感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法技术

本发明专利技术提供一种感光性转印材料以及使用了上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法，该感光性转印材料具有临时支承体、中间层及感光性树脂层，上述感光性树脂层包含聚合物及光产酸剂，该聚合物包含具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元，上述感光性树脂层中所包含的上述聚合物是酸值为10mgKOH/g以下的丙烯酸树脂，上述中间层包含水溶性或碱溶性丙烯酸树脂，上述中间层与上述感光性树脂层接触。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法
本专利技术涉及一种感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法。
技术介绍
在具备静电电容型输入装置等触摸面板的显示装置(有机电致发光(EL)显示装置及液晶显示装置等)中，在触摸面板内部设置有相当于可见部的传感器的电极图案、周边配线部分以及引出配线部分的配线等导电层图案。通常在已图案化的层的形成中，用于得到所需的图案形状的工序数量少，因此广泛使用对使用感光性转印材料在任意基板上设置的感光性树脂组合物的层，经由具有所期望的图案的掩模进行曝光后显影的方法。作为以往的感光性转印材料，已知有专利文献1或2中所记载的感光性转印材料。在专利文献1中公开有感光性转印材料，该感光性转印材料的特征在于，依次具有支承体、热塑性树脂层及感光性树脂组合物层，上述感光性树脂组合物层包含(A)聚合物成分及(B)光产酸剂，该聚合物成分包含聚合物，该聚合物包含具有酸基被酸分解性基团保护的基团的结构单元(a1)。并且，在专利文献2中公开有一种感光性转印材料，其具有：临时支承体；正型感光性树脂层，包含包括由下述通式A表示的结构单元及具有酸基的结构单元，并且玻璃化转变温度为90℃以下的聚合物；以及光产酸剂。[化学式1]通式A中，R31及R32分别独立地表示氢原子、烷基或芳基，至少R31及R32中的任一个为烷基或芳基，R33表示烷基或芳基，R31或R32可与R33连结而形成环状醚。R34表示氢原子或甲基，X0表示单键或亚芳基。专利文献1：日本特开2014-085643号公报专利文献2：日本特开2017-156735号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题本专利技术的一实施方式欲要解决的课题在于提供一种保存稳定性及中间层与感光性树脂层的密合性优异的感光性转印材料。并且，本专利技术的另一实施方式欲要解决的课题在于提供一种使用了上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法。用于解决技术课题的手段用于解决上述课题的方法中包含以下的方式。＜1＞一种感光性转印材料，其具有临时支承体、中间层及感光性树脂层，上述感光性树脂层包含聚合物及光产酸剂，该聚合物包含具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元，上述感光性树脂层中所包含的上述聚合物是酸值为10mgKOH/g以下的丙烯酸树脂，上述中间层包含水溶性或碱溶性丙烯酸树脂，上述中间层与上述感光性树脂层接触。＜2＞根据＜1＞所述的感光性转印材料，其中，上述感光性树脂层中所包含的上述丙烯酸树脂的酸值为0mgKOH/g～3mgKOH/g。＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的感光性转印材料，其中，上述感光性树脂层中所包含的上述丙烯酸树脂进一步具有包含pKaH3以上的基团的结构单元。＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，上述中间层中的水溶性或碱溶性丙烯酸树脂为水溶性丙烯酸树脂。＜5＞根据＜4＞所述的感光性转印材料，其中，上述水溶性丙烯酸树脂为具有酸基或碱性基并且前述酸基或碱性基的中和率为90摩尔％以上的水溶性丙烯酸树脂。＜6＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，上述中间层中的水溶性或碱溶性丙烯酸树脂为碱溶性丙烯酸树脂。＜7＞根据＜6＞所述的感光性转印材料，其中，上述碱溶性丙烯酸树脂的酸值为30mgKOH/g～150mgKOH/g。＜8＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，上述中间层的平均膜厚为3μm以下。＜9＞根据＜1＞至＜8＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，上述中间层中的上述水溶性或碱溶性丙烯酸树脂包含具有羟基的树脂。＜10＞根据＜1＞至＜9＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，在上述中间层的与接触有上述感光性树脂层的一侧相反的一侧，进一步具有包含选自由酚醛树脂、改性纤维素树脂及聚乙烯醇树脂组成的组中的至少1种水溶性树脂的水溶性树脂层。＜11＞根据＜1＞至＜10＞中任一项所述的感光性转印材料，其中，上述具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元为由下述式A表示的结构单元。[化学式2]式A中，R31及R32分别独立地表示氢原子、烷基或芳基，至少R31及R32中的任一个是烷基或芳基，R33表示烷基或芳基，任选地R31或R32与R33连结而形成环状醚，R34表示氢原子或甲基，X0表示单键或2价的连结基团。＜12＞一种树脂图案的制造方法，其依次包括：使＜1＞至＜11＞中任一项所述的感光性转印材料中的上述感光性树脂层侧的最外层与基板接触而进行贴合的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；及对经曝光的上述感光性树脂层进行显影而形成图案的工序。＜13＞一种电路布线的制造方法，其依次包括：使＜1＞至＜11＞中任一项所述的感光性转印材料中的上述感光性树脂层侧的最外层与具有导电层的基板接触而进行贴合的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；对经曝光的上述感光性树脂层进行显影而形成图案的工序；及对未配置上述图案的区域中的导电层进行蚀刻处理的工序。＜14＞根据＜13＞所述的电路布线的制造方法，其中，上述导电层为包含铜的层。＜15＞一种触摸面板的制造方法，其依次包括：使＜1＞至＜11＞中任一项所述的感光性转印材料中的上述感光性树脂层侧的最外层与具有导电层的基板接触而进行贴合的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；对经曝光的上述感光性树脂层进行显影而形成图案的工序；及对未配置上述图案的区域中的导电层进行蚀刻处理的工序。专利技术效果根据本专利技术的一实施方式，能够提供一种保存稳定性及中间层与感光性树脂层的密合性优异的感光性转印材料。并且，根据本专利技术的另一实施方式，能够提供一种使用了上述感光性转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法。附图说明图1是表示本专利技术的感光性转印材料的层结构的一例的概要图。图2是表示图案A的概要图。图3是表示图案B的概要图。具体实施方式以下，对本专利技术的内容进行说明。另外，参考附图进行说明，但是有时省略符号。并且，在本说明书中使用“～”表示的数值范围是指，包含记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值的范围。并且，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸以及甲基丙烯酸这两者或任一种，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯以及甲基丙烯酸酯这两者或任一种。另外，在本说明书中，组合物中存在多个相当于各成分的物质的情况下，只要无特别说明，则组合物中的各成分的量是指存在于组合物中的该多个物质的总量。在本说明书中“工序”一词不仅包含独立的工序，即使在无法与其他工序明确区分的情况下，只要能够达成工本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光性转印材料，其具有临时支承体、中间层及感光性树脂层，/n所述感光性树脂层包含聚合物及光产酸剂，所述聚合物包含具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元，/n所述感光性树脂层中所包含的所述聚合物是酸值为10mgKOH/g以下的丙烯酸树脂，/n所述中间层包含水溶性或碱溶性丙烯酸树脂，/n所述中间层与所述感光性树脂层接触。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180529 JP 2018-102135;20190326 JP 2019-0577991.一种感光性转印材料，其具有临时支承体、中间层及感光性树脂层，
所述感光性树脂层包含聚合物及光产酸剂，所述聚合物包含具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元，
所述感光性树脂层中所包含的所述聚合物是酸值为10mgKOH/g以下的丙烯酸树脂，
所述中间层包含水溶性或碱溶性丙烯酸树脂，
所述中间层与所述感光性树脂层接触。


