【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种具有大行程调节功能的调平调焦机构，尤其涉及一种具 有大行程调节功能的硅片台调平调焦机构。
技术介绍
整场调焦调平一般是在硅片表面3个或3个以上不同位置处进行离焦量 测量，来计算并校正整个硅片表面的离焦量和倾斜量，实质就是在坐标系中 调节6x, 6y和Z向三个自由度，(其中6x是绕X轴的转动，6 y是绕Y轴的转动)，达到硅片调焦调平的目的。专利US005204712A公开了一个3自由度的微动台。该台的基本原理是通 过三组凸轮机构，分布在三个点上，三个驱动点通过一个柔性机构连接到承 片台上，并用簧片导向，共同驱动承片台，从而实现调平和调焦功能。该台 的3个自由度调节量不大，尤其是Z向自由度不能实现大行程调节。中国专利CN2580470公开了 一种三自由度超精密定位平台。该台体内部 呈等边三角形固定有三组各自独立的压电陶瓷预紧机构。该台结构紧凑，精 度较高，但是调节范围小，压电陶瓷易发热，也不易进行恒温控制。
技术实现思路
本专利技术提供的一种具有大行程调节功能的调平调焦机构，可以实现Z向 大行程调节和z向微量调节，提高了动态性能和调节精度，适应不同的应...
【技术保护点】
一种具有大行程调节功能的调平调焦机构，其特征在于，包含： 小行程调平调焦机构和设置在该小行程调平调焦机构下部的大行程调节机构； 所述的小行程调平调焦机构包含： 调平调焦底板（７）；中心设置在调平调焦底板（７）上的簧片（２），该簧片（２）具有若干自由端；上平板（１）；连接所述簧片（２）自由端和上平板（１）的若干小行程楔形机构；连接所述小行程楔形机构的若干小行程驱动机构； 所述的大行程调节机构包含： 底板（１０６）；设置在底板（１０６）上的若干圆弧导轨（１１３）；设置在所述圆弧导轨（１１３）上的楔形块驱动板（１０７），该驱动板（１０７）具有若干自由端，该自由端可以沿所述的圆弧导...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：周清华，李志龙，李生强，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，上海微高精密机械工程有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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