用于液晶显示器的滤色片基板及其制造方法技术

本发明专利技术提供了一种用于液晶显示器（ＬＣＤ）的滤色片基板及其制造方法，用于ＬＣＤ的滤色片基板包括形成在透明绝缘基板上的黑矩阵以形成像素区域，在黑矩阵上用透明感光材料形成的黑矩阵隔离物，和在像素区域中形成的滤色片。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于液晶显示器(LCD)的滤色片基板及其制造方法。
技术介绍
在以信息化为指向的当今社会，电子显示器件具有重要的作用，电子显示器件广泛的应用到各个领域中。电子显示器件领域得到了发展从而使得电子显示器件具有针对不断发展的信息化社会的不同需求的新功能。一般的，电子显示器件通过视线向人类传送各种信息。即电子显示器件将从各种电子设备中输出的电子信息信号转换成可被人类视力认知的光学信息信号，以连接人类和电子设备。在电子显示器件中，当由发光现象显示光学信息信号时，电子显示器件称为发光型显示器件。当通过反射、散射和衍射现象由光调制显示光学信息信号时，电子显示器件称作光接受型显示器件。发光型显示器件被称为主动显示器件，包括冷阴极射线管(CRT)、等离子体显示面板(PDP)、有机电致发光显示器(OELD)和发光二极管(LED)。光接受型显示器件称为被动显示器件，包括液晶显示器(LCD)和电泳图像显示器(EPID)。它们用于电视机或计算机监视器。CRT作为最老的显示器件，以经济的眼光看，占有最大的市场份额，然而，CRT具有很多缺点，例如重量大、体积大以及能耗高。由于半导体技术的高速发展，具有低驱动电压和低能耗的各种电子器件，伴随着电子设备趋于小、薄、轻，对于作为适用于环境的显示器件的平板显示器(FPD)的需求飞快增长。因此，例如LCD、PDP和OELD的FPD得到发展。在FPD中，LCD具有小、轻和薄的特点，并且具有低能耗和低驱动电压，从而成为亮点。在LCD中，具有各向异性介电常数的液晶放置在形成有滤色片和黑矩阵的滤色片基板和形成有薄膜晶体管(TFT)和像素电极的阵列基板之间，不同的电势施加到像素电极和公共电极上，从而控制形成在液晶中的电场强度以改变液晶分子的排列。从而，控制通过滤色片基板和阵列基板之间的光量，以显示想要的图像。近来，为了减少用于LCD的滤色片基板的制造工序，一种吸收光的黑树脂用于形成黑矩阵。当黑矩阵采用该吸收光的黑树脂形成时，形成具有足够厚的黑矩阵将非常困难，因此，必须在黑矩阵上形成隔离物。当不在黑矩阵上形成隔离物时，在黑矩阵之间形成的红滤色片、绿滤色片和蓝滤色片可能相互混合。当滤色片由喷墨方式形成时，这个问题将更加严重。在传统工艺中，为了形成隔离物，在形成黑矩阵后采用额外的光刻工序和刻蚀工序，从而使得用于LCD的滤色片基板的制造工艺变得复杂。
技术实现思路
因此，本专利技术的一个技术目标是为了提供一种易于在形成滤色片的同时形成黑矩阵和黑矩阵隔离物的用于液晶显示器(LCD)的滤色片基板，以及其制造方法。本专利技术的另一目的是为了提供一种用于LCD的滤色片基板，当以喷墨方式形成滤色片时，可防止彩墨溢出到像素区域之外的其他区域。对于本领域技术人员来说，本专利技术达到的技术目标显然并不限于上述提到的内容，本专利技术的其他目的将通过下面描述得到理解。为了实现上述技术目标，提供了一种用于液晶显示器(LCD)的滤色片基板，包括形成在透明绝缘基板上的黑矩阵以形成像素区域，在黑矩阵上用透明感光材料形成的黑矩阵隔离物，和在像素区域中形成的滤色片。本专利技术还提供了一种用于LCD的滤色片基板的制造方法，包括在透明绝缘基板上形成黑矩阵层；在黑矩阵层上用透明感光材料形成黑矩阵隔离物层；构图黑矩阵层和黑矩阵隔离物层，以形成限定了像素区域的黑矩阵和黑矩阵隔离物以及在像素区中形成滤色片。附图说明图1为根据本专利技术的一个实施例的用于液晶显示器(LCD)的滤色片基板的截面图；以及图2A-2D为根据本专利技术的实施例的用于液晶显示器的滤色片基板的制造工序截面图。具体实施例方式下面将通过结合附图详细描述本专利技术的优选实施例，使得本专利技术的优点和特点以及得到上述优点和特点的方法显而易见。全部详述中采用相似的标号来指代相似的部件。参考图1，将描述根据本专利技术的一个实施例的用于液晶显示器(LCD)的滤色片基板。图1为用于LCD的滤色片基板的截面图。如图1所示，根据本专利技术的一个实施例的用于液晶显示器件的滤色片基板包括黑矩阵201-207，黑矩阵隔离物301-307和滤色片401-406。黑矩阵201-207形成在例如玻璃的透明绝缘基板100上以限定像素区域。黑矩阵201-207可由吸收光的黑树脂形成为具有1.0微米到1.5微米的厚度T1。因此，黑矩阵201-207可通过包括曝光工序和显影工序的光刻工艺简单形成。并且，在黑矩阵201-207上用透明感光材料形成黑矩阵隔离物301-307。当用透明感光材料形成黑矩阵隔离物301-307时，由于黑矩阵201-207和黑矩阵隔离物301-307可通过包括曝光工序和显影工序的光刻工艺同时形成，这可以简化制造用于LCD的滤色片基板的制造工序。这里，黑矩阵隔离物301-307可制造为具有约0.5微米到1.0微米的厚度T2，其可根据滤色片401-406的厚度T1控制。滤色片401-406包括由实现红色的红(R)像素构成的红滤色片401和404，由实现绿色的绿(G)像素构成的绿滤色片402和405，和由实现蓝色的蓝(B)像素构成的蓝滤色片403和406。红滤色片401和404、绿滤色片402和405和蓝滤色片403和406形成在由黑矩阵201-207限定的像素区域中。另一方面，红滤色片401和404、绿滤色片402和405和蓝滤色片403和406交替形成在由黑矩阵201-207限定的像素区域中。这里，滤色片401-406的厚度T3可形成为黑矩阵201-207的厚度T1和黑矩阵隔离物301-307的厚度T2的和的8/10到10/10。因此，当以喷墨方式形成滤色片401-406时，由于可防止彩墨溢出到不是像素区域的其他区域，从而可以容易地形成滤色片401-406。在根据本专利技术的实施例的用于LCD的滤色片基板中，黑矩阵隔离物301-307由透明感光材料形成，从而当滤色片401-406形成的时候，可以容易地形成黑矩阵201-207和黑矩阵隔离物301-307。以下，将参考图2A-2D详细描述根据本专利技术实施例的用于LCD的滤色片基板的制造方法。图2A-2D为根据本专利技术实施例的用于LCD的滤色片基板的制造工序截面图。首先如图2A所示，例如玻璃的透明绝缘基板100由吸收光的黑树脂覆盖并干化以形成黑矩阵层200。这里黑矩阵层可形成为具有1.0微米到1.5微米的厚度T1。然后，如图2B所示，在黑矩阵层200上用透明感光材料形成黑矩阵隔离物层300。这里，黑矩阵隔离物层可形成为具有0.5微米到1.0微米的厚度T2。另一方面，黑矩阵隔离物层300由干膜法形成。具体的，聚对苯二甲酸乙二酯(PET)覆盖在例如透明感光树脂的透明感光材料上，之后透明感光树脂转录到黑矩阵层200上。之后，如图2C所示，对黑矩阵层200和黑矩阵隔离物300进行构图以形成限定像素区域的黑矩阵201-207和黑矩阵隔离物301-307。这里，为了构图黑矩阵层200和黑矩阵隔离物层300，采用了包括曝光工序和显影工序的光刻工艺，且黑矩阵隔离物层300由透明感光材料形成，从而可通过实施一次光刻工艺同时形成限定像素区域的黑矩阵201-207和黑矩阵隔离物301-307。之后，如图2D所示，由实现红色的红(R)像素构成的红滤色片401和404，由实现绿色的绿(G)像素构成的绿滤色片本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于液晶显示器的滤色片基板，包括：形成在透明绝缘基板上的黑矩阵以形成像素区域；在黑矩阵上用透明感光材料形成的黑矩阵隔离物；和在像素区域中形成的滤色片。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：申世淙，金峰澈，李泰炯，全烘明，朴俊圭，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]