【技术实现步骤摘要】
一种气瓶内壁研磨装置
本技术涉及研磨设备
,具体涉及一种气瓶内壁研磨装置。
技术介绍
伴随着电子工业的迅速发展,市场上对芯片及半导体类产品的需求逐渐增加,其中高纯气体作为电子工业的原料气和过程气,其需求也在不断增加,而高纯度气体通常采用气瓶作为存储用具。但是钢瓶内壁的光洁度对充装的气体纯度有较大影响。如果气瓶内壁没有充分研磨,光洁度较差,杂质和有害物质会导致气瓶内部微生物滋生,进而腐蚀气瓶的内壁,无法达到充装高纯度气体的要求,所以需要对钢瓶的内壁进行精细研磨抛光,受气瓶孔径影响,传统的转动式研磨设备无法伸入气瓶内,通常将液体磨料注入气瓶内,而后利用研磨装置带动气瓶旋转,进而通过液体磨料与气瓶内壁之间的不断摩擦对气瓶内壁进行研磨抛光处理;由于气瓶在研磨过程中需要快速旋转,需要确保气瓶在研磨过程的对中性,现有的气瓶研磨装置多采用承托架式固定结构,将气瓶放入承托架的存放槽内,而后利用螺栓对气瓶进行夹紧固定,采用此种固定方式的定位精度较低,无法保证气瓶的对中性,会使得气瓶在转动过程中偏心晃动,轻则影响液体磨料对气瓶的研 ...
【技术保护点】
1.一种气瓶内壁研磨装置,包括支撑板(11),其特征在于:所述支撑板(11)上设置有分别对气瓶(5)两端进行夹紧固定的定位框(7)和承托架(4),所述定位框(7)上设置有对气瓶(5)夹紧固定的刻度螺栓(6),所述定位框(7)的一侧连接有十字轴万向节(8),所述十字轴万向节(8)一侧的支撑板(11)顶面上设置有驱动十字轴万向节(8)旋转的驱动电机(9),所述承托架(4)的一侧设有安装座(18),所述安装座(18)内部插接有竖直布置的推板(3),所述推板(3)上开设有竖向排列布置的调节槽(301),所述安装座(18)的外壁上设置有配合调节槽(301)对推板(3)进行限位的固定螺 ...
【技术特征摘要】
1.一种气瓶内壁研磨装置,包括支撑板(11),其特征在于:所述支撑板(11)上设置有分别对气瓶(5)两端进行夹紧固定的定位框(7)和承托架(4),所述定位框(7)上设置有对气瓶(5)夹紧固定的刻度螺栓(6),所述定位框(7)的一侧连接有十字轴万向节(8),所述十字轴万向节(8)一侧的支撑板(11)顶面上设置有驱动十字轴万向节(8)旋转的驱动电机(9),所述承托架(4)的一侧设有安装座(18),所述安装座(18)内部插接有竖直布置的推板(3),所述推板(3)上开设有竖向排列布置的调节槽(301),所述安装座(18)的外壁上设置有配合调节槽(301)对推板(3)进行限位的固定螺钉(22),所述承托架(4)通过轴承与推板(3)转动配合,所述推板(3)的一侧设置有带动推板(3)移动的推送液压缸(2),所述定位框(7)与承托架(4)之间的支撑板(11)顶面上设有对气瓶(5)进行支撑的承托导轮(15)。
2.根据权利要求1所述的气瓶内壁研磨装置,其特征在于:所述支撑板(11)的顶面沿长度方向上开设有对称布置的滑动槽(17),所述滑动槽(17)的内部滑动安装有第一滑动座(14)和第二滑动座(16),所述第一滑动座(14)和第二滑动座(16)的底面上均设置有与滑动槽(17)相匹配的导向块(19),所述承托导轮(15)通过轴承安装在第一滑动座(14)的上方,所述安装座(18)固定安装在第二滑动座(16)上。
3.根据权利要求2所述的气瓶内壁研磨装置,其特征在于:所述滑动槽(17)为T型槽,所述导向块(19)为配合该滑动槽(17)的T型块,所述滑动槽(17)与导向块(19)采用间隙配合。
4.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:王玉龙,杨勇,李琦,
申请(专利权)人:洛阳弘德重型机械有限公司,
类型:新型
国别省市:河南;41
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