【技术实现步骤摘要】
一种基板高速旋转的中心回转驱动系统
本技术涉及真空镀膜设备
,尤其是一种基板高速旋转的中心回转驱动系统。
技术介绍
真空镀膜设备可通过装载镀膜基板的基板架的旋转来实现膜厚均匀性。同时,通过磁流体机构的真空导入可实现大气到真空的基板架旋转驱动。另外,在成膜过程中,往往需要配置基板加热机构、温度检测机构和膜厚检测机构等功能部件。现有的真空镀膜设备是通过在大气侧设置马达,马达带动磁流体在真空侧内转动,再由磁流体连接基板架实现基板架旋转。基板加热机构、温度检测机构和膜厚检测机构等功能部件的真空导入一般独立于磁流体机构的真空导入。当基板架面积较小且需要对基板架上镀膜基板的工艺参数进行精密检测时,上述功能部件的真空导入方式存在占有空间较大和无法合理安装等缺陷;并且,容易对基板膜厚的均匀性产生不利影响。
技术实现思路
本技术的目的是根据上述现有技术的不足,提供了一种基板高速旋转的中心回转驱动系统,通过具有中空轴状结构的磁流体的导入实现大气到真空的基板旋转驱动,并可实现基板加热机构、温度检测机构和膜厚检测机构等功能部件的真空导入,具有结构紧凑和布局合理的优点,并有利于实现对镀膜过程的精密监控和控制膜厚均匀性。本技术目的实现由以下技术方案完成:一种基板高速旋转的中心回转驱动系统,其特征在于:包括通过设于大气侧内的驱动装置驱动的磁流体,所述磁流体为中空的轴状结构并且其两端分别设于大气侧和真空侧内,所述磁流体的中空结构连接基板治具,并且所述基板治具设于所述磁流体的处于真空侧的一端,所述基板治具可在 ...
【技术保护点】
1.一种基板高速旋转的中心回转驱动系统,其特征在于:包括通过设于大气侧内的驱动装置驱动的磁流体,所述磁流体为中空的轴状结构并且其两端分别设于大气侧和真空侧内,所述磁流体的中空结构连接基板治具,并且所述基板治具设于所述磁流体的处于真空侧的一端,所述基板治具可在所述磁流体的带动下进行旋转。/n
【技术特征摘要】
1.一种基板高速旋转的中心回转驱动系统,其特征在于:包括通过设于大气侧内的驱动装置驱动的磁流体,所述磁流体为中空的轴状结构并且其两端分别设于大气侧和真空侧内,所述磁流体的中空结构连接基板治具,并且所述基板治具设于所述磁流体的处于真空侧的一端,所述基板治具可在所述磁流体的带动下进行旋转。
2.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴萍,龙汝磊,黄永长,
申请(专利权)人:光驰科技上海有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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