【技术实现步骤摘要】
一种芯片的封装结构及其封装方法
本专利技术涉及一种芯片的封装结构及其封装方法,属于半导体芯片封装
技术介绍
目前常见的扇出型封装产品,如图1所示,其包括具有有源表面的芯片单元本体100,所述芯片单元本体100的有源表面设置有芯片电极101,所述芯片单元本体100的有源表面和芯片电极101的上表面设置有保护层200,所述保护层200在芯片电极101上方开设保护层开口,所述保护层开口内设置金属凸块300,所述金属凸块300通过保护层开口与芯片电极101连接;所述芯片单元本体100的背面设置背面保护层600。目前芯片封装产品的正面的保护较弱,当芯片正面受力较大时容易发生芯片功能失效问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有封装技术不足,提供一种芯片正面受到保护的芯片封装结构及其封装方法。本专利技术的目的是这样实现的:本专利技术提供了一种芯片的封装结构,其包括第一塑封体、塑封料Ⅱ、再布线金属层、钝化层Ⅱ和金属连接件Ⅱ,所述第一塑封体包括具有有源表面的芯片单元本体、原始对位标记和塑 ...
【技术保护点】
1.一种芯片的封装结构,其特征在于,其包括第一塑封体、塑封料Ⅱ(610)、再布线金属层(710)、钝化层Ⅱ(810)和金属连接件Ⅱ(900),/n所述第一塑封体包括具有有源表面的芯片单元本体(10)、原始对位标记(120)和塑封料Ⅰ(510),所述芯片单元本体(10)的有源表面设置有芯片电极(113),所述芯片单元本体(10)的有源表面和芯片电极(113)的上表面设置有钝化层Ⅰ(210)和钝化层Ⅰ开口(213),所述钝化层Ⅰ开口(213)内设置绝缘层Ⅰ(310)和绝缘层Ⅰ开口Ⅰ(311)、绝缘层Ⅰ开口Ⅱ(312),所述绝缘层Ⅰ开口Ⅰ(311)露出芯片电极(113)的上表面, ...
【技术特征摘要】
1.一种芯片的封装结构,其特征在于,其包括第一塑封体、塑封料Ⅱ(610)、再布线金属层(710)、钝化层Ⅱ(810)和金属连接件Ⅱ(900),
所述第一塑封体包括具有有源表面的芯片单元本体(10)、原始对位标记(120)和塑封料Ⅰ(510),所述芯片单元本体(10)的有源表面设置有芯片电极(113),所述芯片单元本体(10)的有源表面和芯片电极(113)的上表面设置有钝化层Ⅰ(210)和钝化层Ⅰ开口(213),所述钝化层Ⅰ开口(213)内设置绝缘层Ⅰ(310)和绝缘层Ⅰ开口Ⅰ(311)、绝缘层Ⅰ开口Ⅱ(312),所述绝缘层Ⅰ开口Ⅰ(311)露出芯片电极(113)的上表面,所述绝缘层Ⅰ开口Ⅰ(311)内设置金属连接件Ⅰ,所述金属连接件Ⅰ通过绝缘层Ⅰ开口Ⅰ(311)与芯片电极(113)连接,所述绝缘层Ⅰ开口Ⅱ(312)露出原始对位标记(120),所述原始对位标记(120)处通过绝缘层Ⅰ开口Ⅱ(312)设置对位标记保护块(150),
所述塑封料Ⅰ(510)将金属连接件Ⅰ、对位标记保护块(150)进行塑封,其上表面与金属连接件Ⅰ的上表面齐平;
所述塑封料Ⅱ(610)包覆第一塑封体的四周和背面,形成第二塑封体,其上表面与第一塑封体的上表面齐平;
所述再布线金属层(710)参考对位标记保护块(150)设置于第二塑封体上方,所述再布线金属层(710)包括若干层金属层和绝缘填充层,上下相邻的金属层之间选择性连接,绝缘填充层设置于金属层之间,所述再布线金属层(710)的最下起始层设置下层焊盘(713)、最上终止层设置上层焊盘(715),所述下层焊盘(713)和上层焊盘(715)均露出绝缘填充层,其中所述下层焊盘(713)与第一塑封体的金属连接件Ⅰ的上表面连接;
所述再布线金属层(710)上方设置钝化层Ⅱ(810)和钝化层Ⅱ开口(813),所述钝化层Ⅱ开口(813)露出再布线金属层(710)的上层焊盘(715);
所述钝化层Ⅱ(810)上方设置金属连接件Ⅱ(900),所述金属连接件Ⅱ(900)与再布线金属层(710)的上层焊盘(715)连接。
2.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述金属连接件Ⅰ由下而上依次设置粘附阻挡层(410)、金属种子层Ⅰ和金属凸块(430),所述粘附阻挡层(410)是一层或两层材料构成的复合层。
3.根据权利要求2所述的封装结构,其特征在于,所述金属凸块(430)的横截面形状包括但不限于矩形、圆形或椭圆形。
4.根据权利要求2或3所述的封装结构,其特征在于,所述金属种子层Ⅰ和金属凸块(430)为一体结构。
5.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述金属连接件Ⅱ(900)由下而上依次包括粘附层(910)、金属种子层Ⅱ、金属柱(920)和焊锡球(950)。
6.根据权利要求5所述的封装结构,其特征在于,所述金属种子层Ⅱ和金属柱(920)为一体结构,所述金属柱(920)的横截面形状包括但不限于矩形、圆形或椭圆形。
7.一种芯片的封装结构的封装方法,工艺步骤如下:
步骤一,取一集成电路晶圆(100),其上表面设有芯片电极(113)、原始对位标记(120)和钝化层Ⅰ(210)、钝化层Ⅰ开口(213),芯片电极(113)在集成电路晶圆(100)内实现电通讯并部分露出钝化层Ⅰ开口(213),形成芯片电极(1...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐虹,陈栋,金豆,徐霞,陈锦辉,郑芳,
申请(专利权)人:江阴长电先进封装有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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