提供了粒径为约６０ｎｍ至约１０００ｎｍ的含有聚合物的聚合物粒子，所述聚合物包含疏水性主链、结合了吸收峰在约７００ｎｍ至约１１００ｎｍ之间的近红外吸收发色团的近红外吸收链段、以及近红外透射链段。还提供了制备这些粒子的方法。还提供了含有上述聚合物粒子和反应性碘鎓低聚物的涂料组合物。最后，还提供了包括版基、亲水性下层和可激光成像的上层的阴图平版胶印版，其中所述可激光成像的上层包含上述聚合物粒子。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于平版印刷版用涂料的聚合物粒子以及含有这些粒 子的印版和涂料。更具体而言，这些新的聚合物粒子和涂料可用在制备 通过近红外激光辐射直接数字成像的平版胶印版中。背景纟支术印刷机上可显影的(on-press developable)阴图(negative working)平 版胶印版是现有技术中已知的。例如，美国专利5，569，573教导了包括 激光成像层的平版印刷版，所述激光成像层含有在亲水性聚合物粘合剂 中的微嚢化亲油性材料。EP 0 770 495教导了含有近红外吸收材料、聚合物粘合剂和能在热 条件下聚结的热塑性粒子的平版印刷版。美国专利6，983，694教导了涂敷有近红外敏感型涂料组合物的印刷 机上可显影的阴图平版胶印版，所述近红外敏感型涂料组合物含有热塑 性聚合物粒子(例如聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物粒子)、非反应性亲 水性聚合物粘合剂和近红外吸收染料。美国专利6,262,740教导了涂敷有近红外敏感型涂料组合物的阴图 胶印版，所述近红外敏感型涂料组合物含有甲氧基甲基丙烯酰胺共聚 物、酚醛树脂、碘铩盐以及近红外吸收染料。美国专利6,124,425和6,177,182教导了涂敷有热反应性近红外吸收 共聚物的印刷机上可显影的阴图平版胶印版，所述热反应性近红外吸收 共聚物在暴露于近红外辐射时通过阳离子聚合进行交联反应。近红外发色团部分通过醚键和铵键官能化至聚合物主链上。这些近红外吸收聚合 物作为均相溶液制备。美国专利6,960,422教导了制备阴图胶印版，其包含含有分子型近 红外染料、自由基发生剂、可自由基聚合的氨基甲酸酯化合物、反应性 聚合物粘合剂和其它添加剂的近红外敏感型底漆组合物(base-coat composition)。欧洲专利1234662教导了制备阴图胶印版，所述阴图胶印版的涂料 组合物包含近红外吸收剂、铩引发剂和含有聚环氧乙烷侧链的氨基甲酸 酯聚合物。这些氨基甲酸酯聚合物不吸收近红外辐射。美国专利6,969,575和7,001,704教导了具有成像层的印刷机上可显 影的阴图胶印版，所述阴图胶印版包含近红外吸收微胶嚢和产酸剂化合 物。相似地，美国专利7,001,673和7,078,145教导了制备印刷机上可显 影的阴图胶印版。所述涂料组合物包含近红外吸收微胶嚢，其是利用高 速匀浆器在亲水性聚合物水溶液中乳化含有疏水性聚合物的油相、近红 外吸收剂和引发剂而制备的。这些微胶嚢的制备是复杂的，这些涂层表 现出差的抗划伤性并且需要保护层。美国专利6,037,102和欧洲申请1117005教导了制备含有接枝有聚环 氧乙烷侧链的共聚物的阴图光敏感型涂料组合物。这些共聚物不吸收近 红外辐射。美国专利6,582,882教导了制备用于胶印版中的含有聚环氧乙烷侧 链的"接枝"聚合物和共聚物，所述聚环氧乙烷侧链^皮接枝在非交联的疏 水性聚合物主链上。这些聚合物不吸收近红外辐射。美国专利6,899,994和共同未决的美国专利申请2003/0157433、 2003/0664318和2005/0123853教导了涂敷有含有聚合物粘合剂、引发 剂体系和可聚合成分的可热成像组合物的印刷机上可显影的阴图胶印 版。所描述的聚合物粘合剂是含有聚环氧乙烷和聚丙烯嵌段的非交联共 聚物或是与疏水性单体共聚合的接枝共聚物，所述疏水性单体例如苯乙 烯、取代的苯乙烯、a-甲基苯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈、 丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、卣乙烯、乙烯酯、乙烯醚和a-烯烃。所述可12聚合成分是含有多个丙烯酸类官能团和曱基丙烯酸类官能团的粘性液 体低聚物。所述引发剂体系含有近红外吸收染料和产生自由基的化合 物，例如三溱和碘f翁盐。所有这些涂料组合物和印刷版均显示出一些缺点，例如具有发粘的 表面使得难于处理和储存、储存时表现出相分离和/或表面结晶、需要强激光功率以实现成像、版基(substrate)粘附性差并且因此不能提供足 够的印刷机上运转周期、由于染料着色引起背景调色(background toning)而不能在印刷机上显影、表现出差的抗划伤性、需要保护层和/ 或特殊的版基表面处理以及生产成本昂贵或难于制备。因此，仍然需要能克服现有技术的一些或全部缺点的用于平版印刷 版的新材料和新涂料。本说明书涉及多篇文件，其全部内容在此通过引用并入本文。
技术实现思路
首先，本专利技术涉及粒径为约60nm至约1000nm的含有聚合物的聚 合物粒子。该聚合物包含(a)疏水性主链，(b)结合了吸收峰在约700nm 至约1100nm之间的近红外吸收发色团的近红外吸收链段；以及(c)近红 外透射链段。在一些实施方案中，聚合物粒子的粒径可在约200nm至600nm之 间。而且，在一些实施方案中，聚合物的分子量可以为约3000道尔顿 或更大。在一些特定实施方案中，所述聚合物可具有下述结构G1 G2 ; a lb其中 Gl表示吸收链段； G2表示透射链段； G1和G2形成疏水性主链；a和b独立地表示在0.01至0.99之间的摩尔比；以及 发色团作为侧基通过共价键或静电相互作用与疏水性主链相结合。 在一些实施方案中，所述吸收链段可包含其中 NIR表示发色团； Rl表示氢或d-ds烷基； X表示溴化物、氯化物、碘化物、曱苯磺酸盐、三氟甲磺酸盐、三 氟甲烷碳酸盐、十二烷基苯磺酸盐、四苯基硼酸盐、烷基-三苯基硼 酸盐、四氟硼酸盐或六氟锑酸盐的阴离子型反离子； M表示氧、硫或二烷基氨基； a表示0.01至0.99之间的摩尔比； m表示l至5的重复单元数。<formula>formula see original document page 14</formula>或<formula>formula see original document page 14</formula>在其它一些实施方案中，吸收链段可包含通过共价键将发色团结合到聚合物主链上的聚醚连接体。更具体而言，所述吸收链段可包含<formula>formula see original document page 15</formula>其中 a表示在0.01至0.99之间的摩尔比; R表示氬或曱基； Rl表示d-Q烷基或d-C8烷氧基; w表示10至50的重复单元数； m表示l至10的重复单元数； Y表示线型或支化的CVC4烷基；Q表示间隔基； NIR表示发色团；以及 L表示<formula>formula see original document page 16</formula>其中，Q-NIR基团和(YO)沐基团已清楚地指明并且j表示0至10的重复 单元数；在一些更特定的实施方案中，所述间隔基可以是<formula>formula see original document page 16</formula>其中，L和NIR基团已清楚地指明；R2表示d-Q烷基或d-Q烷氧 基；R3与R2相同或者是被H或R2取代的苯环；以及A表示阴离子。 在一些实施方案中，该阴离子可以是溴化物、氯化物、碘化物、甲苯磺 酸盐、四苯基硼酸盐、烷基本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种粒径为约６０ｎｍ至约１０００ｎｍ的含有聚合物的聚合物粒子，所述聚合物包含： （ａ）疏水性主链， （ｂ）结合了吸收峰在约７００ｎｍ至约１１００ｎｍ之间的近红外吸收发色团的近红外吸收链段；以及 （ｃ）近红外透射链段。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：马克安德烈洛卡斯，美T阮，
申请(专利权)人：美洲染料资源公司，
类型：发明
国别省市：CA[加拿大]
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