保持装置、曝光装置、物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种保持装置、曝光装置、物品制造方法。为了提供能够以再现光学面的形状的方式保持光学元件的保持装置，本发明专利技术所涉及的保持装置以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式，保持光学元件，其中，具备：保持光学元件的台座及载置台座的载置台，台座及载置台相互针对的接触面的一方是曲面；以及按压机构，夹着与面法线垂直的第1剖面，从两侧以预定的按压力按压光学元件。

【技术实现步骤摘要】
保持装置、曝光装置、物品制造方法
本专利技术涉及保持装置。
技术介绍
作为检查搭载于曝光装置的光学元件的光学性能的工序，可以举出：检查光学元件单体的光学性能的工序；检查组装有该光学元件的光学组件的光学性能的工序；以及检查搭载有该光学组件的曝光装置的光学性能的工序。而且，在上述各工序中，要求使光学元件的光学性能再现，特别是在各工序中，需要注意防止产生与由在保持装置保持光学元件时在光学面上发生的局部应力引起的形状变化相伴的光学性能的变化。日本特开2009-288571号公报公开一种保持光学元件的保持装置，设置有：光学元件托件，在包含重力方向分量的第1方向上承受光学元件；以及光学元件支件，向与重力方向及第1方向垂直的第2方向按压。在日本特开2009-288571号公报公开的保持装置中，能够通过在光学元件与光学元件托件之间发生的摩擦力以及由光学元件支件产生的按压力，在充分保持刚性的状态下保持光学元件。然而，在日本特开2009-288571号公报公开的保持装置中，每当在上述各工序中保持光学元件时的姿势发生变化时，由于在光学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种保持装置，以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式，保持该光学元件，其特征在于，具备：/n保持所述光学元件的台座及载置该台座的载置台，该台座及该载置台相互针对的接触面的一方是曲面；以及/n按压机构，夹着与所述面法线垂直的第1剖面，从两侧以预定的按压力按压所述光学元件。/n

【技术特征摘要】
20190627 JP 2019-1192511.一种保持装置，以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式，保持该光学元件，其特征在于，具备：
保持所述光学元件的台座及载置该台座的载置台，该台座及该载置台相互针对的接触面的一方是曲面；以及
按压机构，夹着与所述面法线垂直的第1剖面，从两侧以预定的按压力按压所述光学元件。


2.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述曲面是圆柱面。


3.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述台座的针对所述光学元件的接触面是平面。


4.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
具备定位部件，该定位部件用于决定所述光学元件的所述面法线的方向上的位置。


5.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述按压机构具有生成按压力的弹簧部件、和调整该弹簧部件的压缩量的调整部件。


6.根据权利要求5所述的保持装置，其特征在于，
所述按压机构具有方向变换机构，该方向变换机构变换由所述弹簧部件生成的按压力的方向。


7.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述保持装置将所述光学元件保持成使所述面法线与重力方向垂直。


8.根据权利要求1所述的保持装置，其特征在于，
所述载置台包括两个倾斜部，所述两个倾斜部相互夹着包括所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：中岛猛，羽切正人，辻穣，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP