增强湿法加工的低卤化银射线照相元件制造技术

技术编号:2741716 阅读:154 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种用于射线照相的元件,包括支持体和涂在支持体每一面上的卤化银乳剂单元,该卤化银乳剂单元含有卤化银颗粒和明胶载体。以总银量计,卤化银颗粒要含有至少95mol%以上的溴化银,并且卤化银颗粒的投影面积要由至少50%以上的平均长宽比大于8的片状颗粒提供。这些片状颗粒的厚度不超过0.10μm,平均颗粒粒径大约1.5μm到3μm。各卤化银乳剂单元中,银涂布量不超过11mg/dm↑[2],明胶载体涂布量不超过11mg/dm↑[2]。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及射线照相法,更具体来说涉及有相对较低银含量和更牢固覆盖度,从而可用更低强度的加工液进行快速加工的卤化银元件。本文所使用的“反差系数”一词,是指由射线照相元件的特性曲线上得到的平均反差(也称为γ)。选取特性曲线上密度值(D1)大于最低密度0.25的点作为参照点1,密度值(D2)大于最低密度2.0的点作为参照点2,反差系数即为二点密度差ΔD(即1.75)除以曝光量对数差Δlog10E(log10E2-log10E1),其中E1和E2是指参照点1和2处的曝光量。本文所使用的“二重涂布”一词,是指在射线照相元件支持体相对两面上都分布有影像形成层单元的射线照相元件。。这里所使用的“前”和“后”,是指相对于射线照相元件的支持体而言,射线照相元件上分别更接近,或是更远离X射线源的部位或部件。本文所使用的“完全预坚膜化”一词,是指将亲水胶体层预先坚膜到一定程度,以限制射线照相元件在湿法加工过程中的重量增加,使元件的重量增加小于它初始干燥状态下重量的120%。在上述加工过程中,元件重量的增加几乎全部来自于水的摄入。本文所使用的“快速作用加工过程”一词,是指射线照相元件在45秒或更短的时间内,经历一个干-到-干的加工过程。也就是说,从一个干的影像状态曝光的射线照相元件进入一个湿法加工处理机开始,直至它作为一个加工完全的干元件出现,耗费45秒或更短的时间。就所有含有两种或多种卤化物的卤化银颗粒和乳剂而言,卤化物按照浓度递升的顺序来命名。卤化银颗粒的“长宽比”,是指卤化银颗粒的等效圆直径(ECD)与卤化银颗粒厚度的比值。颗粒的等效圆直径,是指面积与颗粒的投影面积相同的圆的直径。卤化银颗粒度(ECD)的“变异系数”(COV),定义为颗粒ECD值标准偏差的100倍除以颗粒ECD平均值。“片状颗粒”一词,是指卤化银颗粒具有两个平行的晶面,这两个晶面明显大于其余任何晶面,而且颗粒的长宽比至少是2。“片状颗粒乳剂”一词,是指全部颗粒投影面积的50%以上由片状颗粒提供的乳剂。“遮盖力”一词,是指用mg/dm2表示的最大密度与显影银的比值乘100。形容影像色调的“冷色调”一词,是指在最低密度以上1.0处测得的具有更高负值CIELAB b*的影像色调,这里最佳的冷色调值是-6.5或更负一些。该测量技术在Billmeyer和Saltzman合著的第二版的《彩色技术原理》的第三章有论述(Wiley,New York,1981)。b*值描述的是影像的黄色度对蓝色度的值,数值越正,表示影像有更反泛黄的趋势(影像的暖色调)。“稀土元素”是指原子序数号为39,或57到71的元素。《研究发现》一书由Kenneth Mason Publications,Ltd.出版(Dudley House,12 North St.,Emsworth,Hampshire P010 7DQ,England.)。用于医疗诊断的射线照相法,其目标是在给病人曝光最小剂量的X射线的条件下,获得可用于做出医疗诊断结论的可见的银影像。病人因曝光受到的X射线,可以通过结合使用二重涂布的射线照相元件和前后荧光增感屏而减小到最低。一部分穿过病人身体的X射线,可以被前后各自设置的荧光增感屏所吸收。由于受到X射线曝光,各荧光屏都发出荧光,而从前后荧光屏发出的荧光,使得二重涂布的射线照相元件的前后乳剂层进行成像曝光。由于采用了这样的设置,与使用单一乳剂层和不使用增感屏的情况相比,要获得差不多影像,病人曝光时受到的X射线可以减少到后者所需曝光量的百分之五。与感光照相影像不同,感光照相影像拍摄时采用小版本底片,然后通过放大成为可见的影像,而射线照相影像通常不需要放大过程即可看到。