感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂膜、使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：树脂，包含源自设为均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体的非酸分解性的重复单元和具有酸分解性基团的重复单元；及化合物，由通式(P‑1)表示。环Q

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
本专利技术涉及一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。
技术介绍
为了补偿KrF准分子激光(248nm)用抗蚀剂以后由光吸收引起的灵敏度下降，使用称为化学增幅的图像形成方法作为抗蚀剂的图像形成方法。例如，作为正型化学增幅的图像形成方法，可举出如下图像形成方法：通过准分子激光、电子束及极紫外光等曝光，使曝光部的光产酸剂分解而生成酸，通过该曝光后的烘烤(PEB：PostExposureBake)将该产生酸作为反应催化剂进行利用而使碱不溶性的基团变为碱可溶性的基团，利用碱性显影液去除曝光部。另一方面，最近利用曝光光源的波长的微细化逐渐面临极限，尤其在注入工艺工序用途及NAND内存(NOTAND内存)中，以大容量化为目的的内存层的三维化逐渐成为主流。内存层的三维化需要增加沿纵向的加工阶段数，因此对抗蚀剂膜要求由以往的纳米尺寸向微米尺寸的厚膜化。例如，专利文献1及2中记载有用于形成厚膜光致抗蚀剂层的厚膜用化学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有树脂(A)及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，/n所述树脂(A)包含源自设为均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体的重复单元a1和具有酸分解性基团的重复单元a2，/n所述重复单元a1是非酸分解性的重复单元，/n通过所述光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含由下述通式(P-1)表示的化合物，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180905 JP 2018-1662791.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有树脂(A)及通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，
所述树脂(A)包含源自设为均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体的重复单元a1和具有酸分解性基团的重复单元a2，
所述重复单元a1是非酸分解性的重复单元，
通过所述光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物包含由下述通式(P-1)表示的化合物，



在上述通式(P-1)中，
Q1表示包含S+的环，
环Q1是4元环、5元环或6元环，其中，环Q1可以与其他环形成稠合环，
环Q1中，作为环元素，具有至少2个碳原子，与S+直接键合的环元素的原子为碳原子，
RP1～RP5分别独立地表示氢原子、羟基、卤原子、烷基、芳基、杂芳基或烷氧基，RP1～RP5中的至少2个任选键合而形成环，
Z-表示非亲核性阴离子。


2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
所述Q1是非芳香族环。


3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
所述Q1中，作为环元素，具有除了S+以外的杂原子。


4.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
由所述通式(P-1)表示的化合物是由下述通式(P-2)表示的化合物，



在上述通式(P-2)中，
RP1～RP5分别独立地表示氢原子、羟基、卤原子、烷基、芳基、杂芳基或烷氧基，RP1～RP5中的至少2个任选键合而形成环，
RP6～RP9分别独立地表示氢原子或取代基，
m1及m2分别独立地表示1或2，
RP6～RP9分别存在多个时，任选相同或不同，
m1表示2时，2个RP6彼此任选键合而形成环，
m2表示2时，2个RP8彼此任选键合而形成环，
M1表示杂原子或-CRP10RP11-，RP10及RP11分别独立地表示氢原子或取代基，
Z-表示非亲核性阴离子。


5.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
由所述通式(P-1)表示的化合物是由下述通式(P-3)表示的化合物，



在上述通式(P-3)中，
RP1、RP2、RP4及RP5分别独立地表示氢原子、羟基、卤原子、烷基、芳基、杂芳基或烷氧基，
RP6～RP9分别独立地表示氢原子或取代基，
m1及m2分别独立地表示1或2，
RP6～RP9分别存在多个时，任选相同或不同，
m1表示2时，2个RP6彼此任选键合而形成环，
m2表示2时，2个RP8彼此任选键合而形成环，
M1表示杂原子或-CRP10RP11-，RP10及RP11分别独立地表示氢原子或取代基，
RP12表示氢原子或烷基，
RP1、RP2、RP4、RP5及RP12中的至少2个任选键合而形成环，
Z-表示非亲核性阴离子。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
由所述通式(P-1)表示的化合物是由下述通式(P-4)或(P-5)表示的化合物，






在上述通式(P-4)及(P-5)中，
RP1、RP2、RP4及RP5...

【专利技术属性】
技术研发人员：米久田康智，畠山直也，椿英明，富贺敬充，东耕平，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP