形成用于光刻转印的准直UV光线的方法和设备技术

本发明专利技术提供一种生产用于曝光印刷电路板的准直的ＵＶ辐射的改进方法和设备。该方法在于，通过分开多个辐射源上的ＵＶ辐射来缩短下游光学装置的光程长，并且，通过使用扫描滑动片来将ＵＶ辐射均匀地分布在基底上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于将图案光刻转印到涂有光敏聚合物的基底上的准直光学装置。更具体地说，本专利技术涉及一种用于光刻转印到印刷电路板上的准直UV光学装置。
技术介绍
具有UV准直光学装置的曝光系统用于曝光其导体线路＜100μ的印刷电路板。UV准直光学装置是本领域已知的。例如，参见EP 618 505、EP 807505、EP 807 856、DE 41066 7311和US 2002/016 7788 A1中的说明书，这些文献的内容都在此引用作为参考。现有的UV准直光学装置将水银短弧灯的UV辐射聚集在椭圆反射镜的焦点上，并且通过准直光学装置将该焦点扩展到抛物面反射镜。UV光线以准直的且与基底垂直的方式离开该抛物面反射镜。在DE 42 066 73 A1(该文献的内容在此引用作为参考)和US2002/0167788A1中所述的扫描光学装置中，在基底的短尺寸上以条纹的形式进行扩展。在此引用作为参考的US 2004/0166249描述了使用LED固化具有多个光谱灵敏度峰值的聚合物。在已知的UV准直光学装置中的聚焦和扩展需要长的光程。所以，这些光学装置具有大的空间要求，从而非常贵。因此，人本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种形成准直ＵＶ辐射的方法，用于将图案光刻转印到涂有光敏聚合物的基底上，该方法包括以下步骤：（ａ）提供多个小型的ＵＶ辐射源，所述辐射源的ＵＶ辐射通过较短的准直光学装置被准直，（ｂ）将所述小型的ＵＶ辐射源附接到支撑板，以及 （ｃ）将所述支撑板安装在扫描滑动片上，并且，通过与所述基底边之一平行地移动所述扫描滑动片来曝光所述基底。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：P多马诺夫斯基，
申请(专利权)人：拉多韦有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]