划线装置、配备该划线装置的基板切割装置以及使用该基板切割装置的基板切割方法。一种划线装置，其可以在相同的位置对ＴＦＴ基板和Ｃ／Ｆ基板同时执行划线工艺，从而有效地利用设备空间并提高生产率。基板切割装置配备该划线装置，并且基板切割方法使用该基板切割装置。该划线装置包括用于吸附包括第一和第二接合基板的第一母基板的载物台、用于保持包括接合的第三和第四基板的第二母基板的划线带、以及用于在第一母基板的第二基板上或在第二母基板的第三基板上形成狭缝的头单元。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种占用空间小并且提高了生产率的用于液晶显示器的划线装置、一种配备该划线装置的基板切割装置和一种使用该基板切割装置的基板切割方法。
技术介绍
LCD器件通过根据以矩阵阵列形式设置的液晶单元分别提供图像数据信号，由此控制各个液晶单元的透光率，来显示所需的图像。制造这样的LCD器件要利用其上形成有多个薄膜晶体管(TFT)阵列基板的大面积母基板。使用其上形成有多个滤色器(C/F)基板的另一大面积母基板。为了提高生产能力，将母基板接合在一起以同时形成多个液晶板。然后，需要执行用于将所接合的母基板切割成多个单元液晶板的工艺。液晶板切割工艺通常包括划线工艺，其通过使用划线轮在母基板的表面上形成所需深度的狭缝，该划线轮由硬度比母基板高的金刚石材料制成，该母基板例如由玻璃制成。还包括切断工艺，其对母基板施加机械力，由此对母基板进行切割。图1是表示现有技术的LCD器件的截面图。该LCD器件是根据以下方法制造的。为了简化，将仅结合一个像素区域给出下面的说明。图1示出了由诸如金属的导电材料制成的栅极11，首先在第一透明基板10的预定区域上形成栅极11。然后，在包括栅极11的第一基板10的整个上表面上形成由氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiO2)制成的栅极绝缘膜12。其后，在栅极绝缘膜12上与栅极11相对应的区域处形成由非晶硅制成的有源层13。在有源层13上与有源层13的各个横向边缘部分相对应的区域处形成欧姆接触层14。欧姆接触层14由掺杂非晶硅制成。源极15和漏极16由诸如金属的导电材料制成，并依次形成在欧姆接触层14上。栅极11与源极15和漏极16一起构成薄膜晶体管T。虽然未示出，但是栅极11连接到选通线，而源极15连接到数据线。选通线和数据线彼此交叉并且限定像素区域。然后在包括源极15和漏极16的第一基板10的整个上表面上形成保护膜17。保护膜17由氮化硅、氧化硅或有机绝缘材料制成。保护膜17具有暴露漏极16的表面的预定部分的接触孔18。其后，在保护膜17上的像素区域处形成由透明导电材料制成的像素电极19。像素电极19经由接触孔18连接到漏极16。然后在包括像素电极19的第一基板10的整个上表面上形成第一配向膜20。第一配向膜20例如由聚酰亚胺制成，而且具有下述的表面，在该表面上，第一配向膜20的分子沿预定的方向取向。将第二透明基板31设置在第一基板10上方，同时与第一基板10垂直间隔开预定的距离。在第二基板31的下表面与第一基板10的薄膜晶体管T相对应的区域处形成黑底32。尽管未示出，但是黑底32还覆盖像素电极19之外的区域。然后在第二基板31上，黑底32的下面形成滤色器33。通常将滤色器设置为重复的红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)滤色器图案的形式，其中每一个滤色器图案与一个像素区域相对应。随后在第二基板31上，滤色器33的下面形成由透明导电材料制成的公共电极34。然后在第二基板31上，公共电极34的下面形成第二配向膜35。第二配向膜35例如由聚酰亚胺制成，并且具有下述的表面，在该表面上，第二配向膜35的分子沿预定的方向取向。第一配向膜20和第二配向膜35A之间密封有液晶层40。制造上述LCD器件要使用以下工艺阵列基板制造工艺，包括在基板上形成薄膜晶体管和像素电极以制造阵列基板；滤色器基板制造工艺，包括在另一基板上形成滤色器和公共电极以制造滤色器基板；液晶板制造工艺，包括设置所制造的基板，注入和密封液晶材料并安装偏振板以制造液晶板。图2是表示现有技术的LCD制造方法的流程图。图2表示，在该方法中，首先制备包括薄膜晶体管(TFT)的薄膜晶体管阵列基板，以及包括滤色器的滤色器基板(S1)。通过重复执行淀积薄膜和对所淀积的薄膜进行构图的工艺来形成TFT阵列基板。在这种情况下，用于在TFT阵列基板的制造中对薄膜进行构图的掩膜数量与制造TFT阵列基板的工艺的数量相对应。目前，正在进行研究以减少掩膜的数量，从而降低制造成本。通过依次形成黑底、R、G和B滤色器以及公共电极来制造滤色器基板，该黑底用于防止光通过像素区域以外的区域泄漏。可以使用染色法、印刷法、颜料分散法、电淀积法等来形成滤色器。目前，广泛使用颜料分散法。然后，在各个基板上形成配向膜，以确定液晶分子的初始取向方向(S2)。涂覆聚合物薄膜，并且对聚合物薄膜的表面进行处理，以使得经处理的表面上的聚合物薄膜的分子沿预定的方向取向，来形成配向膜。通常，将聚酰亚胺基有机材料用于配向膜。对于配向方法，通常使用研磨法。在研磨法中，使用研磨布沿预定的方向对配向膜进行研磨。这种研磨法因为易于进行配向处理，所以适用于批量生产。此外，该研磨法有利于实现稳定的配向并且易于控制预倾角。最近已经开发并且实际应用了一种光学配向方法，其使用偏振光束来实现配向。接下来，在两个基板之一上形成密封图案(S3)。该密封图案设置在要显示图像的区域的周围。该密封图案具有用于注入液晶材料的口，而且该密封图案防止所注入的液晶材料泄漏。通过形成具有预定图案的热固化树脂层来制成密封图案。丝网印刷法(screen printing method)使用丝网掩模。可以使用利用施放器的密封剂施放法。主要使用工艺较为简便的丝网印刷法。然而，丝网印刷法也有缺点，因为丝网掩模可能与配向膜接触而可能产生劣质的产品。而且，丝网掩模不易处理日益增大的基板尺寸。因此，密封剂施放法逐步替代了丝网印刷法。随后，将预定尺寸的间隔物喷涂在TFT阵列基板或滤色器基板中的任意一个上，以在两个基板之间保持精确并均匀的间隔(S4)。喷涂间隔物的方法包括湿喷涂法和干喷涂法。在湿喷涂法中，将间隔物材料与酒精相混合地喷涂，在干喷涂法中，将间隔物未稀释地喷涂。对于干喷涂法，包括使用静电的静电喷涂方法和使用压缩气体的离子喷涂方法。因为LCD容易被静电损坏，所以主要使用离子喷涂方法。此后，将LCD的两个基板(即TFT阵列基板和滤色器基板)设置为使得密封图案插入在两个基板之间。在这种情况下，使密封图案在压力下固化，以接合基板(S5)。在这种情况下，基板的配向膜彼此相对，而且像素电极和滤色器为一一对应的关系。接下来，将所接合的基板切割为多个单个的液晶板(S6)。通常将多个液晶板(其中的每一个将成为一个LCD器件)形成在一个基板片上，并且随后将其分割为多个单独的板，以提高制造效率并降低制造成本。液晶板切割工艺包括划线工艺，其通过使用划线轮在母基板的表面上形成所需深度的狭缝，该划线轮由硬度比母基板高的金刚石材料制成。该基板例如可以由玻璃制成。还包括切断工艺，其将切断条设置在基板的形成有狭缝的部分上，并且对切断条施加预定的压力，由此沿狭缝延伸的方向对该基板进行切割。随后，将液晶材料注入到各个液晶板的两个基板之间(S7)。主要使用利用液晶板内部和外部之间的压力差的真空注入方法来注入液晶材料。在注入到液晶板内部的液晶材料中可能存在微气泡，并且因此液晶板的内部可能存在气泡，从而使得液晶板变得劣质。为了防止这种问题，相应地需要去气泡处理，其中将液晶材料保持在真空下较长时间，以通过除气作用来去除气泡。在完成液晶注入之后，将注入口密封以防止液晶通过注入口泄漏。在注入口上涂覆紫外线固化树脂，并且对所涂覆的树脂照射紫外光，从而使树脂固化，以密封注入口。接下来，将偏本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种划线装置，其包括：载物台，用于吸附包括第一和第二接合基板的第一母基板；划线带，用于保持包括第三和第四接合基板的第二母基板；以及头单元，用于在所述第一母基板的所述第二基板上或在所述第二母基板的所述第三基板上形成狭缝 。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：金正植，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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