一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法技术

本发明专利技术公开了一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法，包括以下步骤：(1)非金属基体清洗后放入氧等离子刻蚀机中进行刻蚀；(2)将刻蚀完成的非金属基体置于磁控溅射装置样品台，利用硫化锌靶材在非金属基体上沉积硫化锌薄膜。该方法将氧等离子刻蚀和磁控溅射技术相结合，先对基体进行活化，然后沉积薄膜，使得制备出的薄膜与基体结合力更强，制备出的薄膜质量好，纯度高，性能稳定，且制备时间短，便于大规模生产。

【技术实现步骤摘要】
一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法
本专利技术涉及一种渗镀高纯硫化锌薄膜的方法，更具体地，涉及一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法。
技术介绍
硫化锌是一种II-VI化合物宽禁带半导体材料，其带隙约为3.7ev在发光二极管阴极射线管、薄膜电致发光和太阳能电池缓冲层中具有重要的应用。硫化锌薄膜可以用多种薄膜沉积技术生长，包括热蒸发、化学浴沉积技术、喷雾热解、化学气相沉积、电化学沉积、射频磁控溅射技术、水热和旋涂技术等。溶胶-凝胶法和旋涂法虽然操作简单，易于大规模生产，但成膜效果不好，膜与基体间的结合力不强，均匀性较差；化学气相沉积法反应时间较长，导致生产周期过长，且用到的反应气氛危险性较大；而电子束沉积法本身能量利用率较低，仪器成本昂贵。磁控溅射技术具有沉积参数可控性好、薄膜生长速度快、成本效益相对较高以及溅射沉积相容性好等优点，能够充分控制制备ZnS薄膜时薄膜的化学计量和均匀性，制备的ZnS薄膜具有较高的质量，非常适合用于太阳能电池中的电致发光显示、CIGS太阳能电池缓冲层。但目前磁控溅射技术普遍存在膜力学性能差，同时因为基体表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：/n(1)非金属基体清洗后放入氧等离子刻蚀机中进行刻蚀；/n(2)将刻蚀完成的非金属基体置于磁控溅射装置样品台，利用硫化锌靶材在非金属基体上沉积硫化锌薄膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)非金属基体清洗后放入氧等离子刻蚀机中进行刻蚀；
(2)将刻蚀完成的非金属基体置于磁控溅射装置样品台，利用硫化锌靶材在非金属基体上沉积硫化锌薄膜。


2.根据权利要求1所述的非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法，其特征在于，所述步骤(1)中先将非金属基体依次用去离子水、无水乙醇超声清洗。


3.根据权利要求1所述的非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法，其特征在于，所述步骤(1)中在体积比为1～10：1的氩气和氧气混合气氛下对非金属基体进行刻蚀。


4.根据权利要求1所述的非金属材料表面渗镀高纯硫化锌薄膜的方法，其特征在于，所述步骤(1)中非金属基体为石英玻璃、ITO玻璃、氧化物陶瓷、蓝宝石或硅片。


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【专利技术属性】
技术研发人员：吴红艳，赵科，张成远，于林汕，冯星斐，任军昭，
申请(专利权)人：南京信息工程大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32