【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光罩制作技术，尤其涉及一种对光罩制作过程中产生的针孔 空洞进行修补的方法。
技术介绍
光罩作为一种将透明/不透明图像在感光胶上曝光的媒介，它内部含有高精度的电路图像，光罩的材料主要含有包括玻璃基材、铬(Cr)层、氧化铬 层、感光胶等。随着半导体/液晶显示技术的飞速发展，作为半导体、液晶显示器中的一 个重要配件，市场上对光罩的需求量越来越大，同时对光罩的精度和各项性 能指标的要求也越来越高。特别是在半导体制造方面，随着对半导体精度的 要求从微米量级提升到纳米量级，光罩的精度要求也越来越重要，光罩精度 提升的主要表征是线条变小，如何使线宽尽可能縮小，是目前光罩制造行业 面临的一个严峻挑战。光罩的制作过程如下在苏打玻璃或石英玻璃基材表面上溅射一层铬(Cr)层形成遮光层； 在络层上面加涂覆一层氧化铬层；在氧化铬层上面涂覆一层感光胶，并使用软件控制曝光装置对感光胶进 行电子束曝光或镭射曝光；使用化学药液显影、蚀刻，将部分铬层刻蚀掉，从而形成图案，其表面 保留的铬层即为图案遮光区。上述制作过程中，在玻璃表面溅射铬层时，环境中微小的灰尘和颗粒掉 落在溅射表面；或...
【技术保护点】
一种光罩修补方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： 采用加热装置对光罩上待修补的针孔空洞表面进行第一次加热； 采用纳米级的石英导管注射，将石英导管内的修补液注入针孔空洞； 采用加热装置对所述注入修补液后的针孔空洞进行第二次加热。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杜武兵，瞿照地，
申请(专利权)人：深圳市路维电子有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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