阶段性控制显影工艺的方法技术

一种阶段性控制显影工艺的方法。首先，提供多个基板，且各基板上具有一光阻层。然后利用一输送带（ｃｏｎｖｅｙｏｒ）输送所述的基板进行一显影工艺，并于该输送带进行输送时阶段性改变该输送带的输送速度，以控制该显影工艺中各基板的显影速度并藉以控制该光阻层在显影时的线宽。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种控制显影工艺的方法，尤指一种阶段性控制显影工艺中各基板的显影速度的方法，即改变显影时间。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(以下简称TFT-LCD)，主要是利用成矩阵状排列的薄膜晶体管，并配合适当的电容、转接垫等电子组件来驱动液晶像素，以产生丰富亮丽的图形。由于TFT-LCD具有外型轻薄、耗电量少以及无辐射污染等特性，因此被广泛地应用在笔记本计算机(notebook)、个人数字助理(PDA)等携带式信息产品上，甚至已有逐渐取代传统桌上型计算机的CRT监视器以及家用电视的趋势。一般而言，TFT-LCD包含有一薄膜晶体管基板，其上具有许多排列成数组的薄膜晶体管、像素电极(pixel electrode)、多条互相垂直交错(orthogonal)的扫瞄线(scan or gate line)以及信号线(data or signal line)，一具有多个数组排列的彩色滤光片(color filter)的彩色滤光基板，以及填充于薄膜晶体管基板与彩色滤光基板之间的液晶材料。其中，薄膜晶体管组件是利用多道沉积、微影暨蚀刻(PEP)工艺制作于薄膜晶体管基板表面，而彩色滤光片则是利用微影工艺或是直接印刷技术制作于彩色滤光基板表面，使LCD的每一像素呈现丰富亮丽的颜色。而目前对彩色滤光基板的制作则是先涂布一光阻层于基板表面，然后于进行曝光工艺后利用一输送带(conveyor)运送具有光阻层的基板，接着通过喷洒显影液的方式对基板进行一显影工艺。一般而言，制造业者会于显影工艺后测量基板表面的光阻层的线宽值(critical dimension)，来确保后续产品的良率。请参照图1，图1为现有技术利用输送带来进行显影工艺时光阻层的线宽变化与显影基板数量的示意图。首先，利用输送带运送多个已经过光阻涂布与曝光工艺的基板，然后在连续进料的环境下，依序喷洒显影液于各基板上予一固定时间，以分别进行一显影工艺。然而如图1所示，当初始150片具有光阻层的彩色滤光基板逐片完成显影工艺之后，后续再进行显影的各基板的线宽值便会迅速提升。然后随着基板数量的增加，例如处理300片之后，显影液中会因过量的光阻反应物而减缓各基板的线宽值的上升曲线。此时各基板的线宽值会发生大于或小于中心值的现象，进而使控制线宽的范围变得更为狭隘。而且线宽值无论过大或过小均会造成不良的产品。为了避免显影后的基板产生过高或过低的线宽值，现有技术可利用不添加新显影液或阶段性添加新显影液的方式来将线宽值控制在中心值的位置。然而，不添加新显影液的方式虽可使显影液中光阻混合物的浓度急速升高而达到较稳定的线宽值，但是会牺牲掉大批的初始基板，而且于重复使用显影液的情况下，将会使可显影的基板数量大幅降低，此外当基板表面光阻层的膜厚或曝光量异常时，也非常容易偏离出原本调整好的线宽值范围。其次，利用阶段性添加显影液的方式虽可控制基板的线宽值于中心位置，但相对会消耗过多的显影液，造成成本增加。值得注意的是，现有技术无论在使用不添加任何显影液或阶段性添加显影液的方法下均是采用固定的输送速度来运送涂布有光阻层的基板。换句话说，现有技术是于固定显影速度的条件下以选择性不添加新的显影液或阶段性添加显影液来控制光阻的线宽，而如上所述，此等方法皆无法有效达到控制线宽的目的并可造成其它问题。因此，如何有效改善现有显影方式以有效控制光阻层在显影时的线宽即为现今一重要课题。
技术实现思路
因此本专利技术的主要目的是提供一种，以改善现有技术无法于固定显影速度下有效控制光阻层线宽的问题。根据本专利技术的权利要求，是揭示一种。首先，提供多个基板，且各该基板上具有一光阻层。然后利用一输送带(conveyor)输送所述的基板进行一显影工艺，并于该输送带进行输送时阶段性改变该输送带的输送速度，以控制该显影工艺中各该基板的显影速度并藉以控制该光阻层在显影时的线宽。由于本专利技术是于各基板进行显影工艺时阶段性改变输送带的输送速度，因此可通过输送带的速度的变化来间接控制显影工艺中各基板的显影速度(即改变显影时间)，进而调整设于各基板上的光阻层的线宽值。此外，本专利技术除了可阶段性改变输送带的输送速度来控制显影工艺的速度，又可同时于显影工艺进行时阶段性添加新的显影液，以有效降低初始显影液的消耗量。附图说明图1为现有技术利用输送带来进行显影工艺时光阻层的线宽变化与显影基板数量的示意图。图2为本专利技术较佳实施例利用阶段性控制输送带速度时光阻层的线宽变化与显影基板数量的示意图。图3为现有技术未变更显影速度的线宽变化示意图。图4为本专利技术利用阶段性改变显影速度的线宽变化示意图。具体实施例方式请参照图2，图2为本专利技术较佳实施例利用阶段性控制输送带速度时光阻层的线宽变化与显影基板数量的示意图。根据本专利技术的较佳实施例，本专利技术除了可阶段性改变输送带的输送速度来控制显影工艺的速度，又可依据产品的需求来涂布不同型式的光阻于基板上。其中，不同形式的光阻可包含正型光阻与负型光阻，且本专利技术又可于依据各种光阻的特性来调整输送带的输送速度。举例来说，开始阶段本专利技术可先提供60片具有正型光阻的基板，然后利用一输送带输送所述的基板，接着于输送基板时喷洒显影液至各基板上，并同时控制输送带的输送速度于每分钟4.3公尺至每分钟7.8公尺。随着初始60片具有正型光阻的基板完成显影工艺后，一般阶段使用者可于输送第61片至第160片基板时降低输送带的输送速度至每分钟4公尺至每分钟7公尺。然后于后续第一阶段输送第161至第300片基板时再次降低输送带的输送速度至每分钟3公尺至每分钟6.9公尺。(本范例的应用于显影距离3.365公尺)值得注意的是，由于输送带的输送速度是对应各基板的显影速度，且覆盖有光阻层的基板一般在固定输送速度，也即固定显影速度下均会随着处理基板数量的增加而造成线宽值过高或过低的情形，因此通过阶段性改变输送带的输送速度来控制各基板的显影速度，本专利技术可有效控制各基板的光阻层在显影工艺时所测量的线宽。然而，不局限于本实施例所述的基板数量与输送带的输送速度的范围，本专利技术又可依据工艺与产品的需求对基板的数量与输送带的输送速度进行调整。根据本专利技术的另一实施例，本专利技术又可于使用负型光阻材料来进行显影工艺时调整输送带的输送速度的范围，以达到较佳的显影效果。举例来说，开始阶段当使用者利用输送带输送初始60片具有负型光阻的基板时，是先将输送带的输送速度控制于每分钟4.3公尺至每分钟9.8公尺。接着于一般阶段运送第61片至第160片基板时降低输送带的输送速度至每分钟4公尺至每分钟9公尺。然后于后续第一阶段输送第161至第300片基板时再次降低输送带的输送速度至每分钟3公尺至每分钟8.9公尺。此外，根据本专利技术的另一实施例，本专利技术除了可阶段性改变输送带的输送速度来控制显影工艺的速度，又可同时于显影工艺进行时阶段性添加新的显影液，以有效降低初始显影液的消耗量。举例来说，开始阶段使用者可于输送带输送初始60片具有正型的基板时添加约每4秒5片基板(5sheets/4sec)的显影量的显影液。接着于一般阶段输送第61片至第160片基板时再添加每5秒5片基板的显影量的显影液，并于后续第一阶段输送第161至第300片基板时添加每6秒5片基板的显影量的显影液。如图2中所示，随着基板数量的增加与本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阶段性控制显影工艺的方法，至少包含有：　　　　提供多个基板，各基板上具有一光阻层；　　　　利用一输送带输送所述的基板进行一显影工艺，并于该输送带进行输送时阶段性改变该输送带的输送速度，来控制所述的显影工艺中各所述的基板的显影速度，藉以控制所述的光阻层在显影时的线宽。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：颜骏翔，杨博闵，苏顺利，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]