X射线发生管、X射线发生装置和射线照相系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及X射线发生管、X射线发生装置和射线照相系统。X射线发生管包括：阳极，包括被配置为在电子的照射下生成X射线的靶，以及与所述靶电连接的阳极构件；阴极，包括被配置为沿着朝向所述靶的方向发射电子束的电子发射源，以及与所述电子发射源电连接的阴极构件；以及绝缘管，在所述阳极构件和所述阴极构件之间延伸。所述阳极还包括与所述阳极构件电连接的内周阳极层，所述内周阳极层沿着所述绝缘管的内周面延伸，并且远离所述阴极构件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及可以应用到医疗设备和工业设备等领域中的非破坏性X射线成像的X射线发生装置，以及具有X射线发生装置的射线照相系统。
技术介绍
最近，具有微聚焦X射线发生管的X射线检查装置已经开始用于电子设备的检查。应用到这样的X射线检查装置的微聚焦X射线发生管被称为具有透射靶的透射型X射线发生管。透射型X射线发生管与反射型靶相比在如下方面是有优势的，即可以确保宽的辐射角、短的源-物体间距离(SOD)和大的放大倍数。日本专利公开号2012-104272公开了透射型微聚焦X射线发生管，其中导电波纹管置于靶的后面，因而抑制由于后向散射的电子导致的波纹管的带电并且使电子轨迹稳定化。日本专利公开号2012-104272还公开了，其中说明的透射型微聚焦X射线发生管由于抑制了带电，从而改进了焦点的位置精度并且减少了焦点未对准的状态。日本专利公开号2002-298772公开了透射型微聚焦X射线发生管，其中电子发射源(在其尖端具有聚焦透镜电极)很接近靶。r>日本专利公开号2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种X射线发生管，其特征在于包括：阳极，包括：靶，被配置为在电子的照射下生成X射线，以及阳极构件，与所述靶电连接；阴极，包括：电子发射源，被配置为沿着朝向所述靶的方向发射电子束，以及阴极构件，与所述电子发射源电连接；以及绝缘管，在所述阳极构件和所述阴极构件之间延伸，其中所述阳极还包括与所述阳极构件电连接的内周阳极层，所述内周阳极层沿着所述绝缘管的内周面延伸并且远离所述阴极构件。

【技术特征摘要】
2014.11.28 JP 2014-2424571.一种X射线发生管，其特征在于包括：
阳极，包括：
靶，被配置为在电子的照射下生成X射线，以及
阳极构件，与所述靶电连接；
阴极，包括：
电子发射源，被配置为沿着朝向所述靶的方向发射电子束，
以及
阴极构件，与所述电子发射源电连接；以及
绝缘管，在所述阳极构件和所述阴极构件之间延伸，
其中所述阳极还包括与所述阳极构件电连接的内周阳极层，所述
内周阳极层沿着所述绝缘管的内周面延伸并且远离所述阴极构件。
2.根据权利要求1所述的X射线发生管，
其中所述电子发射源从所述阴极构件朝向所述靶突出，而所述内
周阳极层具有在管轴方向上与所述电子发射源交迭的部分。
3.根据权利要求2所述的X射线发生管，
其中所述电子发射源包括：
头部，面向所述阳极构件，以及
颈部，与所述头部和所述阴极构件相连接，其中所述颈部的在管
径方向上的半径比所述头部的在管径方向上的半径小。
4.根据权利要求3所述的X射线发生管，
其中所述头部被形成为静电透镜电极。
5.根据权利要求4所述的X射线发生管，
其中所述静电透镜电极是聚焦透镜电极。
6.根据权利要求1所述的X射线发生管，
其中所述内周阳极层在所述绝缘管的所述内周面的周向上是连续
的。
7.根据权利要求3所...

【专利技术属性】
技术研发人员：盐泽崇史，辻野和哉，角田浩一，伊藤靖浩，三道和宏，五十岚洋一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP