一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的绑定装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的绑定装置，包括支架，支架上转动连接有背板，两个转轴分别定义为第一转轴、第二转轴，背板两侧外壁上设有靶材，背板内设有液体通道，第一转轴及第二转轴上设有分别与液体通道两端连通的盲孔，第一转轴及第二转轴上的盲孔各转动连接有旋转接头，背板通过限制组件限制其绕第一转轴或第二转轴的轴向转动。本实用新型专利技术的有益效果：通过在背板内部开设蛇形的液体通道，这样外部的冷却液输送设备将冷却液由其中一个旋转接头输送至液体通道内，再由另一个旋转接头回流至冷却液输送设备内，这样使得冷却液在液体通道内成循环状态，相对现有技术，提高了冷却液对背板的制冷效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的绑定装置
本技术涉及真空磁控溅射镀膜设备
，具体涉及一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的绑定装置。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等，真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。真空镀膜作业时，需要对靶材进行迅速冷却，便于靶材原子快速均匀地沉积在基板上，为了保证靶材的快速冷却，目前主要是在靶材安装的背板上放置水管或冷凝管，通过冷凝管或水管中的冷却水循环流动，将背板表面的热量带走，进而提高靶材的冷却效率，但是由于水管或冷凝管与背板的接触面积有限，因而导致背板冷却效率亟待提升，另外现有的背板一般是固定安装在真空镀膜设备内的，这样就导致了背板只有一个表面能够绑定靶材，在当靶材消耗完毕，需要消耗较长时间来更换靶材，同时生产进度比较紧张时，导致了生产效率的低下。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中存在的问题，提供一种用于真空磁控本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的绑定装置，其特征在于,包括两个安装在外部真空磁控溅射镀膜设备内的支架(5)，两个所述支架(5)上各通过安装两个转轴共同水平转动连接有背板(3)，两个所述转轴分别定义为第一转轴(2)、第二转轴(6)，所述背板(3)厚度方向两侧外壁上均设有靶材(4)，所述背板(3)内设有成蛇形的液体通道(10)，所述第一转轴(2)及第二转轴(6)上设有分别与液体通道(10)两端连通的盲孔，所述第一转轴(2)及第二转轴(6)上的盲孔各转动连接有旋转接头(1)，两个所述旋转接头(1)分别与外部冷却液输送设备的进水口及出水口连通，所述背板(3)通过限制组件限制其绕第一转轴(2)或第二转...

【技术特征摘要】
1.一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的绑定装置，其特征在于,包括两个安装在外部真空磁控溅射镀膜设备内的支架(5)，两个所述支架(5)上各通过安装两个转轴共同水平转动连接有背板(3)，两个所述转轴分别定义为第一转轴(2)、第二转轴(6)，所述背板(3)厚度方向两侧外壁上均设有靶材(4)，所述背板(3)内设有成蛇形的液体通道(10)，所述第一转轴(2)及第二转轴(6)上设有分别与液体通道(10)两端连通的盲孔，所述第一转轴(2)及第二转轴(6)上的盲孔各转动连接有旋转接头(1)，两个所述旋转接头(1)分别与外部冷却液输送设备的进水口及出水口连通，所述背板(3)通过限制组件限制其绕第一转轴(2)或第二转轴(6)的轴向转动。


2.根据权利要求1所述的一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的绑定装置，其特征在于，所述背板(3)整体由黄铜材质制成。


3.根据权利要求1所述的一种用于真空磁控溅射镀膜靶材的绑定装置，其特征在于，所述限制组件包括间隙套装在第二转轴(6)穿出支架(5)一端上的第一限制环(14)，所述第一限制环(14)端面与支架(5)固接，所述第二转轴(6)远离支架(5)一端套设有固定环...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐伟，肖秀梅，
申请(专利权)人：深圳市端天科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44