本发明专利技术提供一种抗碱性ＵＶ固化抗蚀刻油墨组合物，其包含强碱水可溶性树脂、光敏性引发剂、光敏性稀释剂和填料，其中所述强碱水可溶性树脂的分子中至少含有一个酚羟基并且不含羧基，并且所述强碱水可溶性树脂选自以下任一类化合物：（１）（甲基）丙烯酸羟基酯的羟基与苯酚酸的羧基发生缩水反应得到的化合物；（２）（甲基）丙烯酸缩水甘油酯的环氧基与苯酚酸的羧基反应得到的化合物；（３）碱水可溶性酚醛树脂。使用本发明专利技术的ＵＶ固化抗碱性蚀刻油墨组合物，不仅使最终形成的固化膜耐碱性蚀刻的性能优越，并且所形成的固化膜在强碱溶液中的溶解性好，易于在蚀刻后用强碱溶液褪膜。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种uv固化抗碱性蚀刻油墨组合物及其应用，该油墨组合物可应用于印制电路板线路的制作。
技术介绍
U V固化抗蚀刻油墨组合物在制作单面印制电路板和多层线路内层线路的领域中具有广泛的应用。在印刷电路板的制作过程中，通过将uv固化抗蚀刻油墨组合物印刷到金属基板上，使用适当的掩模经过光固化形成固化膜后，将基板用蚀刻液进行蚀刻，之后用强碱溶液去除固 化膜而获得印刷电路板。其中，根据不同的基板材料，可选用不同酸碱性的蚀刻液，并且需要所使用的uv固化油墨组合物具有相应的抗蚀刻性。在现有的uv固化抗蚀刻油墨组合物中，分子中含有的主要官能团 为羧基的油墨组合物耐碱性蚀刻的性能不佳；另 一些耐碱性蚀刻性能较 好的油墨组合物通过减少羧基官能团以达到这一 目的，这虽然改善了耐 碱性蚀刻性能，但却导致其形成的固化膜在强碱溶液中溶解性差，在后 续工艺中不易被去除。因此，需要开发一种耐碱性蚀刻性能良好且在后 续过程中的褪膜性能良好的UV固化抗蚀刻油墨组合物。
技术实现思路
为了解决现有的UV固化抗蚀刻油墨组合物存在的上述问题，本发 明提供一种耐碱性蚀刻性能良好、并且容易用强碱溶液褪膜的UV固化 抗蚀刻油墨组合物。本专利技术的UV固化抗碱性蚀刻油墨组合物包含强碱水可溶性树脂、 光敏性引发剂、光敏性稀释剂和填料，其中所述强碱水可溶性树脂的分 子中至少含有一个酚羟基并且不含羧基，并且所述强碱水可溶性树脂选 自以下任一类化合物(1)(曱基)丙烯酸羟基酯的羟基与苯酚酸的羧基发生缩水反应 得到的化合物；(2) (曱基)丙烯酸缩水甘油酯的环氧基与苯酚酸的羧基反应得 到的化合物；(3) 碱水可溶性酚醛树脂。由于本专利技术的油墨组合物中的强碱水可溶性树脂含有酚羟基而不 含有羧基，因此耐碱性蚀刻性能提高，并且易于溶解在强碱溶液中。本 专利技术的油墨组合物可耐受pH《9的碱性蚀刻液，并且可溶于pH〉10的碱 溶液。使用本专利技术的UV固化抗碱性蚀刻油墨组合物，不仅使最终形成 的固化膜耐碱性蚀刻的性能优越，并且所形成的固化膜在强碱溶液中的 溶解性好，易于在蚀刻后用强碱溶液褪膜。因此能够有效提高电路板的 自动化生产的效率和产品的质量。因此，本专利技术还提供前述油墨的应用，用于制作一种印制电路板线路。具体实施例方式具体而言，本专利技术的uv固化抗碱性蚀刻油墨组合物包含强碱水可溶性树脂、光敏性引发剂、光敏性稀释剂和填料，其中所述强碱水可溶 性树脂的分子中至少含有一个酚羟基并且不含羧基，并且所述强碱水可溶性树脂选自以下任一类化合物(1) (曱基)丙烯酸羟基酯的羟基与苯酚酸的羧基发生缩水反应 得到的化合物；(2) (曱基)丙烯酸缩水甘油酯的环氧基与苯酴酸的羧基反应得 到的化合物；(3) 碱水可溶性酚醛树脂。在本专利技术中，"(曱基)丙烯酸羟基酯"，是指丙烯酸羟基酯或者曱 基丙烯酸羟基酯以及二者的混合物，常用的有(曱基)丙烯酸羟丙酯和 (甲基)丙烯酸羟乙酯等。其中所述"(曱基)丙烯酸"为丙烯酸、曱 基丙烯酸或其混合物。对本申请中其他类似的表示方法可作与此类似的所述苯酚酸分子中至少含有一个羧基和一个酚幾基，常用的例如 有间羟基苯甲酸(3-hydroxybenzoic acid)、对羟基苯甲酸 (4-hydroxybenzenecarboxylic acid)、邻羟基苯曱酸(水杨酸、 2-hydroxybenzoic acid) 、 2， 3-二羟基苯甲酸、2，4-二羟基苯曱酸、2，5-二羟基苯甲酸(5-羟基水杨酸、龙胆酸)、2，6-二羟基苯曱酸、3，4-二羟基苯曱酸、3，5-二羟基苯曱酸、2， 3，4-三羟基苯曱酸、3，4，5-三羟 基苯曱酸(没食子酸)、5-磺基水杨酸(2-羟基-5-磺基苯曱酸)等， 或者如下通式的化合物COOHCOOH其中Id、 R2、 R3、 R4可以为相同或不同的选自羧基(C00H)、羟基 (0H)、氲(H)、卣素和低级烷基的基团。这些化合物可以单独使用 也可以作为两种以上物质的混合物^^吏用。