隔振系统和光刻设备技术方案

本发明专利技术提供了一种隔振系统(IS)，其包括承载有效载荷的活塞(402)、连接构件(410)、弹簧(404)和柔性构件(408)。弹簧被布置成沿一方向以正刚度支撑活塞。柔性构件被布置成经由连接构件沿所述方向以负刚度向活塞施加力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】隔振系统和光刻设备相关申请的交叉引用本申请要求2018年5月8日提交的欧洲专利申请18171249.8的优先权，该欧洲专利申请的全部内容通过引用并入本文中。
本专利技术涉及一种隔振系统和包括该隔振系统的光刻设备。
技术介绍
光刻设备是一种被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如，掩模)的图案(通常也称为“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。随着半导体制造工艺的不断发展，电路元件的尺寸不断减小，而每个器件的功能元件(例如晶体管)的数量已经稳定地增加了数十年，遵循通常被称为“摩尔定律”的趋势。为了跟上摩尔定律，半导体行业正在寻求能够创建越来越小的特征的技术。为了在衬底上投影图案，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了被图案化在衬底上的特征的最小尺寸。当前使用的典型波长为365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用具有在4nm-20nm(例如6.7nm或13.5nm)范围内的波长的极紫外(EUV)辐射的光刻设备可用于在衬底上形成更小的特征。为了防止振动传播到光刻设备的敏感部分，这些敏感部分由隔振系统支撑。振动可以源自光刻设备的周围环境，或者可以由光刻设备内部的部分引起。敏感部分可以是光学部件或测量装置。当振动能够传播到这些敏感部分时，这些敏感部分的性能可能会下降。例如，振动可能会引起测量装置的测量误差。通过将敏感部分支撑在隔振系统上，减少了到达敏感部分的振动量。然而，已知的隔振系统仍会将一些振动传播到敏感部分，这限制了敏感部分的性能。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种改进的隔振系统。该目的通过提供包括以下特征的隔振系统来实现：活塞，该活塞被布置成承载有效载荷；连接构件；气体弹簧，该气体弹簧被布置成沿一方向以正刚度支撑活塞；柔性构件，该柔性构件被布置成经由连接构件沿所述方向以负刚度向活塞施加力；其中，柔性构件包括以第三屈曲(buckling)模式进行屈曲的弹簧片。附图说明现将参照示意性附图仅以示例性的方式描述本专利技术的实施例，在附图中：-图1描绘了光刻设备的示意图；-图2描绘了图1的光刻设备的一部分的详细视图；-图3示意性地描绘了位置控制系统；-图4描绘了根据本专利技术实施例的隔振系统；-图5描绘了在隔振系统中使用的弹簧片；-图6描绘了根据本专利技术的另一实施例的隔振系统的一部分的俯视图；-图7描绘了图6的一部分的截面图；-图8描绘了根据本专利技术的又一实施例的隔振系统的一部分的详细视图；-图9描绘了根据本专利技术的另一实施例的隔振系统；-图10描绘了根据本专利技术的又一实施例的隔振系统。具体实施方式在本文中，术语“辐射”和“束”用于涵盖所有类型的电磁辐射，包括紫外辐射(例如具有365nm、248nm、193nm、157nm或126nm的波长)和EUV(极紫外辐射，例如具有在约5nm至约100nm的范围内的波长)。本文中所使用的术语“掩模版”、“掩模”或“图案形成装置”可以广义地解释为是指一种通用图案形成装置，其可用于向入射辐射束赋予图案化的横截面，该图案化的横截面对应于将在衬底的目标部分中创建的图案。在这种情况下，也可以使用术语“光阀”。除了经典的掩模(透射式或反射式；二元式、相移式、混合式等)之外，其他此类图案形成装置的示例还包括可编程反射镜阵列和可编程LCD阵列。图1示意性地描绘了光刻设备LA。该光刻设备LA包括：照射系统(也被称为照射器)IL，该照射系统被配置成调节辐射束B(例如UV辐射、DUV辐射或EUV辐射)；掩模支撑件(例如掩模台)MT，该掩模支撑件被构造成支撑图案形成装置(例如掩模)MA并且连接到第一定位器PM，该第一定位器PM被配置成根据特定参数来准确地定位图案形成装置MA；衬底支撑件(例如晶片台)WT，该衬底支撑件被构造成保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W并且连接到第二定位器PW，该第二定位器PW被配置成根据特定参数来准确地定位衬底支撑件；以及投影系统(例如折射型投影透镜系统)PS，该投影系统被配置成将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的(例如包括一个或更多个管芯的)目标部分C上。在操作中，照射系统IL例如经由束传递系统BD接收来自辐射源SO的辐射束。照射系统IL可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型和/或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、和/或控制辐射。照射器IL可以用于调节辐射束B以使其在图案形成装置MA的平面处的横截面中具有期望的空间和角度强度分布。此处使用的术语“投影系统”PS应该被广义地理解为涵盖适合于所使用的曝光辐射或者其他因素(诸如使用浸没液体或使用真空)的各种类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、畸变型(anamorphic)、磁性型、电磁型和/或静电型光学系统，或其任意组合。本文中对术语“投影透镜”的任何使用可以被认为与更上位的术语“投影系统”PS同义。光刻设备LA可以为如下类型：其中衬底的至少一部分可以被具有相对高折射率的液体(例如，水)覆盖，以便填充投影系统PS与衬底W之间的空间-这也被称为浸没式光刻。关于浸没技术的更多信息在US6952253中给出，其通过引用并入本文中。光刻设备LA也可以是具有两个或更多个衬底支撑件WT的类型(也称为“双平台”)。在这样的“多平台”机器中，可以并行地使用衬底支撑件WT，和/或可以在位于衬底支撑件WT中的一个上的衬底W上执行衬底W的随后曝光的准备步骤，同时另一衬底支撑件WT上的另一衬底W用于在该另一衬底W上曝光图案。除了衬底支撑件WT之外，光刻设备LA可以包括测量台。测量台被布置成保持传感器和/或清洁装置。传感器可以被布置成测量投影系统PS的属性或辐射束B的属性。测量台可以保持多个传感器。清洁装置可以被布置为清洁光刻设备的部分，例如投影系统PS的一部分或提供浸没液体的系统的一部分。当衬底支撑件WT远离投影系统PS时，测量台可以在投影系统PS下方移动。在操作中，辐射束B入射在被保持在掩模支撑件MT上的图案形成装置(例如，掩模)MA上，并且通过存在于图案形成装置MA上的图案(设计布局)被图案化。在已横穿图案形成装置MA之后，辐射束B通过投影系统PS，该投影系统PS将所述束聚焦到衬底W的目标部分C上。借助于第二定位器PW及位置测量装置IF，可以准确地移动衬底支撑件WT，以便例如在辐射束B的路径中将不同目标部分C定位在聚焦或对准位置处。类似地，第一定位器PM及可能的另一位置传感器(其未在图1中被明确地示出)可以用于相对于辐射束B的路径来准确地定位图案形成装置MA。可以使用掩模对准标记M1、M2及衬底对准标记P1、P2来对准图案形成装置MA及衬底W。尽管如图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种隔振系统(IS)，包括：/n活塞(402)，所述活塞(402)被布置成承载有效载荷；/n连接构件(410)；/n气体弹簧，所述气体弹簧被布置成沿一方向以正刚度支撑所述活塞(402)；/n柔性构件(408)，所述柔性构件(408)被布置成经由所述连接构件(410)沿所述方向以负刚度向所述活塞(402)施加力；/n其中，所述柔性构件(408)包括以第三屈曲模式进行屈曲的弹簧片(508)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180508 EP 18171249.81.一种隔振系统(IS)，包括：
活塞(402)，所述活塞(402)被布置成承载有效载荷；
连接构件(410)；
气体弹簧，所述气体弹簧被布置成沿一方向以正刚度支撑所述活塞(402)；
柔性构件(408)，所述柔性构件(408)被布置成经由所述连接构件(410)沿所述方向以负刚度向所述活塞(402)施加力；
其中，所述柔性构件(408)包括以第三屈曲模式进行屈曲的弹簧片(508)。


