本发明专利技术提供一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，包括以下步骤：步骤S1：选择低温镀膜室，低温镀膜室内设置有SiOx镀膜区以及ITO镀膜区，其中x为常数，且0≦x≦2，将PET基材放入放卷室内；步骤S2：向SiOx镀膜区通入一定量的氩气，采用电压控制模式，向ITO镀膜区分别通入氩气和氧气的混合气体，并通过气体反应控制器控制氧气通入量，控制氧气通入量在气体总通入量中的占比为1.5～5％，步骤S3：将PET基材在低温镀膜室的放卷室内依次经过SiOx镀膜区、ITO镀膜区；步骤S4：对镀膜完成后的PET基材进行收取，本发明专利技术通过控制合适的镀膜速度、控制氧气通入量在气体总通入量中的占比、ITO靶溅射功率和ITO靶材中In2O3和SnO2的比例，缩短加热老化时间。缩短加热老化时间。缩短加热老化时间。
【技术实现步骤摘要】
一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺
[0001]本专利技术涉及电容膜镀膜
，尤其涉及一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺。
技术介绍
[0002]镀膜：当光线进入不同传递物质时(如由空气进入玻璃)，大约有5％会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30％至40％。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5％，多层增透膜则可让反射降低至0.25％，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95％。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色，在ITO电容膜镀膜过程中需要利用低温喷溅技术。
[0003]低温磁控溅射技术是一种当下大规模应用于生产的镀膜技术，低温磁控溅射具有成膜速率高，基片温度低，可实现大面积镀膜等优点，因此多数柔性导电膜是用此种技术生产的，但是，运用低温磁控溅射技术生产出来的膜存在着膜质松散、电阻均匀性与稳定性较差的缺点。
[0004]现有技术中，当下filmsensor触控膜功能片主要应用于手机、工控等领域，市场前景广阔，ITO电容膜是filmsensor的主要关键材料。因低温磁控溅射镀的ITO电容膜为非结晶膜，电阻稳定性差，现有成熟的低温磁控溅射技术镀的ITO电容膜为非结晶型，稳定性差，目前处理方式是增加一道加热老化工序，需在130～150℃温度下，加热老化1个小时后，达到结晶型的ITO电容膜，电阻基本稳定，以满足客户使用要求，增大加热老化的时间，降低电容膜镀膜的生产效率，因此本专利技术提出了一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺。
技术实现思路
[0005]针对现有技术存在的不足，本专利技术目的是提供一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，本专利技术通过控制合适的镀膜速度、控制氧气通入量在气体总通入量中的占比、ITO靶溅射功率和ITO靶材中In2O3和SnO2的比例，在老化温度不变的前提下，缩短加热老化时间，达到满足客户要求的ITO电容膜。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，包括以下步骤：
[0007]步骤S1：选择低温镀膜室，低温镀膜室内设置有SiOx镀膜区以及ITO镀膜区，其中x为常数，且0≦x≦2，将PET基材放入放卷室内；
[0008]步骤S2：向SiOx镀膜区通入一定量的氩气，采用电压控制模式，设定SiOx镀膜区功率在10～30kw之间，ITO镀膜区功率在6～20kw之间，向ITO镀膜区分别通入氩气和氧气的混合气体，并通过气体反应控制器控制氧气通入量，控制氧气通入量在气体总通入量中的占比为1.5～5％，即O2/(Ar+O2)＝1.5～5％；
[0009]步骤S3：将PET基材在低温镀膜室的放卷室内依次经过SiOx镀膜区、ITO镀膜区，在SiOx镀膜区、ITO镀膜区移动速度在1.5～6m/min；
[0010]步骤S4：对镀膜完成后的PET基材进行收取。
[0011]进一步地，所述步骤S1中，PET基材为透明PET膜或带有IM涂层的PET膜等透明塑料薄膜基材，PET基材厚度在5μm～200μm之间。
[0012]进一步地，所述在SiOx镀膜区和ITO镀膜区均设置有ITO靶材，ITO靶材由In2O3和SnO2构成，其中In2O3占总体比例在90～97％之间，SnO2占总体比例在10～3％之间。
[0013]进一步地，所述步骤S1中，低温镀膜室外部设置有放卷室以及收卷室，所述放卷室和收卷室内部均安装有用于PET基材进行传动的导向辊，所述收卷室内设置有用于对PET基材进行收集的收卷辊，低温镀膜室内安装有用于对PET基材进行导向的导向辊以及主辊，收卷室内设置有用于带动收卷辊转动传动件，传动件带动收卷辊转动，收卷辊对PET基材产生拉力，使PET基材顺着导向辊移动。
[0014]进一步地，所述传动件为微型电机，收卷辊由收卷套与传动轴构成，所述传动轴与微型电机相连，所述传动轴与收卷套卡接连接，所述微型电机为PLC控制器相连，PLC控制器型号：S7
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200。
[0015]进一步地，所述收卷室设置有用于PET基膜校正的校正件，所述校正件包括传动架、固定架以及传动校准膜，所述传动架和固定架内部均设置有可沿其内部上下移动的升降导轴，升降导轴上安装有导膜轮，传动架和固定架内部均安装有校准膜卷辊，校准膜卷辊上缠绕有绕过两组导膜轮的传动校准膜，所述传动架和固定架内侧安装有压力传感器，所述传动校准膜一端缠绕在传动架内部的校准膜卷辊上，另一端缠绕在固定架内侧校准膜卷辊上。
[0016]进一步地，所述传动架内部安装有第一校准马达，所述第一校准马达与传动架内部的校准膜卷辊相连，所述固定架内部安装有第二校准马达，第二校准马达与固定架内部的校准膜卷辊相连，所述第一传动马达和第二传动马达均连接有PLC控制器，所述压力传感器数据连接有PLC控制器。
[0017]进一步地，所述升降导轴两端设置有开设在固定架和传动架内部的支撑槽，所述升降导轴可沿所述支撑槽上下滑动，所述支撑槽内部安装有支撑弹簧，所述支撑弹簧顶部与升降导轴两端相连，升降导轴连接端设置有连接头，所述升降导轴通过轴承与连接头转动连接，连接头表面开设有与支撑弹簧相连的嵌入槽，所述升降导轴上设置有用于推动其向下移动的弧形贴合架，所述弧形贴合架内螺纹连接有升降螺杆，一组所述升降螺杆穿过固定架安装有带轮，另一组所述升降螺杆与安装在传动架的传动马达相连，所述传动架上固定有安装台，所述传动马达安装在安装台内部，所述传动马达上安装有带轮，两组带轮之间通过皮带相连，所述传动马达与PLC控制器相连。
[0018]进一步地，所述弧形贴合架与导膜轮连接处设置为与其贴合的弧形面，弧形面上设置有滑动导轮，所述滑动导轮内部设置为弹性结构，滑动导轮表面为橡胶材料制成，内部填充有膨胀棉，表面贴合处设置为光滑结构。
[0019]进一步地，步骤S2中，在低温镀膜室上设置有连接有位于SiOx镀膜区和ITO镀膜区的单向阀，单向阀进气口与用于通入低温镀膜室内的喷嘴密封连接，氩气的流量控制可以通过以下公式计算：
[0020]气体流量Q根据喷嘴直径D选择，得出以下公式：Q＝(0.8～1.2)D，
[0021]其中，D较小Q取下限,D较大Q取上限；
[0022]喷嘴直径根据钨极直径选择：D＝2d+4，喷嘴直径选定后，调节氩气流量。
[0023]钨极直径是指关系到焊接电流的允许使用值，焊接时，所选用的电流超过这个许用值，钨极就会发热、熔化或挥发，引起电弧不稳定和焊缝夹钨。
[0024]喷嘴是焊枪的气体保护来源，喷嘴形状对气流运动的影响很大，常用的喷嘴形状有圆柱形和圆锥形两种。
[0025]进一步地，所述步骤S4中，镀膜完成后PET基材表面SiOx膜层为0.5～100nm，PET基材表面ITO膜层为10～50nm。
[0026]本专利技术的有益效果：
[0027]1.本专利技术通过控制合适的镀膜速度、本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：选择低温镀膜室，低温镀膜室内设置有SiOx镀膜区以及ITO镀膜区，将PET基材放入放卷室内；步骤S2：向SiOx镀膜区通入一定量的氩气，采用电压控制模式，设定SiOx镀膜区功率在10～30kw之间，ITO镀膜区功率在6～20kw之间，向ITO镀膜区分别通入氩气和氧气的混合气体，并通过气体反应控制器控制氧气通入量，控制氧气通入量在气体总通入量中的占比为1.5～5％；步骤S3：将PET基材在低温镀膜室的放卷室内依次经过SiOx镀膜区、ITO镀膜区，在SiOx镀膜区、ITO镀膜区移动速度在1.5～6m/min；步骤S4：对镀膜完成后的PET基材进行收取。2.根据权利要求1所述的一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，其特征在于，所述步骤S1中，PET基材为透明PET膜或带有IM涂层的PET膜等透明塑料薄膜基材，PET基材厚度在5μm～200μm之间。3.根据权利要求1所述的一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，其特征在于，所述在SiOx镀膜区和ITO镀膜区均设置有ITO靶材，ITO靶材由In2O3和SnO2构成，其中In2O3占总体比例在90～97％之间，SnO2占总体比例在10～3％之间。4.根据权利要求1所述的一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，其特征在于，所述步骤S1中，低温镀膜室外部设置有放卷室以及收卷室，所述放卷室和收卷室内部均安装有用于PET基材进行传动的导向辊，所述收卷室内设置有用于对PET基材进行收集的收卷辊，低温镀膜室内安装有用于对PET基材进行导向的导向辊以及主辊，收卷室内设置有用于带动收卷辊转动传动件，传动件带动收卷辊转动，收卷辊对PET基材产生拉力，使PET基材顺着导向辊移动。5.根据权利要求4所述的一种易结晶的ITO电容膜镀膜工艺，其特征在于，所述收卷室设置有用于PET基膜校正的校正件，所述校正件包括传动架(1)、固定架(9)以及传动校准膜(10)，所述传动架(1)和固定架(9)内部均设置有可沿其内部上下移动的升降导轴(15)，升降导轴(15)上安装有导膜轮(5)，传动架(1)和固定架(9)内部均安装有校准膜卷辊(12)，校准膜卷辊(12)上缠绕有绕过两组导膜轮(5)的传动校准膜(10)，所述传动架(1)和固定架(9)内侧安装有压力传感器(7)，所述传动校准膜(10)一端缠绕在传动架(1)内部的校准膜卷辊(12)上，另一端缠绕在固定架(9)内侧校准膜卷辊(12)上。6.根据权利要求5所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：甄元石，尉士民，
申请(专利权)人：深圳市端天科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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