一种抗蚀刻组合物及涂有该组合物的基材制造技术

本发明专利技术提供一种抗强氧化的抗蚀刻组合物，其含有15-80％感光树脂、0.5-15％光敏引发剂、5-60％稀释剂、0-40％填料、0-20％染料或颜料、0-20％添加剂，其中各百分比均基于组合物总重量计，且各组分的百分比总和为100％，其中所述感光树脂同时满足两个条件：1)分子中具有至少一个羧基和至少两个乙烯型不饱和键，且不含羟基，2)与苯环相连的碳原子上没有氢原子。该组合物具有很强的抗强氧化性，特别适于在含强氧化剂(如高锰酸钾)的蚀刻液条件下进行的蚀刻保护。本发明专利技术还提供了涂有本发明专利技术抗蚀刻组合物的基材。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种抗强氧化的抗蚀刻组合物及涂有该组合物作为抗蚀刻层的基材。
技术介绍
近年来，LED (Light Emitting Diode,发光二极管)用得越来越广泛,而作为LED液晶显示器蚀刻工艺中起保护作用的抗蚀刻材料的用量也越来越大。其中一种含铬镀层的LED板，其蚀刻工艺中的蚀刻液需要采用强氧化剂高锰酸钾，而传统的抗蚀刻组合物由于不能耐高锰酸钾的氧化而不能满足需要。
技术实现思路
为解决上述问题，本专利技术提供了一种抗蚀刻组合物，其含有 感光树脂，15-80%，光敏引发剂，O. 5-15%，稀释剂，5-60%，填料，0-40%，染料或颜料，0_20%，添加剂，0_20%，其中各百分比均基于组合物总重量计，且各组分的百分比总和为100%，且其中所述感光树脂同时满足两个条件I)分子中具有至少一个羧基和至少两个乙烯型不饱和键，且不含羟基，2)与苯环相连的碳原子上没有氢原子。在一个优选的实施方案中，上述抗蚀刻组合物含有感光树脂，20-60%，光敏引发剂，1_10%，稀释剂，20-60%，填料，0_40%，染料或颜料，0_10%，添加剂，0-10%，其中各百分比均基于组合物总重量计，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀刻组合物，其含有感光树脂，15？80％，光敏引发剂，0.5？15％，稀释剂，5？60％，填料，0？40％，染料或颜料，0？20％，添加剂，0？20％，其中各百分比均基于组合物总重量计，且各组分的百分比总和为100％，且其中所述感光树脂同时满足两个条件：1)分子中具有至少一个羧基和至少两个乙烯型不饱和键，且不含羟基，2)与苯环相连的碳原子上没有氢原子。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李长春，杨遇春，张华，蔡宣海，
申请(专利权)人：深圳市容大感光科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：