一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，具体涉及一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置，包括基座、滑动座、调节组件、第一安装轴、纠偏辊、第二安装轴、张紧辊。本实用新型专利技术的有益效果：设置两个纠偏辊，可对基材相对两侧进行限位，这样基材进行卷绕时，不易产生偏位的现象，另外设置有张紧辊，通过张紧辊对基材底面的支撑，避免基材产生下陷，进而影响外观质量，设置调节组件，通过调节组件驱动两个滑动座相对移动，进而使两个纠偏辊适应不同宽度的基材进行纠偏。纠偏。纠偏。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置


[0001]本技术涉及磁控溅射镀膜设备
，具体涉及一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置。

技术介绍

[0002]磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
[0003]磁控溅射镀膜设备在卷绕基材时，基材可能产生偏位的现象，进而导致基材镀膜区域产生不良，影响镀膜效果\质量，因此如何减少基材偏位的现象，是本领域技术人员亟待解决的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于克服现有技术中存在的问题，提供一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置，它可以实现至少一定程度上解决现有技术的问题。
[0005]为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0006]一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置，包括水平安装在外部磁控溅射镀膜设备上的基座，所述基座上各水平滑动连接有滑动座，所述滑动座由调节组件驱动其相对移动，其底部竖直设有第一安装轴，所述第一安装轴上转动套装有纠偏辊，两个所述第一安装轴的下端设有向两者相对侧水平延伸的第二安装轴，所述第二安装轴上转动套装有张紧辊。
[0007]作为如上所述技术方案的进一步优化，所述滑动座顶部设有一凸出部，对应的，所述基座上开设有供凸出部卡合、且能沿基座长度方向自由滑动的通槽。
[0008]作为如上所述技术方案的进一步优化，所述凸出部由不锈钢材质制成。
[0009]作为如上所述技术方案的进一步优化，所述调节组件包括水平转动连接在基座上的转轴，所述转轴长度方向两端分别设有螺纹旋向相反的第一丝杆部、第二丝杆部，两个所述滑动座上各水平嵌装有丝杆螺母，两个所述丝杆螺母分别螺纹套装在第一丝杆部、第二丝杆部。
[0010]作为如上所述技术方案的进一步优化，所述基座长度方向两端各设有一轴承座，所述转轴长度方向两端分别插装在两个轴承座上。
[0011]作为如上所述技术方案的进一步优化，所述转轴一端设有用于转动其的把手。
[0012]本技术的有益效果：设置两个纠偏辊，可对基材相对两侧进行限位，这样基材进行卷绕时，不易产生偏位的现象，另外设置有张紧辊，通过张紧辊对基材底面的支撑，避免基材产生下陷，进而影响外观质量，设置调节组件，通过调节组件驱动两个滑动座相对移
动，进而使两个纠偏辊适应不同宽度的基材进行纠偏。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1为本技术的立体结构示意图；
[0015]图2为图1中立体结构的侧视角度示意图；
[0016]图3为图1中立体结构的仰视角度示意图；
[0017]图4为图1中立体结构的正视示意图；
[0018]其中各附图标记说明如下：
[0019]1‑
第二安装轴，2
‑
张紧辊，3
‑
纠偏辊，4
‑
第一安装轴，5
‑
滑动座，6
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轴承座，7
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基座，8
‑
凸出部，9
‑
丝杆螺母，10
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通槽，11
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第一丝杆部,12
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第二丝杆部。
具体实施方式
[0020]为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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4，图1
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4示出了一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置，包括水平安装在外部磁控溅射镀膜设备上的基座7，所述基座7上各水平滑动连接有滑动座5，具体的，所述滑动座5顶部设有一凸出部8，对应的，所述基座7上开设有供凸出部8卡合、且能沿基座7长度方向自由滑动的通槽10，通过凸出部8在通槽10内滑动并限位，使得滑动座5滑动连接在基座7上，所述凸出部8由不锈钢材质制成，通过设置由不锈钢材质制成的凸出部8，降低了凸出部8表面的摩擦系数，进而便于降低凸出部8在通槽10内滑动时的摩擦磨损，所述滑动座5由调节组件驱动其相对移动，其底部竖直设有第一安装轴4，所述第一安装轴4上转动套装有纠偏辊3，两个所述第一安装轴4的下端设有向两者相对侧水平延伸的第二安装轴1，所述第二安装轴1上转动套装有张紧辊2。
[0022]所述调节组件包括水平转动连接在基座7上的转轴，具体的，所述基座7长度方向两端各设有一轴承座6，所述转轴长度方向两端分别插装在两个轴承座6上，进而使转轴转动连接在基座7上，所述转轴长度方向两端分别设有螺纹旋向相反的第一丝杆部11、第二丝杆部12，两个所述滑动座5上各水平嵌装有丝杆螺母9，两个所述丝杆螺母9分别螺纹套装在第一丝杆部11、第二丝杆部12，所述转轴一端设有用于转动其的把手。
[0023]本技术在使用时：基材底面由张紧辊进行支撑，同时两个纠偏辊分别对基材宽度方向两侧进行限位，通过两个纠偏辊的限位，进而避免了基材偏位的现象，同时通过两个张紧辊的支撑作用，降低了基材由于自重而产生下陷的现象；
[0024]调节两个纠偏辊的间距以适应不同宽度的基材时，通过转动转轴，转轴上的第一
丝杆部、第二丝杆部分别与两个丝杆螺母螺纹旋合，由于第一丝杆部、第二丝杆部的螺纹旋向相反，此时两个丝杆螺母将分别带动两个滑动座相对移动，进而调节了两个纠偏辊的间距。
[0025]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0026]以上公开的本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置，其特征在于,包括水平安装在外部磁控溅射镀膜设备上的基座(7)，所述基座(7)上各水平滑动连接有滑动座(5)，所述滑动座(5)由调节组件驱动其相对移动，其底部竖直设有第一安装轴(4)，所述第一安装轴(4)上转动套装有纠偏辊(3)，两个所述第一安装轴(4)的下端设有向两者相对侧水平延伸的第二安装轴(1)，所述第二安装轴(1)上转动套装有张紧辊(2)。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置，其特征在于，所述滑动座(5)顶部设有一凸出部(8)，对应的，所述基座(7)上开设有供凸出部(8)卡合、且能沿基座(7)长度方向自由滑动的通槽(10)。3.根据权利要求2所述的一种磁控溅射镀膜基材卷绕纠偏装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐伟，肖秀梅，
申请(专利权)人：深圳市端天科技有限公司，
类型：新型
国别省市：