一种扩散炉净化台净化系统技术方案

技术编号:28516817 阅读:22 留言:0更新日期:2021-05-19 23:50
一种扩散炉净化台净化系统,包括净化台框架和净化装置,所述净化装置包括空气过滤净化器、风机以及进风口构成;所述空气过滤净化器、风机以及进风口设置于净化台框架的上方;本实用新型专利技术通过设置空气过滤净化器对进入搬舟结构的气体进行净化,其一能够有效防止空气中过得灰尘等杂质对硅片的生产工艺产生影响,其二能够提高硅片的散热效率,且本实用新型专利技术通过将气流的导入口和到出口分别设置于空气过滤净化器的侧面以及风口的侧面,有效防止灰尘等杂质顺着导入口或导出口进入搬舟结构的内部。质顺着导入口或导出口进入搬舟结构的内部。质顺着导入口或导出口进入搬舟结构的内部。

【技术实现步骤摘要】
一种扩散炉净化台净化系统


[0001]本技术涉及半导体制造设备领域,尤其涉及一种扩散炉净化台净化系统。

技术介绍

[0002]扩散炉作为半导体器件工艺设备的重要设备之一,广泛应用于集成电路、电力电子、太阳能电池的生产等行业,在光伏行业,高温扩散炉主要用于对单晶硅片、多晶硅片进行掺杂,形成PN结。随着光伏行业的发展,人们一直在追求产能的提升。而在制作工艺过程中,会有许多热处理的工序,如热氧化、化学气相沉积(CVD)、热扩散、金属合金化、杂质激活、介质膜致密化等。这些热处理工艺对温度非常敏感,尤其是在半导体器件制备中,温度是影响硅晶圆成膜均匀性及生长速度的关键参数。
[0003]通常,硅片装载在石英晶体内,通过搬舟机构送入炉管内,反应结束后通过搬出炉管。半导体器件的热处理工艺过程中,搬舟机构在搬进搬出硅片的时候产生大量热。除了炉体内的冷却装置,炉体外也需要一套完整的冷却体系支持整个工艺流程的运作。传统的散热方式仅设置系统出风口来进行排热,这样热量一部分从系统出风口排出,但绝大部分热仍然积蓄在系统内部,不仅影响生产效率,而且这些热量还有可能对装置本身造成损害,且影响设备性能与寿命。因此,如何提高内部散热效果,确保设备能够长期稳定工作,并满足快速净化与降温工艺的需求,研发出性价比高的炉体外部净化系统,是亟待解决的技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术要解决的技术问题克服现有技术的不足,提供一种结构简单、可净化扩散炉搬舟部分气体的净化系统。
[0005]本技术采用以下技术方案:
[0006]一种扩散炉净化台净化系统,包括净化台框架和净化装置,所述净化装置包括空气过滤净化器、风机以及进风口构成;所述空气过滤净化器、风机以及进风口设置于净化台框架的上方。
[0007]进一步的,所述空气过滤净化器至少为一个;空气过滤净化器通过气管道结构与净化台框架的内部空间实现联通。
[0008]进一步的,所述空气过滤净化器采用空气滤芯净化。
[0009]进一步的,所述空气过滤净化器设置为两组,分别为第一空气过滤净化器和第二空气过滤净化器,所述第一空气过滤净化器和第二空气过滤净化器分别设置于净化台框架顶部的相邻顶角上。
[0010]进一步的,所述进风口设置为两组,分别为第一进风口和第二进风口,进风口设置为净化台框架内部的气体吸入口。
[0011]进一步的,所述空气过滤净化器设置为直四棱柱形,在空气过滤净化器相对的两个侧面上设置有圆柱形的开口,并向外侧延伸,作为气流的导入口。
[0012]进一步的,所述进风口的侧面设置有气流的导出口。
[0013]采用本技术的有益效果在于:
[0014]本技术通过设置空气过滤净化器对进入净化台框架的气体进行净化,其一能够有效防止空气中过得灰尘等杂质对硅片的生产工艺产生影响,其二能够提高硅片的散热效率。
[0015]与现有技术相比,本技术在净化台框架顶部加装净化系统,在实现净化功能的同时还能大大降低了设备工作时净化台内部温度,使得温度不至于过高而影响设备的正常工作。
[0016]本技术通过将气流的导入口和到出口分别设置于空气过滤净化器的侧面以及进风口的侧面,有效防止灰尘等杂质顺着导入口或导出口进入净化台框架的内部。
附图说明
[0017]图1为本技术的整体系统图;
[0018]图2为本技术的净化台框架图。
[0019]附图标记说明:第一空气过滤净化器11、第二空气过滤净化器12、风机2、第一进风口31、第二进风口32、水冷盘5、水冷盘风机6、进出水管7、净化台框架9、炉体框架10。
具体实施方式
[0020]为了使本
的人员更好的理解本技术方案,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述。
[0021]本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、横向、纵向
……
)仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
[0022]实施例一:
[0023]如图1所示,净化台冷却净化装置,包括净化台框架9和净化装置和冷却装置,所述冷却净化装置包括空气过滤净化器(11、12)、风机2、进风口(31、32)以及水冷盘5;所述风机2为两个;所述空气过滤净化器(11、12)、风机2、进风口(31、32)依次横向设置于净化台框架9的上方通过管道相连,所述水冷盘5设置于空气过滤净化器(11、12)前侧。净化台框架9与炉体框架10相邻设置。
[0024]其中净化装置由空气过滤净化器(11、12)、风机2以及进风口(31、32)构成,空气过滤净化器(11、12)、风机2以及进风口(31、32)设置于净化台框架9的上方通过管道相连,在本实施例中,所述空气过滤净化器(11、12)采用空气滤芯净化,为物理净化方式。其中空气过滤净化器(11、12)至少为一组,在本实施例中设置为两组空气过滤净化器(11、12),分别为第一空气过滤净化器11和第二空气过滤净化器12。第一空气过滤净化器11以及第二空气过滤净化器12分别通过气管道结构(图未标记)与净化台框架9的内部空间实现联通。第一空气过滤净化器11以及第二空气过滤净化器12由风机2将净化台机架9外部的空气进行净化后通入净化台框架9的内部,因硅片工艺需要洁净,因此通入净化台框架的气体,需要先经过过滤净化。在本实施例中第一空气过滤净化器11设置于净化台框架9顶部的左上角;第二空气过滤净化器12设置于净化台框架9的右上角,本实施例中空气过滤净化器(11、12)设
置为两组的目的是能够保证净化台框架9内部的气流均匀,避免出现一侧的气流大一侧的气流小的情况的发生,保证硅片的散热均匀。通过设置第一空气过滤净化器11以及第二空气过滤净化器12通入净化后的冷空气能够极大程度实现净化台框架9内部的降温且不引入污染。
[0025]所述第一空气过滤净化器11以及第二空气过滤净化器12的形状结构相同,以第一空气过滤净化器11为例,第一空气过滤净化器11整体呈直四棱柱形状,在第一空气过滤净化器11相对的两个侧面上设置有圆柱形的开口,并向外侧延伸,作为气流的导入口(图未标记)。其中将开口设置于侧面而非顶面的目的是为了防止灰层落入装置中,影响空气过滤净化器(11、12)的过滤效率。
[0026]其中风机2以及进风口(31、32)是为了进一步保证净化台框架9内部的空气流通,所述进风口(31、32)为两个,分别为第一进风口31和第二进风口32;两个风机2分别与第一进风口31以及第二进风口32连接。第一进风口31和第二进风口32上分别设置有气流的导出口(图未标记),其中导出口设置于进风口(31、32)的侧面,目的是为了在进风口(31、32)不工作时避免灰尘顺着进风口(31、32)落入净化台机架9的内部。净化台机架9外部的气体能够顺着进风口(31、32本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种扩散炉净化台净化系统,其特征在于,包括净化台框架和净化装置,所述净化装置包括空气过滤净化器、风机以及进风口构成;所述空气过滤净化器、风机以及进风口设置于净化台框架的上方。2.根据权利要求1所述的一种扩散炉净化台净化系统,其特征在于,所述空气过滤净化器至少为一个;空气过滤净化器通过气管道结构与净化台框架的内部空间实现联通。3.根据权利要求1所述的一种扩散炉净化台净化系统,其特征在于,所述空气过滤净化器采用空气滤芯净化。4.根据权利要求2所述的一种扩散炉净化台净化系统,其特征在于,所述空气过滤净化器设置为两组,分别为第一空气过滤净化器和...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘群庞爱锁林佳继郭永胜林依婷
申请(专利权)人:深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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