照相元件，化合物和冲洗加工方法技术

公开了含光敏卤化银乳剂层的照相元件，乳剂层与具有结构式（Ⅰ）的“ＮＢ成色剂”相结合；式中：术语“ＮＢ成色剂”代表结构式（Ⅰ）的成色剂，它形成的染料利用自旋－涂布的左带宽（ＬＢＷ），至少比溶液形式中同样染料的要少５ｎｍ；Ｙ是Ｈ或偶合脱落基团；每个Ｚ＊是独立地选择的取代基，ｐ是０－２；Ｖ是含磺酰胺基的取代基；Ｒ↓［４］是氢或通过脂族碳原子与碳酰胺基连接的基团；条件是在Ｖ、Ｒ↓［４］和全部Ｚ＊中脂族碳原子的总和至少是８个。元件提供一种经改进色调的染料。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
,化合物和冲洗加工方法
本专利技术涉及含有形成苯酚染料的成色剂的卤化银，有一个取代的碳酰胺基定位于成色剂的2-位，和一个碳酰胺基定位于它的5-位，并含磺酰胺基。在基于卤化银的彩色照相中，一般含有涂在支持体上的多层光敏照相卤化银乳剂，将这些层的一层或多层各对蓝光、绿光和红光进行光谱增感。蓝、绿和红光敏层一般分别含形成黄、品和青(cyan)染料的成色剂。对光曝光后，将已曝光的材料浸在含有芳族伯胺彩色显影剂的含水碱性溶液中完成彩色显影。选择形成染料的成色剂是为了与氧化的彩色显影剂反应，在所谓的减法彩色加工过程只产生黄、品和青染料，以再现它们的互补色，如在原始影像中的蓝、绿和红。选择形成染料的成色剂的重要特征包括与氧化的彩色显影剂高效率反应，这样可减少在中成色剂和卤化银所需要的量；形成合乎照相应用所感兴趣的色调的染料，对于照相纸的应用这个要求是，染料要有低的不愿有的副吸收，以导致在相片中有好的彩色再现；在环境照明和常规的储存条件下，能减少影像染料的损失以改进影像的耐久性；及在成色剂的溶剂中加入所选的形成染料的成色剂必须显示良好的溶解性，在明胶中提供好的分散性，并且为在生产过程中有最大的效率，在操作和处理时要保持稳定。近年来，大量的研究工作旨在为卤化银照相材料按照要改进的彩色可再现性和影像染料的稳定性，来改进形成染料的成色剂。但是，仍然需要作进一步的改进，尤其是在青成色剂方面。一般，青染料是从萘酚和苯酚制成的，如在U.S.P2,367,351,2,423,730,2,474,293,2,772,161,2,772,162,2,895,826,2,920,961,3,002,836,3,466,622,3,476,563,3,552,962,3,758,308,3,779,763,3,839,044,3,880,661,3,998,642,4,333,999,4,990,436,4,960,685,和5,476,757,在法国1,478,188和1,479,043,和在英国专利2,070,000中所述。这些类型的成色剂可以或是加在照相卤化银乳剂层中使用，或是外加在冲洗加工浴中使用。在前一种情况，成色剂的分子中必须要有非扩散(ballast)取代基，以防止成色剂从一层移入另一层。虽然这些成色剂在彩色照相胶片和相纸产品中已广泛应用，从它们得到的染料仍因对热、湿度或光的稳定性差、低偶合效率或光学密度而受损失，而且尤其是不合乎需要的蓝和绿吸收，它们将引起彩色再现和彩色饱和度明显的变坏。为克服这些问题中的某些问题，最近推荐的青成色剂是，在5-位的非扩散基团含砜、磺酰胺或硫酸盐部分的2,5-二酰氨苯酚，如在U.S.P4,609,619,4,775,616,4,849,328,5,008,180,5,045,442,和5,183,729,和日本专利申请JP02035450A2,JP01253742A2,JP04163448A2,JP04212152A2，和JP05204110A2中所述。即使在各种例子中宣称从这些成色剂得到的染料改进了对热和湿度的稳定性、增加了光学密度和在漂白浴中抑制被亚铁离子还原，染料的最大吸收(λmax)红移太多(即，移至可见光谱的红端)，而且吸收谱也太宽，带有大量不希望有的蓝和绿的吸收，及经常对光褪色没有足够的稳定性。因而，对于直接观看的材料这些成色剂是不可接受的，例如反转透明片或彩色相纸和打印的应用。染料的色调是它光谱吸收带的形状和位置两者的函数。传统的是，在彩色照相纸中所用的青染料具有几乎是对称的，集中在620-680nm区域的光谱带，常用的是630-660nm，这样的染料在光谱的绿和蓝区有相当大量的不希望有的吸收。更希望的是，在性质上染料的吸收带是不对称的和向绿区移动，即，在短波长一边有一陡的斜率。在曲线短的一边上的半带宽，也称为左带宽或LBW，希望是窄的。这样的染料比有对称吸收带的染料更合适以较短波长为顶点，但所希望的峰的确切位置取决于几种因素，包括品红色和相关黄色染料的对称的程度和吸收带的形状和位置。最近，Lau等在U.S.5,686,235中描述了具体的一类形成青染料的成色剂，已显示可改进热稳定性和色调，尤其是减少了边带的吸收和性质上不对称的吸收带。所公开的作为合适的成色剂含有连接在酚环5-位的乙酰胺基的2-位上的砜基，和含有在酚环2-位上的苯基碳酰胺基。其他有关的专利是U.S.P5,047,314,5,047,315,5,057,408,和5,162,197，虽然Lau等的成色剂提供了优良的光谱，还是希望去发现能达到同样结果，和可提供其他所希望的特点的别的酚结构。化学上的改变能提高更好选择所希望的曲线形状和最大吸收波长及其他性质(如成色剂的稳定性、染料的光和暗稳定性、活性等)的能力。日本公布的申请59-111,645建议在5-碳酰胺取代基中含α-磺酰取代基的某些酚成色剂，它们形成的染料含有最大吸收在“约660nm”，实例为657-660nm。公布的染料出现的光谱曲线显示普通宽度的吸收带，但曲线已移到长波长一边以减少在短波边不希望有的吸收。公布的化合物没有提供希望有的窄的LBW和最大吸收的较短波长。要解决的问题是使用别的形成染料的酚成色剂，其形成含有窄的LBW和相应的较小的不愿有的副吸收的染料，提供、化合物和加工过程。本专利技术提供含与“NB成色剂”相结合的光敏卤化银乳剂层的，成色剂含有结构式(Ⅰ) 其中术语“NB成色剂”代表结构式(Ⅰ)的成色剂，其形成的染料利用自旋涂布时的左带宽(LBW)比溶液形式的同样染料的LBW要至少小5nm；Y是氢或偶合脱落(coupling-off)基团；Z*是独立地选择的取代基，其中p为0-2；V是含磺酰胺基的取代基；R4是氢或通过脂族碳原子连接到碳酰胺的基团；在V、R和全部Z*中所提供的肪肪族碳原子联合总和至少是8个。本专利技术也仔细考虑成色剂化合物和使用本专利技术元件的成像方法。本专利技术的元件显示优良的色调。本专利技术一般可如以上摘要所描述。成色剂是一个“NB成色剂”，它是含有取代基的结构式(Ⅰ)的窄带宽成色剂，因此自旋涂布的形式比溶液形式，在左带宽至少减少5nm。根据该程序，染料是由成色剂与显影剂4-氨基-3-甲基-N-乙基-N-(2-甲磺酰胺乙基)苯胺倍半硫酸盐水合物结合产生的。如果染料在二-正-丁基癸二酸酯溶剂中，以3％w/v(重量/体积)的溶液自旋涂布，它的吸收光谱的左带宽(LBW)至少比同样的染料在乙腈溶液中的LBW至少小5nm，那么这成色剂是“NB成色剂”。染料光谱曲线的LBW是光谱曲线左边和在最大密度一半处测得的最大吸收波长之间的距离。在本专利技术中所用的成色剂可采用如在600-700nm范围有最大吸收的形成青染料的成色剂。一些取代基的选择将导致含有更短波长的染料如570-600，而且这些成色剂对于某些应用也有用。制备“自旋涂布”的样品是要首先制备染料在二-正-丁基癸二酸酯溶剂中的溶液(3％w/v)。如果染料是不可溶的，要加入二氯甲烷以达到溶解。将溶液过滤，并用0.1-0.2ml施于透明的聚对苯二甲酸乙二醇酯支持体(约4cm×4cm)上，用自旋涂布设备(从Headway Research Inc.,Garland TX买的，型号为No.EC101)以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种照相元件，含光敏卤化银乳剂层，乳剂层与具有结构式（Ⅰ）的“ＮＢ成色剂”相结合：＊＊＊ （Ⅰ）其中：术语“ＮＢ成色剂”代表结构式（Ⅰ）成色剂，它形成的染料利用自旋－涂布的左带宽（ＬＢＷ），至少比溶液形式中同样染料的要少５ｎｍ； Ｙ是Ｈ或偶合脱落（ｃｏｕｐｌｉｎｇ－ｏｆｆ）基团；每个Ｚ↑［＊］是独立地选择的取代基，ｐ是０－２；Ｖ是含磺酰胺基的取代基；Ｒ↓［４］是氢或通过脂族碳原子与碳酰胺基连接的基团；条件是在Ｖ、Ｒ↓［４］和全部Ｚ↑［＊］中脂族碳 原子的总和至少是８个。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：WJ贝格利，GM鲁索，DT库尔特，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]