辐射系统和光刻设备技术方案

公开了一种用于提供投影辐射束的辐射系统。所述辐射系统包括：极紫外源（３），所述极紫外源（３）用于提供极紫外辐射（２）；以及污染物阻挡件（４），所述污染物阻挡件（４）包括多个紧密排布的箔片板（５），所述箔片板（５）用于俘获来自辐射源的污染物材料。所述污染物阻挡件包围极紫外辐射源。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种辐射系统和光刻设备。具体地，本专利技术涉及一种用于 提供投影辐射束的辐射系统。所述辐射系统包括用于提供极紫外辐射的 极紫外辐射源；以及污染物阻挡件，所述污染物阻挡件包括用于俘获来自 辐射源的污染物材料的多个紧密排布的箔片板。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常到所述衬底的目标部 分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在 这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于 生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例 如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、 一个或多个管芯) 上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材 料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含连续形成图案的相邻目标部 分的网络。公知的光刻设备包括所谓步进机，在所述步进机中，通过将 全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫 描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向("扫描"方向)扫描所 述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一 个目本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于提供投影辐射束的辐射系统，所述辐射系统包括：极紫外辐射源，所述极紫外辐射源用于提供极紫外辐射；以及　污染物阻挡件，所述污染物阻挡件包括多个紧密排布的箔片板，用于俘获来自所述辐射源的污染物材料，所述污染物阻挡件包围所述极紫外辐射源。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：德尔克简威尔弗雷德克朗德尔，马丁玛瑞纳斯约翰内斯威尔赫尔姆斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[]