一种可调非平衡矩形平面磁控溅射阴极制造技术

本发明专利技术公开了一种矩形平面磁控溅射阴极，包括框体，所述框体内底部固定安装有伸缩装置，所述伸缩装置上端固定安装有动力装置，所述动力装置两侧均固定安装有一个储料装置，所述储料装置远离动力装置的一端固定安装有伸缩杆，所述伸缩杆远离储料装置的一端固定安装有T形杆，所述框体侧壁开设有滑槽，所述T形杆位于滑槽内部且与滑槽侧壁滑动连接。本发明专利技术，通过设置动力装与储料装置，可以随时改变靶材的水平位置，减少靶材刻蚀不均的情况，提高靶材利用率，减少靶材的浪费，通过设置伸缩装置，能改变靶材与阳极的位置远近，控制靶材刻蚀的程度，给日常使用带来了极大的便捷。

【技术实现步骤摘要】
一种可调非平衡矩形平面磁控溅射阴极
本专利技术涉及溅射阴极
，尤其涉及一种矩形平面磁控溅射阴极。
技术介绍
镀膜是在表面镀上非常薄的薄膜，使其具有耐磨、润滑、导电、光学、装饰等功能。随着人们对产品的追求越来越高，越来越多的物品表面都会镀膜，镀膜最普遍的做法就是通过镀膜机镀膜，而使用较多的就是溅射类镀膜，可以简单的理解为利用离子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，最终沉积在基片表面，最后形成薄膜。根据专利号CN209974874U，名为一种高靶材利用率的矩形磁控溅射阴极，其核心部件为磁钢组和磁轭组成的磁路模块，该磁路结构使得磁场提供更多的与靶材平行的磁场分量，能够对靶面进行更大面积的刻蚀，提升了靶材利用率，避免频繁更换靶材，降低开真空室的次数，既可以保证生产的连续性，提高工作效率，也可以改善产品的洁净度；此外，通过水路进行降温，可以有效的避免靶材被熔化。但是该设备无法自由移动靶材，当靶面刻蚀不均时，无法调节位置，使得靶材利用率非常低，大概在20％，这样就导致大量的材料浪费，并且无法控制靶材刻蚀的程度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种矩形平面磁控溅射阴极，包括框体(1)，其特征在于：所述框体(1)内底部固定安装有伸缩装置(4)，所述伸缩装置(4)上端固定安装有动力装置(2)，所述动力装置(2)两侧均固定安装有一个储料装置(3)，所述储料装置(3)远离动力装置(2)的一端固定安装有伸缩杆(7)，所述伸缩杆(7)远离储料装置(3)的一端固定安装有T形杆(5)，所述框体(1)侧壁开设有滑槽(6)，所述T形杆(5)位于滑槽(6)内部且与滑槽(6)侧壁滑动连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种矩形平面磁控溅射阴极，包括框体(1)，其特征在于：所述框体(1)内底部固定安装有伸缩装置(4)，所述伸缩装置(4)上端固定安装有动力装置(2)，所述动力装置(2)两侧均固定安装有一个储料装置(3)，所述储料装置(3)远离动力装置(2)的一端固定安装有伸缩杆(7)，所述伸缩杆(7)远离储料装置(3)的一端固定安装有T形杆(5)，所述框体(1)侧壁开设有滑槽(6)，所述T形杆(5)位于滑槽(6)内部且与滑槽(6)侧壁滑动连接。


2.根据权利要求1所述的一种矩形平面磁控溅射阴极，其特征在于：所述动力装置(2)包括动力箱(21)，所述动力箱(21)内底部固定安装有固定板(27)，所述固定板(27)上表面固定安装有多个二号卡齿(25)，所述二号卡齿(25)啮合连接有齿轮(24)，所述齿轮(24)侧壁活动连接有动力组件。


3.根据权利要求2所述的一种矩形平面磁控溅射阴极，其特征在于：所述动力组件包括活动杆(26)，所述活动杆(26)侧壁固定安装有一号连接杆(28)，所述一号连接杆(28)端部固定连接有一号气缸(29)，所述一号气缸(29)远离一号连接杆(28)的一端与动力箱(21)内侧壁固定连接，所述动力箱(21)侧壁活动连接有移动组件。


4.根据权利要求3所述的一种矩形平面磁控溅射...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭江涛，文继志，
申请(专利权)人：斡兹真空科技嘉兴有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33