平版印刷板前体和平版印刷方法技术

一种包括亲水支持体、底涂层和激光敏感的光致聚合层的平版印刷板前体，其中所述底涂层包括含有（ａ１）具有至少一个烯键式不饱和键的重复单元和（ａ２）具有至少一个能够与支持体表面相互作用的官能团的重复单元的共聚物，并且所述重复单元（ａ１）是由本文中定义的通式（Ａ１）表示的重复单元。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种能够进行所谓直接制版的平版印刷板前体，它可以以例如来自计算机的数字信号为基础，通过激光束扫描被直接制版；本专利技术还涉及一种使用该平版印刷板前体的平版印刷方法。
技术介绍
迄今，阴图平版印刷板前体(阴图PS版)已经是公知的并且各种光敏层(图像记录层)也是已知的。举例来说，光敏层包括含重氮树脂型、光聚合型和光交联型。为了制备平版印刷板，通常在这种平版印刷板前体上面布置透明的阴性原图(一种印刷膜(lith film))并使用紫外线成影象地曝光平版印刷板。但是，这种操作需要大量的时间和精力。最近几年，随着图像形成技术的进步，已经开发了计算机制版技术，其中基于例如来自计算机的数字信号，通过激光曝光直接对平版印刷板前体进行制版而不用印刷膜。另外，已经开发了用于这些技术的高敏感激光记录系统的平版印刷板前体。对于在激光记录系统的平版印刷板前体中使用的光敏层，从高敏感性角度光聚合型是最适合的。但是，因为光致聚合型敏感层(光聚合层)与支持体的粘附性不一定是强的，所以发生当使由其制备的平版印刷板接受高速和大量印刷时，固体图像部分不合格并且细线或高亮部分变薄或者漏掉的缺点。因此，光敏层和支持体之间的光粘附性是高敏感的光聚合型平版印刷板前体中的重要因素，并且已经进行大量的研究和开发。举例来说，已提出了在光聚合型光敏层和支持体之间提供包含具有烯键式不饱和键的可聚合基团和磷酸基团的聚合物(参考JP-A-2-304441(本文使用的术语“JP-A”是指“未审公布的日本专利申请”))。另外，如下的技术也是已知的，其中通过共价键在支持体表面上提供能够引起自由基加成反应的官能团，从而对光致聚合型的光敏层赋予粘附性(参考JP-A-3-56177、JP-A-7-159838和JP-A-8-320551)。此外，在光敏层和支持体之间提供包含通过具有乙烯双键的硅烷偶联剂的水解和脱水缩合制备的化合物以及在其分子中具有氧化烯链和丙烯酰基或者甲基丙烯酰基的化合物的层也是已知的(参考JP-A-10-282679)。另外，在光敏层中结合具有(甲基)丙烯酰基的磷酸酯化合物以改善与支持体的粘附性的技术是已知的(参考JP-A-11-30858)。
技术实现思路
但是，从实用角度角度，迄今已知的技术在细线条再现性、印刷耐久性、抗污性和机上(on-machine)显影性中的任何一个方面仍是不足的。因此，需要进一步的改善。本专利技术的目的是响应这些需求。更具体地说，本专利技术的目的是提供一种平版印刷板前体，其能够在用激光曝光图像后进行机上显影，并且在细线条再现性、印刷耐久性和抗污性方面是优异的，并且提供一种平版印刷方法。1.一种平版印刷板前体，其包括亲水支持体、底涂层和激光敏感的光致聚合层，其中所述底涂层包含至少含有(a1)具有至少一个烯键式不饱和键的重复单元和(a2)具有至少一个能够与支持体表面相互作用的官能团的重复单元的共聚物，并且所述重复单元(a1)是由下面通式(A1)表示的重复单元 其中R1至R3每个独立地代表氢原子、具有1-6个碳原子的烷基或者卤原子；R4至R6每个独立地代表氢原子、具有1-6个碳原子的烷基、卤原子、酰基或者酰氧基，或者R4和R5或R5和R6可以彼此结合成环；A表示氧原子或者NR7；R7表示氢原子或者具有1-10个碳原子的单价烃基；并且L1表示直链连接基团。2.如上面1中所述的平版印刷板前体，其中所述共聚物进一步包含(a3)具有至少一个亲水基团的重复单元。3.一种平版印刷板前体，其包括亲水支持体、底涂层和激光敏感的光致聚合层，其中所述底涂层包含至少含有(a1)具有至少一个烯键式不饱和键的重复单元、(a2)具有至少一个能够与支持体表面相互作用的官能团的重复单元和(a3)具有至少一个亲水基团的重复单元的共聚物，并且所述重复单元(a3)是由下面通式(A3)表示的重复单元 其中R1至R3每个独立地代表氢原子、具有1-6个碳原子的烷基或者卤原子；A表示氧原子或者NR7；R7表示氢原子或者具有1-10个碳原子的单价烃基；L1表示直链连接基团；并且W表示亲水基团。