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用于将无掩模图形转移到光敏基板上的光刻方法技术
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下载用于将无掩模图形转移到光敏基板上的光刻方法的技术资料
文档序号:2743411
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本发明提出了“亚像素滚动方法”,其使用在DMD与投影光学部件之间的附加的45°镜以相对于投影轴每一次将镜基元光学地移动一个亚像素尺寸。在优选的实施例中,通过可控制的执行器,将所述45°镜移动1/4的镜基元宽度。通过扫描拖运器的位置指示器信号...
该专利属于拉多韦有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拉多韦有限公司授权不得商用。
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