一种基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置及方法制造方法及图纸

技术编号:26729903 阅读:29 留言:0更新日期:2020-12-15 14:29
本发明专利技术涉及无掩膜光学制造技术领域,具体是一种基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置及方法,所述基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置包括:LED阵列,其包括驱动器和发光二极管,多个所述发光二极管阵列形成LED阵列,所述驱动器分别控制每个发光二极管;光学组件,其使LED阵列的出射光聚焦于成像面,实现对成像面上感光材料表面的曝光,并形成图像。本发明专利技术的有益效果是:一个LED阵列共用一个光学组件,具有更高的投影像素密度,更均匀的图像质量,以及极低的像素成本;LED阵列具有自发光特性,无需外部光源,并消除了反射部件,因此光路简单,光能量利用率更高。

【技术实现步骤摘要】
一种基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置及方法
本专利技术涉及无掩膜光学制造
,具体是一种基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置及方法。
技术介绍
在丝网印刷网版制造、PCB(印制电路板)无掩模制造、LCD(液晶显示器)无掩模光刻以及半导体无掩模光刻领域,主流的光制造方法仍是传统掩模复制及光学蚀刻技术。该技术的缺点在于掩模和曝光设备及维护成本高,掩模的生产周期长、效率低。无掩膜光学制造是较为前沿的技术概念,其目的是缩短工艺流程,提高效率、降低成本。现时主要的无掩膜光学制造方法有:激光直接扫描成像技术、DMD(数字微镜器件)数字掩模扫描成像技术。激光直接扫描成像技术中用带有独立聚焦透镜激光组成激光线阵,像素成本高;DMD数字掩模技术中微反光镜阵列,需外部光源、反射部件,且采用机械摆动调节相位差,造成光路复杂,光能量利用率较低,曝光速度、效率不高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置及方法,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置,其特征在于,包括:/nLED阵列,其包括驱动器和发光二极管,多个所述发光二极管阵列形成LED阵列,所述驱动器分别控制每个发光二极管;/n光学组件,其使LED阵列的出射光聚焦于成像面,实现对成像面上感光材料表面的曝光,并形成图像。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置,其特征在于,包括:
LED阵列,其包括驱动器和发光二极管,多个所述发光二极管阵列形成LED阵列,所述驱动器分别控制每个发光二极管;
光学组件,其使LED阵列的出射光聚焦于成像面,实现对成像面上感光材料表面的曝光,并形成图像。


2.根据权利要求1所述的基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置,其特征在于,所述光学组件包括成像镜头和光学镜筒,所述LED阵列和成像镜头分别设置在光学镜筒的两端。


3.根据权利要求1所述的基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置,其特征在于,还包括导轨组件,一个或多个所述光学组件安装在导轨组件上,所述导轨组件带动光学组件在多个方向上运动。


4.根据权利要求3所述的基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置,其特征在于,所述导轨组件包括第一导向件和第二导向件,所述光学组件安装在第一导向件上,所述第一导向件安装在第二导向件上。


5.根据权利要求4所述的基于LED阵列的数字投影无掩模曝光装置,其特征在于,所述第一导向件包括滑板和导轨,所述滑板带动光学组件在导轨上...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈乃奇
申请(专利权)人:深圳市先地图像科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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