用于平版印刷版涂料的新材料、含这些新材料的平版印刷版和涂料以及制备方法和用途技术

技术编号:2751433 阅读:142 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及包含能进行阳离子或自由基聚合的官能团的碘鎓盐、缩醛共聚物和聚合物粘合剂,它们的制备方法以及它们在涂料制备中的用途。本发明专利技术还涉及含碘鎓盐、缩醛共聚物和/或聚合物粘合剂的涂布液和涂层,并涉及包含这类涂层的阴图平版印刷版。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及适用于平版印刷版涂料的新材料,以及涉及含这些材料 的印刷版、涂层和涂布液。更具体地说,这些新材料和涂布液适用于制 备通过近红外激光辐射直接数字成像的平版胶印版的涂层。
技术介绍
在印刷机上可显影的阴图平版胶印版(negative-working lithographic offset printing plate)是现有技术已知的。例如,US专利5,569,573教j了 包含激光成像层、含有在亲水聚合物粘合剂中的銜欧嚢化亲油材料的平版 印刷版。EP0 770 495A1教导了包含近红外吸收材料、聚合物粘合剂和在 热作用下能聚结的热塑性塑料颗粒的平版印刷版。US专利6,983,694教导 了涂有近红外敏感涂料组合物的在印刷机上可显影的阴图胶印版,所述涂 料组合物包含诸如聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物颗粒之类的热塑性聚 合物颗粒、非反应性亲水聚合物粘合剂和近红外吸收染料。此外,US专利6,262,740教导了涂有近红外敏感^)"组合物的阴图胶 印版,所述涂料组合物含有甲氧基甲基丙烯酰胺共聚物、酚醛树脂、碘锵 盐和近红外吸收染料。US专利6,124,425和6,177,182教导了涂有热近红外 吸收聚合物的在印刷机上可显影的阴图胶印版,所述聚合物在暴露于近红 外辐射时通过阳离子聚合发生交fi^应。近红外发色部分通过醜和绘睫官 能化到聚合物骨架上。US专利6,960,422教导了阴图胶印版,它含有近红 外敏感底漆组合物,所述底漆组合物包含分子近红外染料、自由基生成物、 可自由基聚合的尿烷化合物、反应性聚合物粘合剂和其它添加剂。此外,US专利6,969,575和7,001,704教导了带有成像层、包含近红外 吸收微胶嚢和酸生成化合物的在印刷机上可显影的阴图胶印版。US专利 6,582,882和未决US专利申请10/066,874; 10/119,454和2005/0123853教 导了涂有热可成像组合物的在印刷机上可显影的阴图胶印版,所述热可成 像组合物含有聚合物粘合剂、引发剂体系和可聚合组分。所述聚合物粘合剂是带有非反应性聚环氧乙烷和聚丙烯嵌段的共聚物,或含有与丙烯腈、 苯乙烯和其它单体共聚的非反应性聚环氧乙烷侧链的接枝共聚物。可聚合 组分是含多个丙烯酸官能团的粘性液态低聚物。《1发剂体系含近红外吸收 染料和自由基生成化合物,如三嗪,和碘错盐。所有上述涂料组合物和印版都具有一些缺点,如具有造成处理和贮存 困难的粘性表面、发生相分离和/或表面结晶、难以制备、需要高激光功率来实现成像、基体粘结性差和由此导致的无法提供足够的印刷机上运行时 间、在印刷机上不可显影、具有差的耐刮擦性、需要軍面涂层和/或特殊的基体表面处理以及制备成本高。因此仍需要适用于平版印刷版的能克服现有技术中部分或全部缺点的 新材料和新M。
技术实现思路
本专利技术涉及碘铕盐、缩醛共聚物(acetal copolymer)和聚合物粘合剂, 各包含至少一个能发生阳离子或自由基聚合的官能团。本专利技术还涉及制备本专利技术的碘铕盐、缩醛共聚物和聚合物粘合剂的方 法。更具体地,制备本专利技术碘镭盐的一种方法包括在碘錄盐上连接侧基, 其中侧基由单异氰酸酯、二异氰酸酯或多异氰酸酯与被一个或更多个各自 独立地选自丙烯睃基(acrylate)、甲基丙烯睃基(methacrylate)和乙烯 基91^ (vinyl-ether)的基团封端的胺或醇反应而成。本专利技术还涉及本专利技术的碘镭盐、缩醛共聚物和聚合物粘合剂或它们的 混合物在涂布液制备中的用途,并涉及用这些涂布液所产生的涂层。