描绘系统、描绘装置及描绘方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种描绘系统、描绘装置及描绘方法，其能够在多台描绘装置或多个描绘处理部中，使用来自一个光源的光同时进行描绘处理和其它处理，能够提高激光的工作率和基板的制造效率。描绘系统（１００）将从激光振荡器（１１０）射出的脉冲光分割为主脉冲光和副脉冲光，将主脉冲光和副脉冲光交替分配给第一描绘装置（１ａ）和第二描绘装置（１ｂ）。因此，能够在两台描绘装置（１ａ、１ｂ）中，并行交替地进行使用了主脉冲光的描绘处理和使用了副脉冲光的校准处理。由此，能够提高激光振荡器（１１０）的工作率和基板（９）的制造效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，通过对液晶显示装置 所具有的滤色片用玻璃基板、液晶显示装置或等离子显示装置等平板显示器(FPD)用玻璃基板、半导体基板、印刷基板等的基板照射光，从而在形成 于基板的感光材料上描绘规定的图案。
技术介绍
在基板的制造工序中，使用了描绘装置，该描绘装置通过对基板照射光， 从而在形成于基板上的感光材料上描绘规定的图案。以往的描绘装置，例如具有载物台，其以水平姿态保持基板，并且使基板在水平面内移动；作为 光源的激光振荡器；照射头，其使从激光振荡器射出的光形成为规定的图案 并照射到基板的上表面上。在这种描绘装置中处理基板时，首先，描绘装置通过规定的搬运机构将 基板搬入，并将基板装载于载物台上。此外，描绘装置对装载于载物台上基 板进行定位。在完成基板定位后，描绘装置使基板与载物台一起移动，同时 从激光振荡器断续地射出光，从而在基板的上表面上描绘规定的图案。然后， 描绘装置通过规定的搬运机构将描绘处理完毕的基板搬出。此外，描绘装置 可以根据需要进行处理来修正从照射头发出的照射光的状态(校准处理)。这种以往的描绘装置，例如公开于专利文献l中。此外，在专利文献2 中公开有与上述描本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种描绘系统，其具有描绘装置，该描绘装置通过对基板照射光，从而在形成于基板上的感光材料上描绘规定的图案，其特征在于，具有：光源，分配装置，其将从上述光源射出的光分割为多个分割光，并且将上述多个分割光分配到多个光路，多个上述描绘装置， 其分别配置在上述多个光路上；上述多个分割光包括光强度比其它分割光高的一束描绘用分割光，上述分配装置将上述描绘用分割光顺次分配到上述多个光路。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：雨森清忠，生藤邦夫，小八木康幸，小川秀明，安福孝次，
申请(专利权)人：大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]