亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术公开了亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质。该方法包括：向初始的版图上添加亚分辨率辅助图形，在已添加的多个亚分辨率辅助图形符合设定的条件下分别计算多个亚分辨率辅助图形的评价值以及基于多个亚分辨率辅助图形的评价值清理相应的亚分辨率辅助图形，否则继续添加亚分辨率辅助图形；最后输出版图。该装置可包括辅助图形添加模块、评价值计算模块、辅助图形清理模块及最终版图输出模块。本发明专利技术创新地在亚分辨率辅助图形的添加过程中进行冲突清理，可有效避免所有亚分辨率辅助图形添加完成后再进行冲突清理的工作量和复杂度，而且本发明专利技术还能够获得更大的光刻工艺窗口，进而明显地提高目标图形的光刻成像对比度。

【技术实现步骤摘要】
亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质
本专利技术涉及光刻分辨率增强
，更为具体地，本专利技术涉及一种亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质。
技术介绍
在光刻工艺中，与稀疏图形相比，密集图形的光刻工艺窗口会更大。可见稀疏图形会限制整体的光刻工艺窗口，为了解决该问题，在集成电路设计版图中的稀疏图形周围添加一些细小的图形，从而使稀疏图形在光学角度上看起来像密集图形、具有与密集图形类似的几何分布，进而可达到增强稀疏图形的成像对比度和提高整体的工艺窗口的目的。这些细小图形必须小于光刻机分辨率，因而曝光时这些细小图形对光线只起散射作用，而不会被转移到光刻胶上，这些细小图形一般被称之为亚分辨率辅助图形(SRAF，Sub-ResolutionAssistantFeature)或者散射条(ScatteringBar)；稀疏图形可以被称之为目标图形。亚分辨率辅助图形的放置需要遵循一定的规则，放在正确的位置，会提高目标图形的成像对比度；但如果放在错误的位置，例如亚分辨率辅助图形的散射光、衍射光与目标图形相反，则会削弱目标图形的成像对比度。在实际的大规模量产中，往往会基于制定的一系列规则放置亚分辨率辅助图形。制定规则的传统方式为基于模型的计算，然而随着工艺节点的不断缩小，目标图形的尺寸和周期也在不断地缩小，则对亚分辨率辅助图形的放置精度要求也越来越高，采用基于模型的计算方式过于消耗计算资源,其用时较长，难以真正应用到实际生产中；因而基于规则的亚分辨率辅助图形放置方案的应用越来越多，可是在该方式下放置亚分辨率辅助图形时经常发生辅助图形之间的冲突，制约了亚分辨率辅助图形放置精度。因此，亟需对基于规则的亚分辨率辅助图形放置方案进行改进和优化。
技术实现思路
为了解决现有基于规则的亚分辨率辅助图形放置方案存在的辅助图形之间的冲突及制约了亚分辨率辅助图形放置精度的问题，本专利技术提供一种亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质，可有效提高基于规则的亚分辨率辅助图形放置精度，并且能够明显减少冲突清理过程中的误差，以有效解决现有技术存在的至少一个问题。为实现上述技术目的，本专利技术一些实施例能够提供一种亚分辨率辅助图形添加方法，该亚分辨率辅助图形添加方法包括但不限于如下的步骤。向初始的版图上添加亚分辨率辅助图形。在已添加的多个亚分辨率辅助图形符合设定的条件下分别计算所述多个亚分辨率辅助图形的评价值，以及基于所述多个亚分辨率辅助图形的评价值清理相应的亚分辨率辅助图形。否则继续添加亚分辨率辅助图形。在所有位置的亚分辨率辅助图形添加完成后输出版图。进一步地，所述设定的条件包括：相邻的至少两个亚分辨率辅助图形存在交叠或亚分辨率辅助图形违反掩模制造规则。进一步地，还包括在初始的版图的目标图形边缘设置至少一个检测点的步骤，所述目标图形为待转移到晶圆上的图形。所述分别计算所述多个亚分辨率辅助图形的评价值的步骤包括：计算所述多个亚分辨率辅助图形分别在周围检测点处的光强对数斜率值，然后利用所述光强对数斜率值计算亚分辨率辅助图形的评价值。进一步地，利用所述光强对数斜率值计算亚分辨率辅助图形的评价值的步骤包括：统计待计算评价值的亚分辨率辅助图形在周围所有检测点处的光强对数斜率值。对所述周围所有检测点处的光强对数斜率值进行加权求和计算，从而得到该亚分辨率辅助图形的评价值。进一步地，所述清理相应的亚分辨率辅助图形的步骤包括：选择所述多个亚分辨率辅助图形中具有最小评价值的亚分辨率辅助图形。对所述具有最小评价值的亚分辨率辅助图形进行移动操作或者缩小面积操作或者清除操作。进一步地，所述在初始的版图的目标图形边缘设置至少一个检测点的步骤包括：获取目标图形的拐点位置坐标。选择检测点的位置，以使检测点位置坐标与拐点位置坐标之间的距离大于第一预设距离。进一步地，所述在初始的版图的目标图形边缘设置至少一个检测点的步骤包括：获取目标图形的端点位置坐标。选择检测点的位置，以使检测点位置坐标与端点位置坐标之间的距离大于第二预设距离。进一步地，添加亚分辨率辅助图形的步骤包括：读取规则列表。按照规则列表中内容对亚分辨率辅助图形进行添加。其中，所述规则列表中内容包括待添加的亚分辨率辅助图形几何信息、位置信息及适用条件信息。为实现上述技术目的，本专利技术另一些实施例还能够提供一种亚分辨率辅助图形添加装置，该亚分辨率辅助图形添加装置可以包括但不限于辅助图形添加模块、评价值计算模块、辅助图形清理模块及最终版图输出模块。辅助图形添加模块，用于向初始的版图上添加亚分辨率辅助图形以及用于在已添加的多个亚分辨率辅助图形不符合设定的条件下继续添加亚分辨率辅助图形。评价值计算模块，用于在已添加的多个亚分辨率辅助图形符合设定的条件下分别计算所述多个亚分辨率辅助图形的评价值。辅助图形清理模块，用于基于所述多个亚分辨率辅助图形的评价值清理相应的亚分辨率辅助图形。最终版图输出模块，用于在所有位置的亚分辨率辅助图形添加完成后输出版图。为实现上述的技术目的，本专利技术的一个或多个实施例还能够提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机可读指令，所述计算机可读指令被一个或多个处理器执行时，使得一个或多个处理器执行如本专利技术任一个或多个实施例中所述的亚分辨率辅助图形添加方法的步骤。本专利技术的有益效果为：本专利技术创新地在亚分辨率辅助图形添加过程中对亚分辨率辅助图形进行冲突清理，该方式不仅能够有效地避免所有亚分辨率辅助图形添加完成后再进行冲突清理的工作量和复杂度，而且本专利技术还能够使目标图形获得更大的光刻工艺窗口，进而明显地提高目标图形的光刻成像对比度。本专利技术在有效清理至少两个亚分辨率辅助图形之间存在的冲突的前提下，完全能够保证清理后留下的亚分辨率辅助图形具有增强目标图形成像对比度的作用；所以本专利技术明显提高了基于规则的亚分辨率辅助图形的放置精度，而且能够极大减少冲突清理过程中的误差，可靠性较好。本专利技术创新地采用了目标图形检测点的光强对数斜率计算亚分辨率辅助图形的评价值，从而能够更加准确、客观地判断亚分辨率辅助图形对周围目标图形的影响，进而保证放置精度和提高目标图形的成像对比度。附图说明图1示出了本专利技术一些实施例中一种亚分辨率辅助图形添加方法的流程示意图。图2示出了本专利技术一些实施例中目标图形和添加的未清理的亚分辨率辅助图形的分布示意图。图3示出了本专利技术一些实施例中对图2中的亚分辨率辅助图形进行清理后的目标图形和亚分辨率辅助图形的分布示意图。具体实施方式下面结合说明书附图对本专利技术所提供的一种亚分辨率辅助图形添加方法及装置、计算机可读存储介质进行详细的解释和说明。如图1所示，本专利技术一些实施例能够提供一种根据评价值添加并进行冲突清理的亚分辨率辅助图形添加方法，该亚分辨率辅助图形添加方法可包括但不限于如下的步骤。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种亚分辨率辅助图形添加方法，其特征在于，包括：/n向初始的版图上添加亚分辨率辅助图形；/n在已添加的多个亚分辨率辅助图形符合设定的条件下分别计算所述多个亚分辨率辅助图形的评价值，以及基于所述多个亚分辨率辅助图形的评价值清理相应的亚分辨率辅助图形；否则继续添加亚分辨率辅助图形；/n在所有位置的亚分辨率辅助图形添加完成后输出版图。/n

