溅镀阴极的磁场移动机构制造技术

本实用新型专利技术涉及磁控溅镀设备领域，具体涉及溅镀阴极的磁场移动机构，包括：驱动电机、通过联轴器与驱动电机连接的主动偏心轴、从动偏心轴、溅镀阴极和溅镀靶材；所述溅镀阴极包括槽体、通过螺丝盖设固定在槽体上槽体上盖，以及设置在所述槽体和槽体上盖围成的内腔中的磁铁固定座、内排磁铁和外排磁铁；采用本实用新型专利技术，驱动电机作为动力，联轴器缓冲驱动电机的输出，将扭力平稳输出至主动偏心轮，配合从动偏心轮使得磁铁固定板可以在槽体和槽体上盖形成的内腔中，水平偏心运动，固定在磁铁固定板上的内排磁铁和外排磁铁的封闭磁感线范围，得到进一步扩大使靶材利用率更高。得到进一步扩大使靶材利用率更高。得到进一步扩大使靶材利用率更高。

【技术实现步骤摘要】
溅镀阴极的磁场移动机构


[0001]本技术涉及磁控溅镀设备领域，具体涉及溅镀阴极的磁场移动机构。

技术介绍

[0002]溅镀设备是一种使用电浆对靶材进行离子轰击，使靶材表面的原子可以被撞击出来，最后沉积在待溅镀物上形成薄膜的专用器具。根据激发电浆方式的不同，现有的溅镀设备有许多种不同的形式，其中，磁控式溅镀设备是在靠近靶材的位置安装一个磁控装置，利用磁场与电场间的电磁效应所产生的电磁力，来影响电浆内的电子的移动，使电子可以进行螺旋式的运动，进而增进电子和气体分子间的碰撞次数，以提高气体分子离子化的机会。
[0003]在采用真空磁控溅镀法对材料进行表面沉积镀膜设备方便，固定磁场形式的磁控溅镀阴极其产生的封闭磁力线影响范围为固定,故而作用于靶材上所施加的负电场其产生的正交场有效范围较为狭窄,因此靶材表面的溅蚀区域集中,靶材使用率难以有效提升。

技术实现思路

[0004]本技术目的是在于提供结构简单，成本低，可移动溅镀阴极磁场的机构。
[0005]溅镀阴极的磁场移动机构，包括：驱动电机、通过联轴器与驱动电机连接的主动偏心轴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.溅镀阴极的磁场移动机构，其特征在于，包括：驱动电机(1)、通过联轴器(2)与驱动电机(1)连接的主动偏心轴(3)、从动偏心轴(6)、溅镀阴极和溅镀靶材(13)；所述溅镀阴极包括槽体(14)、通过螺丝(15)盖设固定在槽体(14)上槽体上盖(16)，以及设置在所述槽体(14)和槽体上盖(16)围成的内腔中的磁铁固定座(10)、内排磁铁(11)和外排磁铁(12)；所述磁铁固定座上端设置有主动轴承座(17)和若干从动轴承座(9)；所述槽体上盖(16)上设置有主动轴承架(4)和若干从动轴承架(7)；所述主动偏心轴(3)的一端连接联轴器(2)，另一端穿过主动轴承架(4)与主动轴承座(17)连接；所述从动偏心轴(6)穿过从动轴承架(7)与从动轴承座(9)连接。2.根据权利要求1所述的溅镀阴极的磁场移动机构，其特征在于，所述主动轴承架(4)内嵌设有上轴承(5)，主动轴承座(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：游秀屏，游敬峰，
申请(专利权)人：柏霆苏州光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：