底置于磁控溅射设备的真空炉腔内，抽真空至不大于2×10-4Pa，在氩气气氛下，采用偏压反溅射清洗以去除铜基底表面氧化物或/和吸附杂质；
(3)靶材预溅射
在氩气气氛下，对金属靶材进行预溅射，以去除靶材表面氧化物或/和吸附杂质；
(4)沉积金属涂层
保持步骤(3)氩气气氛下，于溅射功率为200～300W、靶基距5～6cm、沉积温度150～400℃的条件下对金属靶材进行溅射，至沉积于铜基底表面的金属涂层达到设定厚度，溅射过程中，控制单次沉积厚度为2～10μm后中断沉积10～20min，所述金属涂层厚度大于25μm；
(5)去应力和矫正变形后处理
铜基底表面经金属涂层沉积完成后，抽真空至不大于4×10-4Pa，之后于沉积温度条件下静置2～4h，继后随炉冷却至100℃以下，再关闭真空系统，并至少静置12h，即可完成对铜基底表面金属涂层的去应力和矫正变形处理，得到用于X射线管阳极靶的金属涂层。


2.根据权利要求1所述的用于X射线管阳极靶的金属涂层制备方法，其特征在于步骤(1)中，对铜基底表面进行机械抛光，抛光后先后分别采用丙酮、酒精清洗10～20min。


3.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：常鸿，刘春海，王用文，杨弘毅，
申请(专利权)人：成都齐兴真空镀膜技术有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51