在本专利技术中，低级烷基是指1 - 8个碳原子的烷基，优选1 - 6个碳 原子的烷基。所述的碱水可溶性酚醛树脂可以是A与B两种物质反应得到的产 物，其中A是曱醛、苯曱醛或两者的混合物；B是苯酚、邻甲酚、间曱 酚、对甲酚、2， 3-二曱基苯酚、2， 6-二甲基苯酚、3, 4-二曱基苯酚、3， 5-二曱基苯酚、邻苯三酚、间苯三酚、偏苯三酚等酚类化合物或上述酚类 的混合物。所述的光敏性引发剂没有特别的限制，常用的例如有苯偶因、苯 偶因曱基醚、苯偶因乙基醚、苯偶因异丙基醚等苯偶因及苯偶因烷基醚； 苯乙酮、2, 2-二曱氧基-2-苯基苯乙酮、2， 2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、 1， l-二氯苯乙酮等苯乙酮类；2-曱基-1- -2-吗啉基丙酮-1, 2-节基-2-二曱基胺基-1- (4-吗啉基苯基)-丁烷-l-酮、N， N-二曱基胺基苯乙酮类；2-曱基蒽醌，2-乙基蒽醌，2-叔丁基 蒽醌、l-氯蒽醌等蒽醌类；2， 4-二曱基噻吨酮、2, 4-二乙基噻吨酮、 2-氯噻吨酮、2, 4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮类；苯乙酮二曱基缩酮、 千基二甲基缩酮等缩酮类；过氧化苯甲酰、过氧化异丙苯等有机过氧化 物；2， 4， 5-三芳香基咪唑二元体、核黄素四丁酯、2-硫基苯并咪唑、 2-硫基苯并噁唑、2-硫基苯并噻唑等硫醇化合物；2， 4， 6-三-s-三溱； 2, 2, 2-三溴乙醇、三溴曱基苯基酮等有机面化物；二苯酮、4， 4，-双 二乙基胺基二苯曱酮等二苯酮类；2， 4， 6-三甲基苯曱酰基二苯基磷氧化 物等。以上所列举光引发剂可单独使用或作为两种以上物质的混合物使用。还可添加光引发助剂例如N， N-二曱基胺基苯甲酸乙基酯、N， N-二曱基胺基苯曱酸异戊基酯、戊基-4-二曱基胺基苯曱酸酯以及三乙基 胺、三乙醇胺等叔胺类。所述的光敏性稀释剂为含有不饱和基的光敏性单体，常用的例如 有(曱基)丙烯酸羟乙酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、五(曱基) 丙烯酸二季戊四醇酯等含有鞋基的(甲基)丙烯酸酯类；(甲基)丙烯酸 曱酯、(曱基)丙烯酸乙酯、(曱基)丙烯酸丁酯、(曱基)丙烯酸月 桂酯等单官能(曱基)丙烯酸酯类；1， 6-己二醇双(甲基)丙烯酸酯、二 缩/三缩丙二醇双(曱基)丙烯酸酯、二缩/三缩乙二醇双(甲基)丙烯酸 酯、乙氧化双酚A双(曱基)丙烯酸酯、新戊二醇二乙氧基/丙氧基双(曱 基)丙烯酸酯等双官能(曱基)丙烯酸酯类；三(曱基)丙烯酸三羟曱基丙 烷酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(曱基)丙烯酸二季戊四醇酯等多 官能(甲基)丙烯酸酯类；乙氧基化多官能团丙烯酸酯；丙氧基化多官能 团丙烯酸酯。这些含有不饱和基的光敏性单体可单独使用或作为两种以 上物质的混合物l吏用。本专利技术所述填料没有特别的限制，常用的例如有二氧化钩、滑石 粉、硫酸钡、气相白炭黑、二氧化硅、粘土、碳酸镁、碳酸钓、氧化铝、 云母粉、高岭土等常用的无机填料。填料可抑制涂膜的固化收缩，并改 善附着力、硬度等特性。此外，本专利技术的UV固化抗碱性蚀刻油墨组合物中还可任选包括非 光敏性稀释剂，可用于本专利技术的非光敏性稀释剂例如为乙二醇单曱醚、 乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单曱醚、二乙二醇单乙醚、二 乙二醇单丁醚、丙二醇单曱醚、丙二醇单乙醚、丙二本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种ＵＶ固化抗碱性蚀刻油墨组合物，包含强碱水可溶性树脂、光敏性引发剂、光敏性稀释剂和填料，其特征在于：所述强碱水可溶性树脂的分子中至少含有一个酚羟基并且不含羧基，并且所述强碱水可溶性树脂选自以下任一类化合物：（１）（甲基）丙烯酸羟基酯的羟基与苯酚酸的羧基发生缩水反应得到的化合物；（２）（甲基）丙烯酸缩水甘油酯的环氧基与苯酚酸的羧基反应得到的化合物；（３）碱水可溶性酚醛树脂。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨遇春，刘启升，黄勇，
申请(专利权)人：深圳市容大电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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