成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种成膜装置，能够在不阻碍成膜源的移动的情况下稳定且再现良好地进行成膜。另外，实现成膜装置的耐久性的提高。成膜装置具有成膜室、成膜源以及连结构件，所述成膜源能够在所述成膜室内移动，所述连结构件连结所述成膜室的壁部和所述成膜源，向所述成膜源供给电力的配线插通于所述连结构件的内部，其中，所述连结构件具有至少一个移动体和将所述移动体与所述成膜室的壁部或所述成膜源连接的连接部，在所述连接部的内部设置有与所述配线连接的非接触送电受电线圈。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置
本专利技术涉及成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法，具体而言，涉及用于从外部向真空腔内供给电力的结构。
技术介绍
作为以往的成膜装置，例如已知有专利文献1所记载的成膜装置。在真空腔内设置有搭载蒸镀源的能够移动的连接箱(大气箱)，并且设置有收容从真空腔外部向大气箱内导入的电气配线等的移送装置。该移送装置是内部被保持为大气压的中空结构，具备与三个连结部(连接部)能够转动地连接的两个中空的臂(移动体)，电气配线从真空腔的外部通过各连结部的内部以及各臂的内部而导入大气箱。当大气箱移动时，移送装置的臂的角度在各连结部变化，移送装置追随大气箱的移动而移动。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-299176号公报专利技术要解决的课题在以往的结构中，在连接部及其附近，电气配线弯曲，在该部分，局部地在电气配线产生弯曲、扭曲。伴随着大气箱移动且臂转动，在通过连接部内的配线部分，扭曲、弯曲的程度变动。若转动角度变大，则扭曲、弯曲变大，力集中于配线的弯曲部。每当臂转动时，配线的变形反复作用，因此，有时成为配线产生损伤的原因。另外，若成膜源、驱动成膜源的驱动机构等高性能化、大型化，则存在配置在内部的配线的数量增加或配线变粗的倾向。这样一来，配线、配线束的变形(弯曲、扭曲)变得困难，伴随着臂的转动，连接部的转动阻力变大，有可能阻碍成膜源的移动。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述现有技术的问题而完成的，其目的在于提供一种能够在不阻碍成膜源的移动的情况下稳定且再现良好地进行成膜的成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。另外，本专利技术的进一步的目的在于实现成膜装置的耐久性的提高。用于解决课题的方案本专利技术提供一种成膜装置，具有成膜室、成膜源以及连结构件，所述成膜源能够在所述成膜室内移动，所述连结构件连结所述成膜室的壁部和所述成膜源，向所述成膜源供给电力的配线插通于所述连结构件的内部，其特征在于，所述连结构件具有至少一个移动体和将所述移动体与所述成膜室的壁部或所述成膜源连接的连接部，在所述连接部的内部设置有与所述配线连接的非接触送电受电线圈。本专利技术提供一种成膜装置，具有成膜室、成膜源以及连结构件，所述成膜源能够在所述成膜室内移动，所述连结构件连结所述成膜室的壁部和所述成膜源，向所述成膜源供给电力的配线插通于所述连结构件的内部，其特征在于，所述连结构件具有相互连接的多个移动体，在连接所述多个移动体的部分的内部设置有与所述配线连接的非接触送电受电线圈。专利技术效果根据本专利技术，能够在不阻碍成膜源的移动的情况下稳定且再现良好地进行成膜。并且，能够实现装置的耐久性的提高。附图说明图1是本实施方式的成膜装置的概略剖视图。图2是图1的俯视图。图3是表示旋转靶单元的一例的概略剖视图。图4是表示第一连接部的结构例的概略剖视图。图5是示意性地表示电源与靶单元的电连接的电路图。图6是表示由本实施方式的成膜装置制造的电子器件的一例的剖视图。附图标记说明1：成膜装置2：成膜对象物3：靶单元10：真空腔10a：真空腔的底壁21、22、23：连接部30：大气臂31：第一臂32：第二臂230：大气箱L、L1、L2、L3、L4：配线TC1、TC2、TC3：发送侧线圈RC2、RC3、RC4：接收侧线圈具体实施方式以下，对本实施方式进行详细说明。但是，以下的实施方式仅仅例示性地表示本专利技术的优选结构，本专利技术的范围并不限定于这些结构。另外，以下说明中的、装置的硬件结构以及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等只要没有特定性的记载，其主旨并非将本专利技术的范围仅限定于此。<成膜装置的结构>首先，参照图1以及图2，对本实施方式的成膜装置1的基本结构进行说明。本实施方式的成膜装置1用于在半导体器件、磁器件、电子部件等各种电子器件、光学部件等的制造中在成膜对象物2(也包括在基板上形成有层叠体的对象物)上堆积形成薄膜。更具体地说，成膜装置1优选用于发光元件、光电转换元件、触摸面板等电子器件的制造。其中，本实施方式的成膜装置1特别优选应用于有机EL(ElectroLuminescence：电致发光)元件等有机发光元件、有机薄膜太阳能电池等有机光电转换元件的制造。需要说明的是，本实施方式中的电子器件也包括具备发光元件的显示装置(例如有机EL显示装置)、照明装置(例如有机EL照明装置)、具备光电转换元件的传感器(例如有机CMOS图像传感器)。图6示意性地示出有机EL元件的一般的层结构。是在基板上以阳极、空穴注入层、空穴输送层、有机发光层、电子输送层、电子注入层、阴极的顺序成膜的结构。本实施方式的成膜装置1适合用于通过溅射在有机膜上形成电子注入层、电极(阴极、阳极)所使用的金属、金属氧化物等层叠覆膜时。另外，并不限于在有机膜上的成膜，只要是能够通过金属材料或氧化物材料等的溅射进行成膜的材料的组合，就能够在多种面上进行层叠成膜。如图1所示，成膜装置1具有真空腔(成膜室)10，在真空腔10的内部，配置有成膜对象物2、掩模7、以及使作为成膜材料的溅射粒子飞溅而成膜于成膜对象物2的作为成膜源的旋转靶单元3(以下也简称为“靶单元3”)。在本实施方式中，成膜对象物2被固定，但也可以适当地移动。在真空腔10连接有未图示的气体导入构件以及排气构件，成为能够将内部维持为规定的压力的结构。即，溅射气体(氩等非活性气体、氧、氮等反应性气体)通过气体导入构件被导入真空腔10的内部，另外，从真空腔10的内部通过真空泵等排气构件进行排气，真空腔10的内部的压力被调压为规定的压力。如图2所示，靶单元3具备在移动方向上隔开规定间隔地平行配置的一对靶单元3A、3B。第一靶单元3A以及第二靶单元3B均为两端由固定在大气箱230上的支承块210和端块220支承。如图3所示，第一靶单元3A具有圆筒形状的第一靶4、配置于其内周的电极即阴极5、以及配置在更内部的磁铁单元6。同样地，第二靶单元3B具有圆筒形状的第二靶4、配置于其内周的电极即阴极5、以及配置在更内部的磁铁单元6。第一靶4和第二靶4可以是不同的材料，也可以是相同的材料。利用支承块210和端块220将靶4支承为旋转自如，磁铁单元6以固定状态被支承。在此，将靶和阴极记为不同的部件，但在靶材料为导电性材料的情况下，也可以构成为一体化的单一部件。在此，使第一靶单元3A的磁铁单元6和第二靶单元3B的磁铁单元6相互向相反方向倾斜。由此，靶粒子在第一靶单元3A和第二靶单元3B中向不同的方向飞散，因此，在成膜对象物2的成膜面上，能够使来自第一靶单元3A的靶粒子的飞散区域和来自第二靶单元3B的靶粒子的飞散区域不重叠。该结构例如在第一靶单元3A和第二靶单元3B中使用不同的靶材料的情况下是有利的。但是，使磁铁单元6、6向相反方向倾斜的结构不是必需的。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成膜装置，具有成膜室、成膜源以及连结构件，所述成膜源能够在所述成膜室内移动，所述连结构件连结所述成膜室的壁部和所述成膜源，向所述成膜源供给电力的配线插通于所述连结构件的内部，其特征在于，/n所述连结构件具有至少一个移动体和将所述移动体与所述成膜室的壁部或所述成膜源连接的连接部，/n在所述连接部的内部设置有与所述配线连接的非接触送电受电线圈。/n

【技术特征摘要】
20191218 JP 2019-2278901.一种成膜装置，具有成膜室、成膜源以及连结构件，所述成膜源能够在所述成膜室内移动，所述连结构件连结所述成膜室的壁部和所述成膜源，向所述成膜源供给电力的配线插通于所述连结构件的内部，其特征在于，
所述连结构件具有至少一个移动体和将所述移动体与所述成膜室的壁部或所述成膜源连接的连接部，
在所述连接部的内部设置有与所述配线连接的非接触送电受电线圈。


2.一种成膜装置，具有成膜室、成膜源以及连结构件，所述成膜源能够在所述成膜室内移动，所述连结构件连结所述成膜室的壁部和所述成膜源，向所述成膜源供给电力的配线插通于所述连结构件的内部，其特征在于，
所述连结构件具有相互连接的多个移动体，
在连接所述多个移动体的部分的内部设置有与所述配线连接的非接触送电受电线圈。


3.如权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜源是溅射靶。


4.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩崎达哉，内田敏治，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP