光掩模传送方法技术

本发明专利技术提供一种光掩模传送支撑座（ｒｅｔｉｃｌｅ　ｔｒａｎｓｆｅｒｒｉｎｇ　ｓｕｐｐｏｒｔ）。该光掩模传送支撑座包括有一支撑基座用来容纳一光掩模，多个支撑点用来支撑该光掩模，以及多个固定架用来固定该光掩模。该各支撑点是由软性塑胶材质组成的椭圆形结构，并可调整位置避免在该光掩模背面造成刮痕。该各固定架内侧为一倾斜面，可在载入光掩模时自动固定该光掩模的位置。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光掩模传送支撑座(reticle transferring support)，特别是涉及一种可避免光掩模磨损的光掩模传送支撑座。
技术介绍
光刻制作工艺(photolithography)可以说是整个半导体制作工艺中，相当举足轻重的步骤之一。例如与MOS元件的结构相关的，如各层薄膜的图案(pattern)以及掺质(dopant)的区域，都是经由光刻制作工艺这个步骤来决定的。光刻制作工艺的基本步骤，是先于半导体晶片(wafer)表面覆上一层感光材料(photo-sensitive material)，接着利用一平行光穿过一以玻璃为主体的光掩模(reticle)后，照射在感光材料之上。由于光掩模上具有一基体线路的布局(layout)图案，所以感光材料便得以进行选择性(selective)的感光反应，以将光掩模上的图案转移(transfer)至半导体晶片上。一般而言，光掩模包括有一平坦且透明的玻璃或石英当作基板，以及一层厚度约1000的铬膜覆盖在光掩模的表面上，制作光掩模时利用一蚀刻制作工艺对该铬膜进行蚀刻，使该光掩模表面形成一包括有可透光区及不透光区的布局(layout)图案，以便之后可以利用光刻制作工艺进行图案转移。因此为了保护布局图案，目前大多是将光掩模放置在一光掩模盒中，利用机械手臂(robot)将光掩模盒传送至曝光机(exposure apparatus)等机台，以避免光掩模表面刮痕的产生。图1与图2为现有一光掩模盒的光掩模支撑座10的上视图与剖视图。如图1所示，光掩模支撑座10包括有一支撑基座12，其上具有四个长方型的支撑点14，用以支撑一光掩模16。为符合SEMI(semiconductor equipment& material international)标准，光掩模支撑座10左右两侧必须保留0.95mm的间距(例如SMIF pod)，以利于光掩模的载入/载出等操作，然而此一间距却使得操作人员利用光掩模夹以手动方式置入光掩模16后不易固定光掩模16的位置，尤其若放置位置偏差太大时，会影响后续曝光机台以机械手臂真空吸附光掩模的动作，因此操作人员必须调整光掩模16至适当位置。然而利用人力调整光掩模16位置，可能因为人为疏失而导致光掩模16位置偏差，且在调整过程中也会因为光掩模16背面与接触点14间的摩擦而使光掩模背面产生刮痕而在曝光时产生像面倾斜等问题，严重影响光掩模正常运作。如图2所示，现有光掩模支撑座10的支撑点14为一长方形结构，其与光掩模16的接触面积较大，不仅容易在调整光掩模位置时造成光掩模污染，且可能导致光掩模边缘条码区(未显示)与真空吸附区(未显示)的损坏。请参考图3，图3为现有方法将一光掩模置入一光掩模盒中的一光掩模传送方法的流程图。如图3所示，现有光掩模传送方法包括有下列步骤步骤30开始；步骤34利用一光掩模开阖器将光掩模盒开启；步骤34利用一光掩模夹以人工方式将光掩模放置于光掩模盒内的支撑座上；步骤36调整光掩模位置；步骤38利用光掩模开阖器将光掩模盒关闭；步骤40结束。在现有光掩模传送方法中，首先必须利用一光掩模开阖器，例如AsystALU opener，将光掩模盒开启，然后利用一光掩模夹以人工方式将光掩模放入光掩模盒内的支撑座上并调整光掩模至适当位置，最后再利用光掩模开阖器将光掩模盒关闭。然而如前所述，在现有方法中由于光掩模盒内的支撑座为了符合SEMI标准，支撑座左右两侧需保留0.95mm的间距，且支撑点14为长方形，与光掩模接触面积过大，极易造成光掩模底部的刮痕、光掩模位置偏差或光掩模倾斜造成后续曝光机台在载入光掩模时产生问题。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种光掩模传送支撑座，以解决上述现有技术中因光掩模背面与支撑座的摩擦造成光掩模表面产生刮痕，及光掩模位置偏差等问题。本专利技术的目的是这样实现的，即提供一种光掩模传送支撑座，可以自动固定光掩模的位置，避免光掩模背面因摩擦产生刮痕，之后并可配合一光掩模储存机台的机械手臂自动将光掩模载入一光掩模盒中，以排除现有技术中以人工方式载入光掩模可能产生的人工疏忽和损失。该光掩模传送支撑座包括有一支撑基座，用来容纳一光掩模，多个支撑点，用以支撑该光掩模，以及多个固定架，用来固定该光掩模的位置。其中该各固定架的内侧为一倾斜平面或是一倾斜圆弧面的设计，可以有效固定该光掩模在支撑座上的位置。由于本专利技术的光掩模传送支撑座上设置的固定架内侧具有一倾斜面设计，因此在利用光掩模夹将光掩模置入支撑座内的同时光掩模位置即自动被固定，可省略现有技术中调整光掩模位置的步骤，并且避免光掩模背面因摩擦所产生的刮痕。此外，本专利技术的光掩模传送支撑座可进一步利用一光掩模储存机台的机械手臂准确地将光掩模载入光掩模盒中，因此可解决现有技术中以人工方式载入光掩模所造成的光掩模位置偏差问题。附图说明图1为现有一光掩模传送支撑座的上视图；图2为现有一光掩模传送支撑座的剖视图；图3为现有一光掩模传送方法的流程图；图4为本专利技术一光掩模传送支撑座的上视图；图5为本专利技术一光掩模传送支撑座的剖视图；图6为本专利技术一光掩模传送方法的流程图。具体实施例方式请参考图4与图5。图4与图5为本专利技术一光掩模盒的光掩模传送支撑座50的上视图与剖视图。如图4与图5所示，本专利技术光掩模传送支撑座50包括有一支撑基座52，用以容纳一光掩模58，多个支撑点54，用以支撑光掩模58，以及多个固定架56，用以固定光掩模58的位置。值得注意的是，本专利技术光掩模传送支撑座50上所设置的支撑点54具有一椭圆形的结构，因此与光掩模的接触面积较小，且支撑点54的位置可作适度调整，使支撑点54的位置避开光掩模58上的条码区(未显示)与真空吸附区(未显示)，进而避免上述区域与支撑点间的摩擦造成光掩模损坏。支撑点54由较柔软的材质(如塑胶)所构成，也可避免伤害光掩模58背面。此外由于本专利技术光掩模传送支撑座50的固定架56的内侧形状为一倾斜面或是一倾斜圆弧面的设计，因此当光掩模58被置入支撑基座52上时光掩模会与固定架56紧密接触而自动被固定，不会产生光掩模位置偏差的问题。请参考图6，图6为本专利技术光掩模传送方法的流程图。如图6所示，本专利技术光掩模传送方法包括有下列步骤步骤100开始；步骤102将光掩模传送支撑座与光掩模盒放置于光掩模储存机台的载入平台(load port)上的两侧；步骤104利用光掩模夹将光掩模放置在光掩模传送支撑座内；步骤106开启光掩模盒；步骤108利用光掩模储存机台的机械手臂将光掩模取出；步骤110利用机械手臂将光掩模载入光掩模盒中；步骤112关闭光掩模盒；步骤114结束。由此可知本专利技术的光掩模传送方法利用本专利技术的光掩模传送支撑座作为光掩模传送介面，并配合一光掩模储存机台来完成传送光掩模的动作。如前述的光掩模传送流程，首先将光掩模传送支撑座与光掩模盒并列放置于光掩模储存机台的载入平台(load port)上。其中光掩模储存机台本身是作为储存光掩模之用，但由于机台上装设的机械手臂具有传送光掩模的功能，故在本专利技术的光掩模传送方法中可作为搬运传送光掩模的用途。接着利用光掩模夹以人工方式将光掩模放置于本专利技术的光掩模传送支撑座内，此时由于光掩模传送支撑座上设置有固定架可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光掩模传送支撑座（ｒｅｔｉｃｌｅ　ｔｒａｎｓｆｅｒｒｉｎｇ　ｓｕｐｐｏｒｔ），包括有：一支撑基座（ｓｕｐｐｏｒｔｉｎｇ　ｂａｓｅ），用来容纳一光掩模；多个支撑点（ｂｒａｃｅ），设置于该支撑基座上用以支撑该光掩模；以及 多个固定架（ｈｏｌｄｅｒ），设置于该支撑基座的边缘部分用以固定该光掩模的位置；其中该各固定架用来使得该光掩模被载入该支撑基座后可与该各固定架内侧的部分端点相接触，以避免该光掩模产生水平位移。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林柏青，
申请(专利权)人：力晶半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]