光刻设备及光刻设备的瞳面透过率的检测方法技术

本发明专利技术提供了一种光刻设备以及光刻设备的瞳面透过率的检测方法。根据具有子光束能量常数的相位掩模版，获取对应的子光束入射能量或者获取子光束的入射能量比值，并且在光刻设备中还集成有检测装置，以利用检测装置可以实现在线获取子光束的出射能量，进而可以得到瞳面透过率的检测结果。即，本发明专利技术中的光刻设备集成有瞳面透过率检测功能，从而可以在线执行检测过程，不仅其检测方式便利，并且可有效缩减检测时长。

【技术实现步骤摘要】
光刻设备及光刻设备的瞳面透过率的检测方法
本专利技术涉及影像传感器
，特别涉及一种光刻设备，以及光刻设备的瞳面透过率的检测方法。
技术介绍
随着投影光刻技术的发展，光刻设备的投影光学系统性能逐步提高，目前光刻设备已成功应用于亚微米和深亚微米分辨率的集成电路制造领域。以及，为适应集成电路制造相继突破45nm、32nm和22nm技术节点的工艺要求，光刻设备也必须提高其成像分辨率，而提高成像分辨率的方法之一就是增大光刻设备的物镜系统的数值孔径NA，然而，采用大数值孔径的物镜系统将导致光束对光刻结果的影响变得更为明显。尤其是，随着超高数值孔径的成像系统的应用工况增多，并且随着物镜其工作时间的增加，不同曝光场点的成像系统的瞳面透过率分布(PupilTransmittanceDistribution，PTD)会有不同，从而会导致远心、光瞳平衡性等指标恶化。因此，成像系统的瞳面透过率必须能够被检测。目前，针对光刻设备的瞳面透过率的检测中，通常是在将物镜系统集成到光刻设备的整机之前，利用偏振检测装置单独的在离线状态下执行检测过程。即，由于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻设备，其特征在于，包括：/n照明系统，用于提供光束；/n相位掩模版，用于将由所述照明系统发出的光束拆分为第一级子光束和第二级子光束，并根据所述相位掩模版获取由所述相位掩模版投射出的第一级子光束和第二级子光束的入射能量，或者获取由所述相位掩模版投射出的第二级子光束和第一级子光束的入射能量比值；/n物镜系统，用于将从所述相位掩模版投射出的所述第一级子光束和所述第二级子光束投射至光刻设备的运动台上；以及，/n检测装置，安装在所述运动台上，用于检测投射至所述运动台上的第一级子光束和第二级子光束的出射能量，以根据所述出射能量和所述入射能量得到所述物镜系统的瞳面透过率；或者，获取第二级子光束和...

【技术特征摘要】
1.一种光刻设备，其特征在于，包括：
照明系统，用于提供光束；
相位掩模版，用于将由所述照明系统发出的光束拆分为第一级子光束和第二级子光束，并根据所述相位掩模版获取由所述相位掩模版投射出的第一级子光束和第二级子光束的入射能量，或者获取由所述相位掩模版投射出的第二级子光束和第一级子光束的入射能量比值；
物镜系统，用于将从所述相位掩模版投射出的所述第一级子光束和所述第二级子光束投射至光刻设备的运动台上；以及，
检测装置，安装在所述运动台上，用于检测投射至所述运动台上的第一级子光束和第二级子光束的出射能量，以根据所述出射能量和所述入射能量得到所述物镜系统的瞳面透过率；或者，获取第二级子光束和第一级子光束的出射能量比值，并根据所述出射能量比值和所述入射能量比值得到瞳面透过率。


2.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，结合如下公式获取所述物镜系统的瞳面透过率：
T＝(E1’/E0’)/(E1/E0)；
其中，T为瞳面透过率；
E0为第一级子光束的入射能量；
E1为第二级子光束的入射能量；
E0’为第一级子光束的出射能量；
E1’为第二级子光束的出射能量。


3.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述相位掩模版上具有至少两种掩模图形，所述至少两种掩模图形依次偏转不同的角度，以使所述光束分别经过所述至少两种掩模图形时，投射出的第一级子光束和第二级光束相应的依次偏转不同的角度照射至所述瞳面上。


4.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述相位掩模版上具有至少两种掩模图形，所述至少两种掩模图形的光栅周期互不相同，以使所述光束分别经过所述至少两种掩模图形时，投射出的第一级子光束和第二级子光束的间距互不相同。


5.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，照射至所述相位掩模版上的入射光的入射角度可调整，以使所述入射光以不同的入射角度照射至所述相位掩模版。


6.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述检测装置设置在所述运动台中，并且所述检测装置的检测面低于所述运动台的台面。


7.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述检测装置为可移动安装在所述运动台中，用于依次检测照射至所述运动台上的第一级子光束和第二级子光束。


8.如权利要求1所述的光刻设备，其特征在于，所述检测装置包括：
支撑框架，所述支撑框架具有容纳腔体；
汇聚透镜，设置在所述支撑框架对应光入射面的腔体壁上；以及，
探测器，设置在所述支撑框架的所述容纳腔体内。


9.如权利要求8所述的光刻设备，其特征在于，在所述汇聚透镜的光入射面上涂覆有遮挡层，并由所述遮挡层在所述汇聚透镜的光入射面上围绕出一透光区。


10.一种光刻设备的瞳面透过率的检测方法，其特征在于，包括：
利用照明系统提供光束，并使所述光束经过相位掩模版拆分为第一级子光束和第二级子光束，并获取所述第一级子光束和所述第二级子光束的入射能量，或者获取所述第二级子光束和所述第一级子光束的入射能量比值；
使所述第一级子光束和所述第二级子光束穿过光刻设备的物镜系统，并投射至运动台；
利用安装在所述运动台上的检测装置检测所述第一级子光束和所述第二级子光束在穿过所述物镜系统之后的出射能量；以及，
根据所述入射能量和所述出射能量，得到...

【专利技术属性】
技术研发人员：田毅强，孙文凤，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31