【技术特征摘要】
1.一种亚分辨率辅助图形添加方法，其特征在于，包括：
向初始的版图上添加亚分辨率辅助图形；
在已添加的多个亚分辨率辅助图形符合设定的条件下分别计算所述多个亚分辨率辅助图形的评价值，以及基于所述多个亚分辨率辅助图形的评价值清理相应的亚分辨率辅助图形；否则继续添加亚分辨率辅助图形；
在所有位置的亚分辨率辅助图形添加完成后输出版图。


2.根据权利要求1所述的亚分辨率辅助图形添加方法，其特征在于，
所述设定的条件包括：相邻的至少两个亚分辨率辅助图形存在交叠或亚分辨率辅助图形违反掩模制造规则。


3.根据权利要求1或2所述的亚分辨率辅助图形添加方法，其特征在于，还包括在初始的版图的目标图形边缘设置至少一个检测点的步骤，所述目标图形为待转移到晶圆上的图形；
所述分别计算所述多个亚分辨率辅助图形的评价值的步骤包括：计算所述多个亚分辨率辅助图形分别在周围检测点处的光强对数斜率值，然后利用所述光强对数斜率值计算亚分辨率辅助图形的评价值。


4.根据权利要求3所述的亚分辨率辅助图形添加方法，其特征在于，利用所述光强对数斜率值计算亚分辨率辅助图形的评价值的步骤包括：
统计待计算评价值的亚分辨率辅助图形在周围所有检测点处的光强对数斜率值；
对所述周围所有检测点处的光强对数斜率值进行加权求和计算，从而得到该亚分辨率辅助图形的评价值。


5.根据权利要求1或4所述的亚分辨率辅助图形添加方法，其特征在于，所述清理相应的亚分辨率辅助图形的步骤包括：
选择所述多个亚分辨率辅助图形中具有最小评价值的亚分辨率辅助图形；
对所述具有最小评价值的亚分辨率辅助图形进行移动操作或者缩小面积操作或者清除操作。

【专利技术属性】
技术研发人员：高澎铮，韦亚一，张利斌，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11