【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光罩修补技术,尤其涉及一种用于填补光罩表面的针孔空洞 的修补液。
技术介绍
随着半导体技术的飞速发展,光罩已成为IC、 TFT、 HDI制造中的重要器具,在光罩的需求量越来越大的同时,对光罩的精度和各项性能指标的要 求也越来越高。特别是在半导体制方面,随着对半导体精度的要求从微米量 级提升到纳米量级,光罩的精度要求也越来越重要,光罩精度提升的主要表 征是线条变小,如何使线宽尽可能縮小,是目前光罩制造行业面临的一个严 峻挑战。光罩的制作过程如下在苏打玻璃或石英玻璃基材表面上涂覆一层铬(Cr)层形成遮光层; 在铬层上面加涂覆一层氧化铬层;在氧化铬层上面涂覆一层感光胶,并使用软件控制曝光装置对感光胶进 行电子束曝光或镭射曝光;使用化学药液将部分铬层刻蚀掉,从而形成图案,其表面保留的铬层即 为图案遮光区。上述制作过程中,在玻璃表面涂覆铬层时,环境中微小的灰尘和颗粒掉 落在涂覆表面;或者使用化学药液蚀刻的过程中,都可能导致铬层表面遮光 层出现针孔空洞。这种针孔空洞的产生,会造成线条的缺失,导致光罩报废。为了减少光罩的报废,便需要对出现针孔空洞的光罩进行修补。 ...
【技术保护点】
一种光罩修补液,其特征在于:该修补液由金溶液和甲苯混合配比而成,且金溶液∶甲苯的配比比例在1∶0.23-0.5(质量)之间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:杜武兵,王志兵,林伟,
申请(专利权)人:深圳市路维电子有限公司,
类型:发明
国别省市:94[中国|深圳]
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