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本发明公开一种曝光装置、光刻设备及曝光方法，曝光装置包括曝光单元、至少一个物料承载运动单元、与所述至少一个物料承载运动单元一一对应的至少一个物料传送单元、第一定位检测单元、第二定位检测单元、位姿调整单元。物料承载运动单元可在物料传送单元的等...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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