一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质制造方法及图纸

技术编号:26760832 阅读:60 留言:0更新日期:2020-12-18 22:51
本发明专利技术实施例公开了一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质,其中光刻设备的控制方法包括:位于曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时,运动台的匀速速度为第一速度,控制另一运动台在非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度,第一预设速度小于第一速度,使得导轨的振动较小,进而保证在曝光区进行曝光工序的运动台受到的扰动尽可能小,使两个运动台之间的串扰尽可能被消除,保证运动台的曝光精度。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质
本专利技术实施例涉及光刻
,尤其涉及一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质。
技术介绍
随着光刻技术的发展,大世代双运动台的光刻机得到越来越广泛的应用。大世代的光刻机可用于尺寸较大的基板的曝光,但是基板尺寸较大造成运动台承载基板运动时惯性较大,运动台运动时也会带来光刻机设备的振动,使得两个运动台已发生串扰,影响曝光精度。
技术实现思路
本专利技术提供一种光刻设备及其控制方法、装置和存储介质,以实现降低光刻机两个运动台之间的串扰,提高曝光精度。第一方面,本专利技术实施例提供了一种光刻设备的控制方法,光刻设备包括两运动台,运动台的工作区包括曝光区和非曝光区;光刻设备的控制方法包括:位于曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时,运动台的匀速速度为第一速度,控制另一运动台在非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度,第一预设速度小于第一速度。其中,第一预设速度等于0。其中,位于曝光区的一运动台在曝光工序匀速运动,包括:在曝光工序,控制运动台在同一曝光场内匀速运动;在曝光工序,还包括:控制运动台在不同曝光场之间加速或减速运动。其中,光刻设备的控制方法还包括:位于曝光区的一运动台在曝光工序中加速或减速运动时,控制另一运动台从非曝光区向曝光区运动以进行物料对准,且另一运动台从非曝光区向曝光区运动的速度大于第一预设速度。其中,在曝光区进行的工序包括掩模对准工序和曝光工序,在非曝光区进行的工序包括运动台归位工序、交接物料工序、预对准工序、物料对准工序;光刻设备的控制方法包括:控制运动台在曝光区进行曝光工序之前,控制运动台运动至曝光区进行掩模对准工序。其中,控制运动台运动至曝光区进行掩模对准工序包括:控制一运动台进行掩模对准工序,控制另一运动台依次进行运动台归位工序、交接物料工序和预对准工序。其中,控制运动台在曝光区进行曝光工序,包括:控制一运动台进行曝光工序,控制另一运动台进行物料对准工序。其中,一运动台在曝光区进行曝光工序的时间等于另一运动台在非曝光区进行物料对准工序的时间。其中,控制一运动台进行曝光工序,控制另一运动台进行物料对准工序,包括:一运动台的曝光工序和另一运动台的物料对准工序同时完成时,控制完成物料对准工序的运动台处于曝光区和非曝光区的交界处。其中,在控制运动台运动至曝光区进行掩模对准工序之前,还包括初始化工序,初始化工序包括:控制物料传输装置对两运动台进行上料;控制上料预对准装置对两运动台进行预对准;控制物料对准装置对两运动台进行物料对准;控制两运动台之中的任一运动台运动至曝光区。第二方面,本专利技术实施例还提供了一种光刻设备的控制装置,光刻设备包括两运动台,运动台的工作区包括曝光区和非曝光区;光刻设备的控制装置包括:控制模块,控制模块用于位于曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时,运动台的匀速速度为第一速度,控制另一运动台在非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度,第一预设速度小于第一速度。其中,第一预设速度等于0。第三方面,本专利技术实施例还提供了一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,该程序被处理器执行时实现第一方面提供的光刻设备的控制方法。第四方面,本专利技术实施例还提供了一种光刻设备,包括第二方面提供的光刻设备的控制装置,还包括两运动台,运动台的工作区包括曝光区和非曝光区。本专利技术实施例提供的光刻设备及其控制方法、装置和存储介质,通过在位于曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时,运动台的匀速速度为第一速度,控制另一运动台在非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度,第一预设速度小于第一速度,使得导轨的振动较小,进而保证在曝光区进行曝光工序的运动台受到的扰动尽可能小,使两个运动台之间的串扰尽可能被消除,保证运动台的曝光精度。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种光刻设备的控制方法的流程图;图2是本专利技术实施例提供的另一种光刻设备的控制方法的流程图;图3是本专利技术实施例提供的另一种光刻设备的控制方法的流程图;图4是本专利技术实施例提供的另一种光刻设备的控制方法的流程图;图5是本专利技术实施例提供的另一种光刻设备的控制方法的流程图;图6是本专利技术实施例提供的一种光刻设备的控制方法中两个运动台进行各个工序的对应情况;图7是本专利技术实施例提供的另一种光刻设备的控制方法的流程图;图8是本专利技术实施例提供的另一种光刻设备的控制方法的流程图;图9是本专利技术实施例提供的一种光刻设备的示意图;图10是本专利技术实施例提供的另一种光刻设备的控制方法中两个运动台进行各个工序的对应情况;图11是本专利技术实施例提供的一种控制装置的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术,而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。为提高光刻设备的整机产率,具备双运动台的光刻设备应用越来越广泛。然而对于大世代(例如6代,8.5代)双运动台光刻机,运动台的尺寸较大,且两个运动台在同一导轨上运动。而现有对双运动台光刻机的控制方法中,通常一个运动台在曝光区进行曝光时,另一运动台在非曝光区高速进行基板对准,给正在进行曝光的运动台带来很大扰动,最终影响曝光精度。图1为本专利技术实施例提供的一种光刻设备的控制方法的流程图,本实施例可适用于对具备双运动台的光刻设备进行控制的情况,该方法可以由光刻设备的控制装置来执行,光刻设备的控制装置可以通过软件和/或硬件来实现,光刻设备包括两运动台,运动台的工作区包括曝光区和非曝光区;光刻设备的控制方法包括:步骤110、位于曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时,运动台的匀速速度为第一速度,控制另一运动台在非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度,第一预设速度小于第一速度。具体的,光刻设备的运动台可用于承载物料在曝光区和非曝光区运动,以辅助进行对物料的曝光。曝光工序的精度要求很高,尤其是运动台在曝光工序中匀速运动进行曝光时,对精度要求极高。因此,当一运动台位于曝光区,并在曝光工序中匀速运动时,光刻设备中承载运动台的导轨最好不发生振动,以保证进行曝光工序的运动台的曝光精度。一运动台在曝光区匀速运动的第一速度可以不只表示某一固定速度,因对不同物料进行曝光时的曝光要求可能不同,或者对相同物料不同位置的曝光要求也可能不同,使得匀速运动的速度也可能不同,因此本专利技术实施例中第一速度的大小可以不限定为一个具体的速度大小,可以泛指多个速度值。为了尽可能减小两个运动台之间的串扰,提高曝光精度,本专利技术实施例的方案中,在位于曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时,控制另一运动台在非曝光区运动的速度小于或等于第一预设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻设备的控制方法,其特征在于,所述光刻设备包括两运动台,所述运动台的工作区包括曝光区和非曝光区;所述光刻设备的控制方法包括:/n位于所述曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时,所述运动台的匀速速度为第一速度,控制另一运动台在所述非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度,所述第一预设速度小于所述第一速度。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻设备的控制方法,其特征在于,所述光刻设备包括两运动台,所述运动台的工作区包括曝光区和非曝光区;所述光刻设备的控制方法包括:
位于所述曝光区的一运动台在曝光工序中匀速运动时,所述运动台的匀速速度为第一速度,控制另一运动台在所述非曝光区运动的速度小于或等于第一预设速度,所述第一预设速度小于所述第一速度。


2.根据权利要求1所述的光刻设备的控制方法,其特征在于,所述第一预设速度等于0。


3.根据权利要求1所述的光刻设备的控制方法,其特征在于,所述位于所述曝光区的一运动台在曝光工序匀速运动,包括:
在曝光工序,控制所述运动台在同一曝光场内匀速运动;
在曝光工序,还包括:
控制所述运动台在不同曝光场之间加速或减速运动。


4.根据权利要求3所述的光刻设备的控制方法,其特征在于,所述光刻设备的控制方法还包括:
位于所述曝光区的一运动台在曝光工序中加速或减速运动时,控制另一运动台从所述非曝光区向所述曝光区运动以进行物料对准,且另一运动台从所述非曝光区向所述曝光区运动的速度大于所述第一预设速度。


5.根据权利要求1所述的光刻设备的控制方法,其特征在于,在所述曝光区进行的工序包括掩模对准工序和曝光工序,在所述非曝光区进行的工序包括运动台归位工序、交接物料工序、预对准工序、物料对准工序;
所述光刻设备的控制方法包括:
控制所述运动台在所述曝光区进行曝光工序之前,控制所述运动台运动至所述曝光区进行所述掩模对准工序。


6.根据权利要求5所述的光刻设备的控制方法,其特征在于,所述控制所述运动台运动至所述曝光区进行所述掩模对准工序包括:
控制一所述运动台进行掩模对准工序,控制另一所述运动台依次进行运动台归位工序、交接物料工序和预对准工序。


7.根据权利要求5所述的光刻设备的控制方法,其特征在于,控制所述运动台在所述曝光区进行曝光工序,包括:
控...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔佳明朱岳彬廖飞红
申请(专利权)人:上海微电子装备集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

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