【技术实现步骤摘要】
一种曝光装置、光刻设备及曝光方法
本专利技术涉及半导体加工设备
，尤其涉及一种曝光装置、光刻设备及曝光方法。
技术介绍
在半导体技术中，光刻设备主要用于集成电路IC或其他微型器件的制造，通过光刻设备，可将掩模版的图案转印到涂覆有光刻胶的物料上。物料通常固定在工件台上，工件台带动物料移动，按照预定的路线将物料送至曝光位置，完成光刻过程。为了保证物料在曝光位置的位置和姿态精度，通常需要对物料的位置和姿态进行检测，并根据检测结果对物料进行相应调整。现有的光刻设备中，物料经位置和姿态检测后，被传送至曝光工位。由于物料到达曝光位置还需要一段较长的行程，在此过程中，物料可能会出现位置和姿态的偏移，导致曝光精度降低。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种曝光装置、光刻设备及曝光方法，能够提高曝光精度。第一方面，本专利技术实施例提供了一种曝光装置，包括：曝光单元，用于对物料进行曝光；至少物料承载运动单元，所述物料承载运动单元用于承载物料；与所述至少一个物料承载运动单元一一...
【技术保护点】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：/n曝光单元，用于对物料进行曝光；/n至少一个物料承载运动单元，所述物料承载运动单元用于承载物料；/n与所述至少一个物料承载运动单元一一对应的至少一个物料传送单元，所述物料传送单元用于对所述物料承载运动单元进行上下物料操作；其中，所述物料承载运动单元可在物料传送单元的等待工位和曝光单元的曝光工位之间移动；/n第一定位检测单元，设置于所述等待工位，用于在所述物料承载运动单元位于所述等待工位时，检测物料的位姿；/n第二定位检测单元，设置于所述曝光工位，用于在所述物料承载运动单元位于所述曝光工位时，检测或校验物料的位姿；/n位姿调整单元，用于根...
【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：
曝光单元，用于对物料进行曝光；
至少一个物料承载运动单元，所述物料承载运动单元用于承载物料；
与所述至少一个物料承载运动单元一一对应的至少一个物料传送单元，所述物料传送单元用于对所述物料承载运动单元进行上下物料操作；其中，所述物料承载运动单元可在物料传送单元的等待工位和曝光单元的曝光工位之间移动；
第一定位检测单元，设置于所述等待工位，用于在所述物料承载运动单元位于所述等待工位时，检测物料的位姿；
第二定位检测单元，设置于所述曝光工位，用于在所述物料承载运动单元位于所述曝光工位时，检测或校验物料的位姿；
位姿调整单元，用于根据所述第一定位检测单元或所述第二定位检测单元的检测结果，调整物料的位置和姿态。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，包括两个所述物料承载运动单元和两个物料传送单元，分别为第一物料承载运动单元和第二物料承载运动单元，以及第一物料传送单元和第二物料传送单元；
所述第一物料承载运动单元可在第一物料传送单元的第一等待工位和曝光工位之间移动；
所述第二物料承载运动单元可在第二物料传送单元的第二等待工位和曝光工位之间移动。
3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，所述物料承载运动单元包括运动台和承载台，所述承载台设置于所述运动台上；
所述运动台用于带动所述承载台在所述等待工位和所述曝光工位之间移动；
所述承载台用于承载物料。
4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述承载台与所述运动台通过所述位姿调整单元连接，所述位姿调整单元用于驱动所述承载台以调整物料的位置和姿态。
5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一定位检测单元包括第一对准检测机构和第一调平检测机构；
所述第一对准检测机构用于检测所述物料上的对准标记，以确定所述物料的当前位置；
所述第一调平检测机构用于获取所述物料的平面信息，以确定所述物料的当前姿态。
6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，
所述第一对准检测机构包括第一摄像头；
所述第一调平检测机构包括多个第一激光传感器。
7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第二定位检测单元包括第二对准检测机构和第二调平检测机构；
所述第二对准检测机构用于检测或校验所述物料的位置；
所述第二调平检测机构用于检测或校验所述物料的姿态。
8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，
所述第二对准检测机构包括第二摄像头；
所述第二调平检测机构包括多个第二激光传感器。
9.根据权利要求1所述的曝光装置，...
【专利技术属性】
技术研发人员：周畅，朱岳彬，李莉，杨玉杰，彭水平，葛黎黎，沈逸豪，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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