这样,按照感光照相的标准,射线照相需要非常大的底版。而且,与冲洗过程中需要回收银的彩色照相不同,由于需要射线照相影像有效地证实医疗诊断,所以射线照相元件中的银经常在数年之内不需要回收。而且,当具有病理学意义的事件被观察到的时候,通常需要获得大量的影像。因此,这就需要使射线照相元件中的银减少到可用的最低限度,以适应长期保存医疗诊断影像的需要。而银涂布量的减少被实际需要所限制,因为需要有效的银来获得至少为3.0的最大影像密度(Dmax),并要保持影像的平均反差(γ)至少为2.7。既能满足上述性能要求,又可以减少银涂布量的早期方法,是在乳剂中使用可以增加遮盖力的有机附加物。如US-A-3,271,158(Allentoff et al),US-A-3,272,631(Garrett et al)和US-A-3,514,289(Goffe et al)中所述,将水溶性的葡聚糖,聚乙烯吡咯烷酮和聚丙烯酰胺混入乳剂层中来提高遮盖力。其他遮盖力增强物质,列在《研究发现》(Vol.184,1979年8月)一书的Item 18431“E.含有遮盖力附加物的射线照相材料的稳定作用”部分。另一个通常采用的办法,是通过使用有机遮盖力增强剂使遮盖力达到最大,并且仅仅将乳剂层部分预坚膜,然后依赖预坚膜剂在加工过程中将乳剂层完全坚膜。US-A-4,414,304(Dickerson et al)中指出,片状颗粒乳剂对准备要完全预坚膜的情况可以提供有效的遮盖力。在坚膜效果足够高,以至于可以省掉加工液中坚膜剂的情况下,作为坚膜程度的函数,Dickerson等人制备的片状颗粒乳剂的遮盖力几乎没有什么变化。而且,Dickerson et al证明随着片状颗粒平均厚度的减少,其遮盖力增加。当采用片状颗粒乳剂试图使银的涂布量减少到最小时,由于减小片状颗粒的厚度会导致影像暖色调的增加成为一个问题。这就限制了能够用于射线照相元件中的片状颗粒厚度的最小值,这样随之就会反映在银的涂布量上,即尽管银的涂布量已经低于那些没有采用片状颗粒乳剂的元件,但它仍然高于其它能够满足影像结构要求的最低值。使用片状颗粒乳剂带来的另一个问题,是残余染料的污渍问题。与非片状颗粒乳剂相比,为了最适宜地敏化片状颗粒乳剂,光谱增感染料对银的比值需更高,其结果是在加工过程中,必须去除更高浓度的光谱增感染料,以避免残余染料的污渍问题。上述这些问题中的一部分可以按照US-A-5,800,976(Dickersonet al)中所述加以克服,即通过使用支持体和乳剂特性相结合,在支持体每一面上涂布更低含量的银(如11.8mg/dm2)是可行的。特别是该专利指出通过使用中性密度支持体,至少90%以上的片状颗粒,加入一种遮盖力增强化合物(如葡聚糖或聚丙烯酰胺)混入明胶载体中,以及部分地将明胶载体坚膜,可以使银含量降低成为可能。虽然该专利中所描述的射线照相胶片指出了该领域发展的一个重要方向,但为了提供可用于各种加工系统的更快的湿法加工工艺,需要更进一步的减少银和明胶载体的含量。到目前为止,人们认为更低的胶片覆盖度和更快的加工过程,将产生更低的最大密度Dmax和反差系数,以及不可接受的干燥时间。本专利克服了这些困难,并且为与感光加工化学和设备相容的新感光加工系统提供了机会。为了克服上述指出的问题,本专利技术提供一种射线照相元件,该元件包括支持体和涂在支持体每一面上的卤化银乳剂单元,卤化银乳剂单元中含有卤化银颗粒和明胶载体。根据总银量计,卤化银颗粒含有至少95mol%以上的溴化物,并且卤化银颗本文档来自技高网...

【技术保护点】
含有支持体和涂在支持体每一面上的卤化银乳剂单元的用于射线照相的元件,其卤化银乳剂单元含有卤化银颗粒和明胶载体,这些卤化银颗粒以总银量计,含有至少95mol%的溴化银,并且卤化银颗粒的投影面积要由至少50%以上的平均长宽比大于8,厚度不超过0.10μm,平均粒径大约1.5μm到3μm的片状颗粒提供,该元件的特征在于:各卤化银乳剂单元中,银涂布量不超过11mg/dm↑[2],明胶载体涂布量不超过11mg/dm↑[2]。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:RE迪克森AS菲特曼
申请(专利权)人:伊斯曼柯达公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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