4.如上面1-3中任何一项所述的平版印刷板前体，其中所述共聚物的重均分子量至少为20,000。5.如上面1-4中任何一项所述的平版印刷板前体，其中所述光致聚合层包含红外吸收剂。6.如上面1-5中任何一项所述的平版印刷板前体，其中所述光致聚合层包含微胶囊或微凝胶。7.一种平版印刷方法，其包括在将如上面1-6中任何一项所述的平版印刷板前体装载到印刷机上并且对其进行成影象的激光曝光后，或者在对如上面1-6中任何一项所述的平版印刷板前体进行成影象的激光曝光并且将曝光的平版印刷板前体装载到印刷机上后，向曝光的平版印刷板前体供应印刷油墨和润湿水(damping water)以除去曝光的平版印刷板前体的光致聚合层的激光未曝光区域，从而进行印刷。根据本专利技术，通过向提供在激光敏感的光致聚合层和支持体之间的底涂层中结合上述聚合物可以实现上述目的。这种功能的机理不是十分清楚，但是据信原因如下。随着光致聚合层中由于曝光引发的自由基加成反应的进行，因为底涂层中存在的共聚物具有烯键式不饱和键，所以加成反应同时在底涂层中以及光致聚合层与底涂层之间的界面处进行。结果，光致聚合层与底涂层间的粘附力增加。此外，因为所述共聚物包含能够与支持体的表面相互作用的官能团，所以在机上显影后形成露出底涂层的未成像区域。当共聚物包含亲水基团时，亲水基团在表面上取向，从而油墨难以附着到未成像区域上并因此改善了抗污性。根据用于本专利技术的共聚物，优选烯键式不饱和基团和亲水基团中至少任何一种通过连接基团远离共聚物主链，从而构成可移动的结构。可移动的烯键式不饱和基团表现出增加的反应性，从而甚至在少量曝光下也能增加底涂层和光致聚合层之间粘附性，从而增加图像的强度。结果，可以实现敏感性和印刷耐久性的进一步提高。另一方面，可移动的亲水基团响应润湿水更快，从而容易在表面上取向，因而还改善了抗污性。根据本专利技术，提供了一种能够在用激光曝光图像后进行机上显影，并且在细线条再现性、印刷耐久性和抗污性方面优异的平版印刷板前体，并且提供了一种平版印刷方法。具体实施例方式在根据本专利技术的底涂层的一个实施方案(本专利技术的实施例1)中，底涂层的特征为包括至少含有(a1)具有至少一个烯键式不饱和键的重复单元和(a2)具有至少一个能够与支持体表面相互作用的官能团的重复单元的共聚物，其中所述重复单元(a1)是由下面所示通式(A1)表示的重复单元。在根据本专利技术的底涂层的另一个实施方案(本专利技术的实施例2)中，底涂层的特征为包括至少含有(a1)具有至少一个烯键式不饱和键的重复单元、(a2)具有至少一个能够与支持体表面相互作用的官能团的重复单元和(a3)具有至少一个亲水基团的重复单元的共聚物，其中所述重复单元(a3)是由下面所示通式(A3)表示的重复单元。根据本专利技术的实施方案1，优选所述共聚物进一步包含具有至少一个亲水基团的重复单元。根据本专利技术的共聚物还指下面的特定共聚物。 在通式(A1)中，R1至R3每个独立地代表氢原子、具有1-6个碳原子的烷基或者卤原子；R4至R6每个独立地代表氢原子、具有1-6个碳原子的烷基、卤原子、酰基或者酰氧基，或者R4和R5或者R5和R6可以彼此结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种平版印刷板前体，其包括亲水支持体、底涂层和激光敏感的光致聚合层，其中所述底涂层包括含有（ａ１）具有至少一个烯键式不饱和键的重复单元和（ａ２）具有至少一个能够与支持体表面相互作用的官能团的重复单元的共聚物，并且所述重复单元（ａ１）是由下面通式（Ａ１）表示的重复单元：　　　　＊＊＊　　（Ａ１）　　　　其中Ｒ↓［１］至Ｒ↓［３］每个独立地代表氢原子、具有１－６个碳原子的烷基或者卤原子；Ｒ↓［４］至Ｒ↓［６］每个独立地代表氢原子、具有１－６个碳原子的烷基、卤原子、酰基或者酰氧基，或者Ｒ↓［４］和Ｒ↓［５］或者Ｒ↓［５］和Ｒ↓［６］可以彼此结合成环；Ａ表示氧原子或者ＮＲ↑［７］；Ｒ↑［７］表示氢原子或者具有１－１０个碳原子的单价烃基；并且Ｌ↓［１］表示直链连接基团。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山崎纯明，远藤章浩，
申请(专利权)人：富士胶片控股株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]