【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及薄膜制备
，具体涉及一种在旋涂法中提高所制备薄膜 厚度的方法。技术背景旋涂法是一种常用的薄膜制备方法，它具有设备简单、生产能力强、制备 的薄膜面积大、厚度均匀等特点，广泛用于光盘、半导体器件、电子元器件等 领域。旋涂薄膜的厚度可通过改变旋涂溶液的浓度、粘度、溶剂的种类、旋涂时 的转速及时间等参数来调节，也可采用多次旋涂的方法来实现。其中最有效地 增加薄膜厚度的方法是加大旋涂溶液的浓度、粘度以及采用多次旋涂法。但是随着溶液浓度及粘度的增大，旋涂薄膜的粗糙度增加，膜厚均匀性变差；而采 用多次旋涂法会增加工序，降低生产效率。在乐甫波器件的制作中，需要在带有平面叉指电极的压电基片上制作波导 薄膜，聚甲基丙烯酸甲酉旨(PMMA)是常用的波导薄膜材料，采用旋涂法制备。为 保证波导薄膜结构致密、无孔洞气泡、表面平整、厚度均匀，以采用稀溶液旋 涂波导薄膜的效果为佳。但PMMA波导薄膜的厚度需达到2jiim左右，而以稀溶 液旋涂每次薄膜的厚度在100nm以下，需重复10多次，工艺繁瑣，工作量大， 效率低下。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是如何提...
【技术保护点】
一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法，其特征在于，对镀膜基板进行预处理，使基板四周边缘区域带有凸起的台阶，台阶形成闭合的边框，薄膜旋涂制备在边框形成的闭合区域内。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杜晓松，蒋亚东，胡佳，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]
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