本专利技术还涉及涂布液,以及涉及包含本专利技术的涂层和/或碘错盐、缩醛 共聚物和聚合物粘合剂的阴图平版印刷版。趟X^絲錄崖本专利技术涉及包含连接两个芳环的荷正电碘原子和荷负电的反离子的碘 错盐。当这些盐暴露于近红外辐射或热中时,它们是自由基和酸生成物。本专利技术的碘铕盐包含一个或更多个能发生自由基和/或阳离子聚合的 官能团。在热的作用下,碘铕盐将产生自由基和酸,它们将引发这些官能 团的自由基或阳离子聚合。这有助于在涂层的辐射区内形成网络。更具体地,本专利技术的碘錄、盐可含有可自由基聚合的基团,如丙烯g、甲基丙烯酸基和乙烯基醚基。这些可自由基聚合的基团可通过氨酯键和/或脲键悬挂到盐的芳环上。这些盐可具有以下通式结构<formula>formula see original document page 48</formula>其中:■ Al代表选自甲^酸根、三氟甲磺酸根、六氟锑酸根、四氟硼酸 根、四苯基硼酸根和三苯基正烷基硼酸根的阴离子型反离子;■ w代表重复单元数且可以在0 ~ 18之间变化;■ R8和R9独立地代表氢、线型或支化的C广ds烷基、烷氡基、 聚环氧乙烷、聚环氧丙烷,且可包含丙烯酸基、甲基丙烯g和乙烯基醚 基端基(在碘错IV和V的情况下,R8、 R9或R8和R9两者的确包含这类 丙烯酸基、甲基丙烯酸基和乙烯基醚基端基);和■ Yl和Y2独立地代表含尿烷和/或脲的化合物,所述含尿烷和/或脲 的化合物包含一个或更多个可聚合官能团,如丙烯酸基、甲基丙烯酸基或 乙烯基絲。在更具体的实施方案中,Yl和/或Y2可以由单异氰酸酯、二异氰酸酯 和/或多异氰酸酯与包含一个或更多个丙烯酸基、曱基丙烯酸基和/或乙烯 基醚基端基的胺或醇反应而成。这些异氰酸酯化合物可以是Bayer Canada 销售的DesmodurTMN100、 Desmodur N3300、 Desmodur CB 75N、 DesmodurTM I、 Desmodur W、 Desmodur M、 Desmodur H和 Desmodur TD 80。在一个具体实施方案中,所述醇包含多个丙烯酸基端基。这类醇可得 自Sartomer。这种醇可以是季戊四醇三丙烯酸酯(商品名为SR444)和二季 戊四醇五丙烯酸酯(商品名为SR399)。在另一个具体实施方案中,所述醇包含一个丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯 化合物并可得自Sigma-Aldrich Canada。所述醇可以是丙烯酸2-羟乙酯、 甲基丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸4-幾丁酯、甲基丙烯酸4-羟丁酯、丙烯酸6-羟己酯、甲基丙烯酸6-羟己酯、丙烯酸聚乙二醇酯、甲基丙烯酸聚乙二醇 酯、丙烯酸聚丙二醇酯和甲基丙烯酸聚丙二醇酯。Yl和Y2可具有以下化学结构<formula>formula see original document page 49</formula><formula>formula see original document page 50</formula>,或其中:)=。 Om 在1~18之间变4匕, R是氢或甲基,R10是氢或者线型或支化的CI ~ C18烷基链;和Ql和Q2独立地代表包含一个或更多个可聚合官能团的端基化合物,更具体地,Q1和Q2可独立地具有以下结构中的任何结构,或其中R是氢或甲基。不带有反应性(可聚合)官能团的含尿烷碘错盐的合成可参见US专利 6,380,277,该文献通过引用并入本文。本专利技术的碘错盐可用来制备涂布液和涂料。这类涂料可包含以固体重 量计约5 ~约60 wt。/o的碘错。涂层通常通it本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种碘鎓盐,所述碘鎓盐具有连接于其上的至少一个第一官能团,所述第一官能团能发生阳离子聚合或自由基聚合。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:美T源马克安德烈洛卡斯
申请(专利权)人:美洲染料资源公司
类型:发明
国别省市:CA[加拿大]

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