2.根据权利要求1所述的感光性转印材料，其中，
所述感光性树脂层中所包含的所述丙烯酸树脂的酸值为0mgKOH/g～3mgKOH/g。


3.根据权利要求1或2所述的感光性转印材料，其中，
所述感光性树脂层中所包含的所述丙烯酸树脂进一步具有包含pKaH3以上的基团的结构单元。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性转印材料，其中，
所述中间层中的水溶性或碱溶性丙烯酸树脂为水溶性丙烯酸树脂。


5.根据权利要求4所述的感光性转印材料，其中，
所述水溶性丙烯酸树脂为具有酸基或碱性基并且所述酸基或碱性基的中和率为90摩尔％以上的水溶性丙烯酸树脂。


6.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性转印材料，其中，
所述中间层中的水溶性或碱溶性丙烯酸树脂为碱溶性丙烯酸树脂。


7.根据权利要求6所述的感光性转印材料，其中，
所述碱溶性丙烯酸树脂的酸值为30mgKOH/g～150mgKOH/g。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的感光性转印材料，其中，
所述中间层的平均膜厚为3μm以下。


9.根据权利要求1至8中任一项所述的感光性转印材料，其中，
所述中间层中的所述水溶性或碱溶性丙烯酸树脂包含具有羟基的树脂。
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【专利技术属性】
技术研发人员：藤本进二，汉那慎一，石坂壮二，两角一真，筱田克己，松田知树，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP