银糊剂组合物及使用其的导电性图案的形成方法、以及该导电性图案技术

技术编号:2743998 阅读:248 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的目的在于提供一种碱显影型的银糊剂组合物,其适于使用了最大波长350nm~420nm的激光振荡光源的激光直接成像装置,对效率良好地形成精细的导电性图案有用,并且保存稳定性优异,还提供由该组合物形成的导电性图案及具有该导电性图案的等离子显示面板、以及导电性图案的形成方法。本发明专利技术的碱显影型银糊剂组合物,其包含:(A)含羧基树脂、(B)玻璃粉、(C)银粉、(D)一分子中具有至少1个以上自由基聚合性不饱和基团的化合物、和(E-1)通式(Ⅰ)所示的肟系光聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及银糊剂组合物和使用其的导电性图案的形成方 法以及该导电性图案,其中该银糊剂组合物适合于对薄型显示 器等有用的导电性图案的形成。本专利技术更详细地说,涉及一种银糊剂组合物,其适于使用了最大波长350nm 420nm的激光振 荡光源的激光直接成像装置,对效率良好地形成精细的图案有 用,并且保存稳定性优异,以及涉及使用了该组合物的导电性 图案的形成方法及该导电性图案。
技术介绍
一直以来,等离子显示器的玻璃基板等形成有作为电极的 导电性图案。另外,其形成法如下,例如,在玻璃基板上,涂 布干燥含有银的抗蚀剂而形成涂膜,该涂膜通过描绘有电极图案的光掩模而曝光图像,然后利用曝光部和非曝光部对显影液 的溶解性的不同,以碱性水溶液进行显影处理,由此形成与电 极图案对应的抗蚀层,进行烧成,从而形成与玻璃基板密合的 银图案。然而,在这些图案曝光方法中,光掩才莫并非完全没有缺损, 形成的图案也产生缺损,或者光掩模和玻璃基板的伸縮导致产 生位置偏差,特别是细线的图案曝光变困难,大型面板的生产 的不良率难以降低。另外,制作光掩模时需要时间和成本,因 而,特别被视为问题的是在少量多种类的生产和试本文档来自技高网...

【技术保护点】
碱显影型的银糊剂组合物,其特征在于,其包含:(A)含羧基树脂、(B)玻璃粉、(C)银粉、(D)一分子中具有至少1个以上自由基聚合性不饱和基团的化合物、和(E-1)下述通式(Ⅰ)所示的肟系光聚合引发剂。    ***  …(Ⅰ)    (式中,1或2个R↑[1]由下述通式(Ⅱ)所示,其余的R↑[1]表示氢原子、甲基、乙基、苯基或卤原子。)    -*=N-O-*-R↑[2]  …(Ⅱ)    (式中,R↑[2]表示氢原子、碳原子数1~6的烷基、或苯基,R↑[3]表示氢原子或碳原子数1~6的烷基。)

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:佐佐木正树加藤贤治有马圣夫
申请(专利权)人:太阳油墨制造株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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