用于将无掩模图形转移到光敏基板上的光刻方法技术

本发明专利技术提出了“亚像素滚动方法”，其使用在ＤＭＤ与投影光学部件之间的附加的４５°镜以相对于投影轴每一次将镜基元光学地移动一个亚像素尺寸。在优选的实施例中，通过可控制的执行器，将所述４５°镜移动１／４的镜基元宽度。通过扫描拖运器的位置指示器信号以这样的所述镜基元（当使用标准滚动方法时）似乎相对于基板表面基元静止的方式同步位置的该改变的尺寸和时间点。与使用标准滚动方法不同，该复位不受限于ｋＨｚ的ＤＭＤ开关速度。通过较高的分辨率，本发明专利技术减小了在边缘过渡处的模糊并且有助于较高的扫描速度，由此所述扫描速度依赖于所述致动器的动力、ＵＶ源的有效ＵＶ－功率以及光敏聚合物的敏感度。本发明专利技术的另外的有利功能是以比通过所述镜基元尺寸所给出的分辨率更高的分辨率转移图形的可能性。为了增加沿Ｘ（扫描方向）和Ｙ（垂直于所述扫描方向）的分辨率，沿Ｘ和Ｙ工作的两个镜致动器是必需的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的领域为辐照成像和器件及其制造方法。具体而言，本专利技术涉 及在其中辐照产生化学反应的接收器中形成仪器(instrumented)现象的 图像，更具体而言涉及使用空间光调制器(SLM)将图形无掩模转移到光 敏基板上。
技术介绍
在微电子器件的制造中，光刻方法用于将图形转移到光敏基板上以制 造集成电路。适用于无掩模光刻图形转移的器件为"数字镜器件"(DMD) 例如Texas Instruments所制造的。DMD包括具有大约1百万独立可调节 的镜基元(element)的微镜阵列。倾斜镜阵列的镜基元会产生辐照和非辐 照的镜基元的图形，其图形通过投影光学部件或光线捕获装置成像到光敏 基板上。在计算机控制下，各种图形可以被产生并被无掩模光刻转移到基 板。对于l:l的复制比率，曝光10xl4mm的基板表面。为了曝光较大的a表面，目前使用用于无掩模光刻转移的DMD使 用两种基本方法(1)静态分步和重复方法，以及(2)滚动方法。分步 和重复方法(1 )将整个基板的图像信息分割成具有精确的边缘的10xl4mm 的局部区域，使用照明光学部件连续地将其转移到基板上。连续滚动方法 (2 )可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于将图形无掩模转移到光敏基板上的光刻方法，包括以下步骤：通过沿扫描方向可移动的偏移镜和投影光学部件将数字镜阵列的至少一个镜基元的辐照表面成像到所述基板上；相对于所述基板移动镜基元、成像光学部件以及通过所述镜基元曝光的基板表面基元；通过测量系统连续测量位置的所述改变；在到达位置的限定改变之后产生触发信号；通过所述触发信号触发，通过沿射线的路径的所述偏移镜的位置的改变来改变所述成像光学部件的所述射线的路径从而将所述曝光的基板表面基元复位在起始位置上；重复所述过程直到所述偏移镜的复位潜力被消耗；通过关闭所述数字镜阵列的所有镜基元，中断所述基板表面基元的曝光；将所述偏移镜复位在所述起始位置上；为...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：D斯基比克基，T帕茨科夫斯基，P多马诺夫斯基，
申请(专利权)人：拉多韦有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]