隔振系统和光刻设备技术方案

本发明专利技术提供了一种隔振系统(IS)，其包括承载有效载荷的活塞(402)、连接构件(410)、弹簧(404)和柔性构件(408)。弹簧被布置成沿一方向以正刚度支撑活塞。柔性构件被布置成经由连接构件沿所述方向以负刚度向活塞施加力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】隔振系统和光刻设备相关申请的交叉引用本申请要求2018年5月8日提交的欧洲专利申请18171249.8的优先权，该欧洲专利申请的全部内容通过引用并入本文中。
本专利技术涉及一种隔振系统和包括该隔振系统的光刻设备。
技术介绍
光刻设备是一种被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如，掩模)的图案(通常也称为“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。随着半导体制造工艺的不断发展，电路元件的尺寸不断减小，而每个器件的功能元件(例如晶体管)的数量已经稳定地增加了数十年，遵循通常被称为“摩尔定律”的趋势。为了跟上摩尔定律，半导体行业正在寻求能够创建越来越小的特征的技术。为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了被图案化在衬底上的特征的最小尺寸。当前使用的典型波长为365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm-本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种隔振系统(IS)，包括：/n活塞(402)，所述活塞(402)被布置成承载有效载荷；/n连接构件(410)；/n气体弹簧，所述气体弹簧被布置成沿一方向以正刚度支撑所述活塞(402)；/n柔性构件(408)，所述柔性构件(408)被布置成经由所述连接构件(410)沿所述方向以负刚度向所述活塞(402)施加力；/n其中，所述柔性构件(408)包括以第三屈曲模式进行屈曲的弹簧片(508)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180508 EP 18171249.81.一种隔振系统(IS)，包括：
活塞(402)，所述活塞(402)被布置成承载有效载荷；
连接构件(410)；
气体弹簧，所述气体弹簧被布置成沿一方向以正刚度支撑所述活塞(402)；
柔性构件(408)，所述柔性构件(408)被布置成经由所述连接构件(410)沿所述方向以负刚度向所述活塞(402)施加力；
其中，所述柔性构件(408)包括以第三屈曲模式进行屈曲的弹簧片(508)。


2.根据权利要求1所述的隔振系统(IS)，其中，所述连接构件(410)在所述弹簧片(508)的中心部分(C)连接到所述弹簧片(508)。


3.根据权利要求2所述的隔振系统(IS)，包括被布置成支撑所述弹簧片(508)的力框架(602)，其中所述力框架(602)包括多个夹持构件(802)，其中相比于远离所述弹簧片(508)的所述中心部分(C)的夹持构件(802)，更靠近所述弹簧片(508)的所述中心部分(C)的夹持构件(802)的柔性更大。


4.根据前述权利要求中任一项所述的隔振系统(IS)，其中，所述弹簧片(508)具有垂直于所述方向的主表面。


5.根据前述权利要求中任一项所述的隔振系统(IS)，其中，所述力被引导为沿着所述方向远离标称位置，在所述标称位置处所述力为零。


6.根据权利要求5所述的隔振系统(IS)，其中，所述弹簧片(508)在所述标称位置处被压缩。


7.根据权利要求5或6所述的隔振系统(IS)，其中，所述活塞(402)、所述标称位置和所述中心部分(C)沿着所述方向布置，其中，在所述隔振系统(IS)的操作使用期间，所述标称位置被保持在所述活塞(402)和所述中心部分(C)之间。


8.根据权利要求7所述的隔振系统(IS)，其中，所述连接构件(410)是支柱。


9.根据前述权利要求中任一项所述的隔振系统(IS)，其中，所述连接构件(410)设置有弹性铰接件。


10.根据前述权利要求中任一项所述的隔振系统(IS)，包括设置在所述弹簧片(508)上的阻尼材料。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·H·E·M·雅各布斯，C·A·L·德胡恩，J·P·斯特瑞弗德，J·P·M·B·沃缪伦，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL