光学滤波器和光学滤波器的制造方法技术

技术编号:2669597 阅读:126 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的光学滤波器的制造方法使用研磨机对基体的两个主面进行研磨加工。如果研磨加工基体的两个主面,则使用蒸镀法在基体的一个主面上蒸镀形成第一侧膜。另外,在膜的蒸镀形成时,对一个主面施加应力,与一个主面相对的端边向其他主面侧的方向形变。在第一膜形成步骤之后,根据因在一个主面上形成第一侧膜而造成的形变量,来设置向其他主面蒸镀应力修正膜的蒸镀量,将应力修正膜的厚度设置为与单层膜的厚度相当。另外,使用蒸镀法向其他主面蒸镀形成应力修正膜,修正因向一个主面形成第一侧膜造成的形变,来制造光学滤波器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及,特别涉及抑制了基体的形变的。
技术介绍
现在,在摄像设备等电子设备中,使用在水晶等基体的主面上利用离子辅助等的蒸镀法形成薄膜而得到规定的光学特性的透光型的光学滤波器。在该基体的主面上形成薄膜时,由于向基体蒸镀薄膜而产生应力。因此,基体向蒸镀方向产生形变。由于该形变,光学特性变化,难以得到规定的光学特性。因此,在现有技术中,有对因向基体蒸镀薄膜而产生的形变进行修正的技术(例如参照专利文献1)。在下述的专利文献1所记载的滤波器中,构成为在向表面蒸镀了多层膜的基体的背面上重复地层叠具有与该基体大致相等的折射率的对称构造的等价折射膜单元,并设置为与多层膜大致相等的厚度。根据该滤波器,能够不损失滤波器的分光特性地除去形变。专利文献1专利3034668号公报但是,根据上述专利文献1所记载的滤波器,为了修正基体的形变,而形成与形成在表面上的多层膜等厚的等价折射膜单元。但是,如果在基体上层叠该等价折射膜单元,则透光率与其厚度成正比地下降。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术的目的在于提供一种在抑制透光率的降低的同时,修正在向基体形成薄膜时产生的基体的形变的。为了达到上述目的,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学滤波器,在贯通基体的两个主面的方向上使光透过,其特征在于:在上述基体的上述其他主面上,形成修正因在上述一个主面上形成第一侧膜而产生的对上述基体的应力的应力修正膜,使上述基体弯曲,在上述基体的弯曲后,除去上述应力修正膜 ,同时在上述一个主面上形成第一侧膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:龟田英一
申请(专利权)人:株式会社大真空
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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