2.根据权利要求1所述的隔振系统(IS)，其中，所述连接构件(410)在所述弹簧片(508)的中心部分(C)连接到所述弹簧片(508)。


3.根据权利要求2所述的隔振系统(IS)，包括被布置成支撑所述弹簧片(508)的力框架(602)，其中所述力框架(602)包括多个夹持构件(802)，其中相比于远离所述弹簧片(508)的所述中心部分(C)的夹持构件(802)，更靠近所述弹簧片(508)的所述中心部分(C)的夹持构件(802)的柔性更大。


4.根据前述权利要求中任一项所述的隔振系统(IS)，其中，所述弹簧片(508)具有垂直于所述方向的主表面。


5.根据前述权利要求中任一项所述的隔振系统(IS)，其中，所述力被引导为沿着所述方向远离标称位置，在所述标称位置处所述力为零。


6.根据权利要求5所述的隔振系统(IS)，其中，所述弹簧片(508)在所述标称位置处被压缩。


7.根据权利要求5或6所述的隔振系统(IS)，其中，所述活塞(402)、所述标称位置和所述中心部分(C)沿着所述方向布置，其中，在所述隔振系统(IS)的操作使用期间，所述标称位置被保持在所述活塞(402)和所述中心部分(C)之间。


8.根据权利要求7所述的隔振系统(IS)，其中，所述连接构件(410)是支柱。


9.根据前述权利要求中任一项所述的隔振系统(IS)，其中，所述连接构件(410)设置有弹性铰接件。


10.根据前述权利要求中任一项所述的隔振系统(IS)，包括设置在所述弹簧片(508)上的阻尼材料。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·H·E·M·雅各布斯，C·A·L·德胡恩，J·P·斯特瑞弗德，J·P·M·B·沃缪伦，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL