【技术实现步骤摘要】
一种耐刻蚀正性光刻胶
本专利技术属于光刻胶领域,具体涉及一种耐刻蚀的正性光刻胶。
技术介绍
在半导体集成电路的制造中,通常使用光刻胶组合物制造精细电路图案。光刻胶组合物的常规组分包括成膜树脂、感光剂、溶剂、其他添加剂。酚醛树脂常作为成膜树脂用于G线/I线光刻胶。然而,目前商用的酚醛树脂类正性光刻胶耐蚀性并不理想。
技术实现思路
为了解决上述技术问题,本专利技术提供了一种以金属有机配合物复合酚醛树脂为基体的正性光刻胶,其制备方法简单,体系相容性好,耐刻蚀性优异。本专利技术所采用的技术方案如下:本专利技术提出了一种耐刻蚀正性光刻胶,其原料包括:5-40重量份的金属有机配合物复合酚醛树脂、2-10重量份的重氮类感光剂、45-80重量份的有机溶剂;所述金属有机配合物复合酚醛树脂的制备方法,包括如下步骤:将金属有机配合物加入到无水乙醇稀释的酚醛树脂中,升温、搅拌、蒸馏,即得金属有机配合物复合酚醛树脂。优选地,所述金属有机配合物复合酚醛树脂的制备方法中,升温至45-60℃,蒸馏条件为0 ...
【技术保护点】
1.一种耐刻蚀正性光刻胶,其特征在于,其原料包括:5-40重量份的金属有机配合物复合酚醛树脂、2-10重量份的重氮类感光剂、45-80重量份的有机溶剂;/n所述金属有机配合物复合酚醛树脂的制备方法,包括如下步骤:将金属有机配合物加入到无水乙醇稀释的酚醛树脂中,升温、搅拌、蒸馏,即得金属有机配合物复合酚醛树脂。/n
【技术特征摘要】
1.一种耐刻蚀正性光刻胶,其特征在于,其原料包括:5-40重量份的金属有机配合物复合酚醛树脂、2-10重量份的重氮类感光剂、45-80重量份的有机溶剂;
所述金属有机配合物复合酚醛树脂的制备方法,包括如下步骤:将金属有机配合物加入到无水乙醇稀释的酚醛树脂中,升温、搅拌、蒸馏,即得金属有机配合物复合酚醛树脂。
2.根据权利要求1所述的耐刻蚀正性光刻胶,其特征在于,所述金属有机配合物复合酚醛树脂的制备方法中,升温至45-60℃,蒸馏条件为0.08-0.09Mpa、30-45℃条件下蒸馏2-3h。
3.根据权利要求1或2所述的耐刻蚀正性光刻胶,其特征在于,金属有机配合物复合酚醛树脂中,金属有机配合物的重量以金属元素计算为酚醛树脂重量的0.05-10wt%;优选地,金属有机配合物的重量以金属元素计算为酚醛树脂重量的2-5wt%。
4.根据权利要求1-3任一项所述的耐刻蚀正性光刻胶,其特征在于,所述金属有机配合物复合酚醛树脂的金属选自镍、钴、铜中的...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐娟,周建,王猛,
申请(专利权)人:阜阳申邦新材料技术有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽;34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。