【技术实现步骤摘要】
一种具有环形水道结构的背板
[0001]本技术属于磁控溅射
,涉及一种背板结构,尤其涉及一种具有环形水道结构的背板。
技术介绍
[0002]在真空镀膜工艺中,靶材组件由符合溅射性能的靶材和具有一定强度的背板构成。所述背板不仅在靶材组件中起到支撑作用,而且具有传导热量的功效。在真空溅镀过程中,靶材组件工作环境较为苛刻,温度在300
‑
500℃左右,且靶材组件处于高压电场和磁场强度较大的磁场中,靶材正面在10
‑9的真空环境下,收到各种高能量离子轰击,致使靶材发生溅射,而溅射处的中性靶原子或分子沉积在基片上,形成所需薄膜。
[0003]真空镀膜过程中,靶材的温度会急剧升高,因而需要通过靶材组件中的背板迅速传输靶材的热量,并避免由此产生靶材组件变形、靶材组件使用寿命短以及影响基片镀膜质量等问题。通常,本领域技术人员在背板内设置冷却水道,冷却水道中的冷却水可以吸收并迅速消散靶材和背板的热量,因此带有冷却水道的背板可以防止靶材组件变形、提高靶材组件的使用寿命和提高镀膜质量。
[0004] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有环形水道结构的背板,其特征在于,所述具有环形水道结构的背板设置有与冷却水接触的区域;所述区域内设置有同心设置的至少2条环形水道;所述区域内设置有至少2条旋臂形水道,所述至少2条旋臂形水道沿所述具有环形水道结构的背板的中心轴等角度分布;所述旋臂形水道与环形水道连通。2.根据权利要求1所述的具有环形水道结构的背板,其特征在于,所述具有环形水道结构的背板为铜背板。3.根据权利要求2所述的具有环形水道结构的背板,其特征在于,所述铜背板的直径为360
‑
450mm。4.根据权利要求3所述的具有环形水道结构的背板,其特征在于,所述区域内设置有3
‑
20条环形水道。5.根据权利要求4所述的具有环形水道结构的背板,其特征在于,相邻两条环形水道的间距相等。6.根据权利要求5所述的具有环形水道结构的背板,其特征在于,相邻两条环形水道的间距为6
‑
20mm;最内...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚力军,边逸军,潘杰,王学泽,冯周瑜,
申请(专利权)人:宁波江丰电子材料股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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